清洗液组合物的制作方法

技术特征：

1.一种清洗液组合物，其特征在于，包含下述化学式1所表示的化合物：

[化学式1]

在上述化学式中，X及Y各自独立表示具有非共用电子对的原子或官能团，

R¹及R²各自独立选自氢原子，羟基，羧基，及被取代或未被取代的、碳原子数为1至20的烷基，

m及n各自独立为1至5的整数。

2.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

X及Y各自独立选自氧族元素原子、氮族元素原子或含有它们的官能团。

3.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

X为氧原子或-NH，Y为氮原子。

4.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

X为-NH，Y为氮元素，R¹及R²各自独立表示氢原子、羟基或羧基。

5.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

还包含氢氧化季铵。

6.根据权利要求5所述的清洗液组合物，其特征在于，

上述氢氧化季铵包含四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基(羟乙基)氢氧化铵以及三乙基(羟乙基)氢氧化铵中的一种以上。

7.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

还包含有机胺。

8.根据权利要求7所述的清洗液组合物，其特征在于，

上述有机胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、咪唑乙醇、单异丙醇胺、氨基异丙醇、氨基丙醇、甲基氨基乙醇、氨基丁醇、氨基乙氧基乙醇、氨基乙基氨基乙醇、苄基哌嗪、四氢呋喃基胺、二乙烯三胺、三乙四胺以及四乙烯五胺中的一种以上。

9.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

清洗液组合物包含1至30重量份的上述化学式1的化合物、0.1至30重量份的氢氧化季铵以及1至50重量份的有机胺。

10.根据权利要求1所述的清洗液组合物，其特征在于，

上述清洗液组合物用于化学机械研磨(CMP)后的清洗。