技术总结
本发明涉及用于高生产量制图的自适应射束电流。提供了一种用于规划用于材料沉积的射束路径的方法，其中，具有变化尺寸的特征的结构图案被分析以确定每一个特征的尺寸。遍历结构图案的射束路径被确定，并且针对在结构图案中的每一个点所需的射束电流被配置。配置针对每一个点所需的射束电流包括确定针对该点的可接受的射束剂量。相对小的特征对于高精度要求低的射束电流，并且相对大的特征能够使用允许更快沉积的更高射束电流来形成。在结构图案中的每一个特征在允许特征的精确沉积可接受的最高的射束电流下被沉积。
技术研发人员：A·P·J·M·博特曼
受保护的技术使用者：FEI公司
文档号码：201610861092
技术研发日：2016.06.30
技术公布日：2017.02.22