用于在处理腔室中的层沉积期间支撑基板载体和掩模载体的固持布置、用于在基板上沉积层的设备、以及用于对准支撑基板的基板载体与掩模载体的方法与流程

文档序号:11446497阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本公开提供了用于在处理腔室中的层沉积期间支撑基板载体(130)和掩模载体(140)的固持布置(100)。固持布置(100)包括可连接至基板载体(130)和掩模载体(140)中的至少一个的两个或更多个对准致动器。固持布置(100)被配置为在第一平面中或平行于第一平面支撑基板载体(130),其中两个或更多个对准致动器中的第一对准致动器(110)被配置为至少在第一方向(1)上使基板载体(130)和掩模载体(140)相对于彼此来移动,其中两个或更多个对准致动器中的第二对准致动器(120)被配置为至少在第一方向(1)上和不同于第一方向(1)的第二方向(2)上使基板载体(130)和掩模载体(140)相对于彼此来移动,并且其中第一方向(1)和第二方向(2)在第一平面中。

技术研发人员:托马索·维尔切斯;迪特尔·哈斯;斯蒂芬·班格特;奥利弗·海默尔;丹尼尔·吉斯隆
受保护的技术使用者:应用材料公司
技术研发日:2015.01.12
技术公布日:2017.08.29
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