技术特征：
技术总结
本发明涉及一种具有(004)晶面择优的二氧化钛薄膜材料的制备方法，属于表面加工、涂层领域。所述制备方法包括如下步骤：①利用磁控溅射的方法得到非晶二氧化钛薄膜材料，所述磁控溅射的功率密度为0.8‑3.3W/cm2；②将非晶二氧化钛薄膜材料400‑600℃退火得到具有(004)晶面择优的锐钛矿相多晶结构的二氧化钛薄膜材料。本发明有益效果为：通过控制磁控溅射过程中钛靶表面磁控溅射的功率密度，得到具有不同晶体结构和择优取向的二氧化钛薄膜材料，实现二氧化钛薄膜材料晶体结构和择优取向的可调控。
技术研发人员：丁万昱;刘金东
受保护的技术使用者：大连交通大学
技术研发日：2016.04.28
技术公布日：2017.11.07