1.一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一、选取钼纯度为99.96%、粒度为1~3μm的钼粉以及纯度为99.96%、粒度为10~30μm的K2MoO4粉末，备用；
步骤二、将步骤一选取的K2MoO4粉末加入到去离子水中，配制成质量浓度为2~5%的去离子水溶液，备用；
步骤三、将步骤二中配制的K2MoO4溶液放入喷雾瓶中，并按照质量比为（5~10）：（90~95）将喷雾瓶中的K2MoO4溶液均匀的喷入到步骤一选取的钼粉中，充分混合后备用；
步骤四、采用不锈钢板、碳钢或者钛板制作色套，并将步骤三得到的混合物填充在色套内，然后将色套密封后抽真空，然后在室温下进行预压紧，预压压紧力为10~30MPa，预压过程中确保压头除了上下方向运动外，四周其他方向都固定无法运动；
步骤五、将经步骤四处理后的色套，置于脱气炉中进行脱气处理，脱气温度为300~600℃，脱气时间根据装粉量不同从10h~30h；
步骤六、将经步骤五脱气完毕的色套放入热等静压成型机中在温度为1000~1300℃、压制压力为100~130MPa的条件下压制成型，然后去色套，制成管坯，备用；
步骤七、将步骤六制得的管坯放入真空热压烧结炉中，在温度为1100~1500℃的条件下烧结2～3h，烧结完成后取出备用；
步骤八、将经步骤七烧结管坯进行多次锻打，锻打完成后放入真空退火炉中进行真空退火，退火温度为700~1200℃，保温0.5～1h后缓慢冷却至室温；
步骤九、将经步骤八退火处理后的管坯经机械加工至溅射靶材的目标尺寸，备用；
步骤十、将经步骤九加工后的溅射靶材在惰性气体保护氛围下，使用等离子喷涂的方法喷涂高分子保护膜，涂覆完成后制得产品。
2.如权利要求1所述的一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤四中色套抽真空后真空度达到1×10-2Pa。
3.如权利要求1所述的一种钼钾合金靶材的制备方法， 其特征在于：所述步骤四中色套的内表面上涂覆有玻璃粉。
4.如权利要求1所述的一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤六中所述的烧结过程包括以下阶段：1）室温~1100℃，升温速率5~10℃/min，保温5~10min，2）1100~1200℃，升温速率5~10℃/min，同时压力保持在5~100MPa内；2）1200℃保温1~2h；3）1200~1500℃，升温速率5~10℃/min；4）1500℃保温3~5h，5）1500℃~室温，降温速率1~3℃/min，同时压力降低至5MPa，直至冷却至室温后，完全卸去压力。
5.如权利要求1所述的一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤九机械加工采用车削加工和磨削加工，所述车削采用HRC大于70的刀具，车削时加工的转速为100～200转/分钟，所述车削时的进刀量为0.1～0.5mm，所述磨削时的进刀量为0.002～0.005mm，所述磨削的砂轮线速度为20～40m/s。
6.如权利要求1所述的一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤十中靶材以100~200r/min的速度围绕中心轴旋转，喷枪的移动速度为500~1000mm/min，工作气体的温度为800~1300℃，喷涂距离为40~60mm，喷涂角度为75~90°，工作气体压力为2~5MPa。