技术总结
本实用新型公开了一种PVD设备的反应气体通入结构。在蒸发源法兰上打孔，在外侧焊接接气扣，在真空室内侧围绕靶材焊接铜管；铜管上均匀打出气孔，孔径1mm；涂层设备在工作时，反应气体通过铜管上的出气孔孔通入真空室；反应气体直接和靶材蒸发出来的金属离子发生反应。由于直接通在每个蒸发源周围，涂层的均匀性极大地提高；气体会蒸发源周围形成屏障，阻止大颗粒飞行到工件表面，从而极大地改善了涂层的致密性和涂层表面的粗糙度。
技术研发人员：卢国英;石昌仑;石武昌;兰睿
受保护的技术使用者：常州夸克涂层科技有限公司
文档号码：201620704772
技术研发日：2016.07.05
技术公布日：2016.12.07