1.一种真空热处理工艺，其中加热工艺包括两段预热阶段和最后奥氏体化的阶段，其特征在于：第一个预热阶段的加热速度控制在10-20℃/min。
2.根据权利要求1所述的真空热处理工艺，其特征在于：所述的第一个预热阶段的加热速度控制在13℃/min。
3.根据权利要求1或2所述的真空热处理工艺，其特征在于：所述的第一个预热阶段的加热温度为500-650℃。
4.根据权利要求3所述的真空热处理工艺，其特征在于：所述的第一个预热阶段的加热温度为600℃。