专利名称：镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及到一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。
背景技术：
传统的镀膜玻璃真空室采用一个腔室，这种腔室在对玻璃两侧抽真空时普 遍存在等离子气氛不稳定的现象，极易造成镀膜膜层的不均匀性。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是将提供一种等离子气氛稳定性较好的 镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室。
为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案是镀膜玻璃用磁控镀膜真 空腔室，包括腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别 开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。
所述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。
本实用新型的优点是通过采用气氛隔离挡板，使得在对玻璃上、下表面 抽真空的时候，能提高等离子气氛的稳定性。
图1是本实用新型所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室主视方向的内部结 构图。
图中1、腔室，2、隔离通道，21、墙板，3、玻璃输送通道，4、气氛隔 离挡板。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型所述的技术方案和优点作进一步 的描述。
如图1所示， 一种镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括腔室l，设置在 腔室1内的三个隔离通道2，在每个隔离通道2上分别开设有玻璃输送通道3， 在玻璃输送通道3的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板4。所述的气氛隔离挡 板4设置在构成隔离通道2的墙板21上。本实用新型的优点是在对腔室进行抽真空时，提高了玻璃横向表面的等 离子气氛的稳定性及玻璃的镀膜质量。
权利要求1、镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，其特征在于在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。
2、 按照权利要求1所述的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，其特征在于所 述的气氛隔离挡板设置在构成隔离通道的墙板上。
专利摘要本实用新型公开了一种等离子气氛稳定性较好的镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室，包括腔室，设置在腔室内的三个隔离通道，在每个隔离通道上分别开设有玻璃输送通道，在玻璃输送通道的上、下两侧分别设置有气氛隔离挡板。本实用新型适用于镀膜玻璃生产装置。
文档编号C23C14/35GK201326009SQ20082021530
公开日2009年10月14日 申请日期2008年11月19日 优先权日2008年11月19日
发明者赵子东 申请人:苏州新爱可镀膜设备有限公司