一种用于槽式光热太阳能系统的薄膜反射镜的制作方法

文档序号:13755471阅读:277来源:国知局

本发明型涉及槽式光热太阳能系统反射镜材料。提供了轻量化的薄膜反射镜。



背景技术:

传统槽式光热太阳能系统反射镜材料主要是玻璃或不锈钢。不论是玻璃反射镜还是不锈钢反射镜都有着比较明显的缺点,制作工艺复杂、使用寿命短,尤为重要的是这两种反射镜重量都非常重,需要配合重量更大的支架及液压系统,成本非常之高。

正是在这样的背景下,我们提出了一种槽式光热太阳能系统反射镜材料,质量非常轻,重量仅为同等面积玻璃重量的四十分之一,使用寿命长达35—60年。整个系统可配备轻量化的支架和液压系统,节约大量成本。



技术实现要素:

本发明的具体内容是:反射镜材料使用氟基薄膜材料或者氟基材料纤维复合薄膜材料代替原有的玻璃或不锈钢反射镜材料。如使用ETFE(乙烯四氟乙烯共聚物)薄膜、FEP(聚全氟乙丙烯)薄膜、PTFE(聚四氟乙烯)和纤维复合薄膜等。这些材料质量非常轻、耐劳老化、使用寿命非常长,膜材通过真空PVD(真空等离子物理气象沉积)、真空电子束蒸发、真空PECVD(真空等离子体增强化学气相沉积)的方法在膜材表面沉积高反射材料和保护层。膜材配合使用铝合金支架结构形成轻量的槽式光热太阳能系统反射镜。

附图说明:下面根据附图来作进一步的说明。

图1为本发明型示意图。

图中:1、保护层 2、反射层 3、氟基薄膜。

具体实施方式一:真空PVD(真空等离子物理气象沉积)方式。

1、将ETFE薄膜卷装入真空PVD设备真空仓中的卷绕系统放卷轴上,手动将薄膜穿过动力滚轴和引导滚轴,然后将首端固定在收卷轴上,关闭仓门。

2、开启真空抽气设备,开始对真空仓抽气,当真空仓真空度达到1.0x10-3 Pa后,开启氩气进气阀,向真空仓送入氩气,使真空仓真空度维持在1.0x10-1 Pa—2.0Pa。

3、开启多弧溅射铝靶,开启卷绕系统,薄膜线速度为1m/min,开始在薄膜上沉积铝,沉积厚度在0.1微米—3微米,ETFE薄膜卷沉积完成后,关闭多弧溅射铝靶,关闭氩气进气阀。

4、开启氧气进气阀,向真空仓送入氧气,使真空仓真空度维持在1.0x10-1 Pa—2.0Pa。

5、开启多弧溅射硅靶,开启薄膜卷绕系统,调节至反向卷绕,薄膜线速度为1m/min,开始在薄膜上沉积二氧化硅,沉积厚度在0.3微米—1微米,ETFE薄膜卷沉积完成后,关闭多弧溅射硅靶,关闭养气进气阀。

6、关闭真空PVD设备抽气系统,开启真空PVD设备放气系统,待真空仓气压为常压后打开真空仓,取下镀膜完成的ETFE薄膜卷。

具体实施方式二:真空电子束蒸发方式。

1、将ETFE薄膜卷装入真空电子束蒸发设备的真空仓中的卷绕系统放卷轴上,手动将薄膜穿过动力滚轴和引导滚轴,然后将首端固定在收卷轴上,关闭仓门。

2、开启真空抽气设备,开始对真空仓抽气,当真空仓真空度达到1.0x10-3 Pa后,打开坩埚1的遮挡板,开启电子束设备电源,开始对坩埚1内的金属铝进行加热蒸发。

3、开启卷绕系统,薄膜线速度为1m/min,开始在薄膜上沉积铝,沉积厚度在0.1微米—3微米,ETFE薄膜卷沉积完成后,关闭电子束设备电源,关闭坩埚1的遮挡板。

4、开启坩埚2的遮挡板,开启电子束设备电源,开始对坩埚2内的二氧化硅进行加热蒸发。

5、开启薄膜卷绕系统,调节至反向卷绕,薄膜线速度为1m/min,开始在薄膜上沉积二氧化硅,沉积厚度在0.3微米—1微米,ETFE薄膜卷沉积完成后,关闭电子束设备电源,关闭坩埚2的遮挡板。

6、关闭真空电子束蒸发设备的抽气系统,开启真空电子束蒸发设备放气系统,待真空仓气压为常压后打开真空仓,取下镀膜完成的ETFE薄膜卷。

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