专利名称：真空磁控镀膜室中的遮挡装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及到一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置。
背景技术：
传统的磁控镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃进行镀膜时， 阴极溅射下的杂质到处飞溅，当溅到镀膜玻璃上时，影响了镀膜的质量，导致 整块玻璃不合格，既浪费了材料又浪费了人工。当腔室长期处于镀膜状态下时， 腔室温度变得过高，影响了镀膜的质量，降低了腔室的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是将提供一种能够有效阻挡阴极溅射下 的杂质、保证镀膜质量的真空磁控镀膜室中的遮挡装置。
为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是真空磁控镀膜室中的遮 挡装置，包括腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，在阴 极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折 边。
在玻璃输送辊道的两侧还分别设置有冷却挡板。
本实用新型的优点是通过采用冷却挡板后，能够有效阻挡阴极溅射的杂 质，减少杂质飞溅，提高了腔室的使用寿命。
图1是本实用新型所述的真空磁控镀膜室中的遮挡装置的结构示意图； 图2是图1中A-A剖视图。
图中1、玻璃输送辊道，2、阴极靶材装置，3、冷却挡板，31，折边，4、腔室。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型所述的技术方案和优点作进一步 的描述。
如图1所示， 一种真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括腔室4，设置在腔室4内的阴极靶材装置2和玻璃输送辊道1，在阴极靶材装置2的四周设置 有冷却挡板3，并且冷却挡板3的底部设有向内弯折的折边31。在玻璃输送辊 道1的两侧还分别设置有冷却挡板3。
本实用新型的优点是在阴极靶材装置2的四周和玻璃输送辊道的两侧 设置了冷却挡板3后，有效防止了阴极溅射下的杂质到处飞溅，当冷却挡板3 长期使用后无法达到预期效果时，只需更换冷却挡板3即可，延长了腔室4的 使用寿命。另外，在实际使用时还可将循环冷却水管附着在冷却挡板3上，这 样可有效防止腔室4内的温度过高，进一步确保镀膜质量。
权利要求1、真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，其特征在于在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。
2、 按照权利要求l所述的真空磁控镀膜室中的遮挡装置，其特征在于在 玻璃输送辊道的两侧还分别设置有冷却挡板。
专利摘要本实用新型公开了一种能够有效阻挡阴极溅射下的杂质、保证镀膜质量的真空磁控镀膜室中的遮挡装置，包括腔室，设置在腔室内的阴极靶材装置和玻璃输送辊道，在阴极靶材装置的四周设置有冷却挡板，并且冷却挡板的底部设有向内弯折的折边。本实用新型适合于真空镀膜玻璃的生产装置。
文档编号C23C14/35GK201326010SQ20082021530
公开日2009年10月14日 申请日期2008年11月19日 优先权日2008年11月19日
发明者赵子东 申请人:苏州新爱可镀膜设备有限公司