一种智能真空度控制系统的制作方法

本专利涉及真空镀膜领域，是真空镀膜控制系统的一部分，具体涉及一种智能真空度控制系统。

背景技术：

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

以往控制沉积压强只通过流量计实现，用流量计输出的大小，来影响沉积压强，用这种方法沉积压强波动较大，反应速度较慢，对真空镀膜的效果产生了不好的影响。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种智能真空度控制系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种智能真空度控制系统，包括真空炉，所述真空炉通过管道连接真空泵，所述真空炉的内部设有压力传感器，所述压力传感器分别电性连接流量计负反馈电路的输入端和节流阀负反馈电路的输入端，所述流量计负反馈电路的输出端电性连接流量计的输入端，所述节流阀负反馈电路的输出端电性连接节流阀的输入端，所述流量计和节流阀设置在真空炉沉积气体进气的管道上。

优选的，所述压力传感器的表面设有防护层。

优选的，所述真空炉与真空泵之间的连接管设置为金属管。

本实用新型的技术效果和优点：该智能真空度控制系统，采用闭环控制，并引进了节流阀的辅助控制，使流量计和节流阀共同动作，保证了沉积压强的准确，快速，稳定。

附图说明

图1为本实用新型的系统框图；

图2为本实用新型原理图；

图3为流量计与沉积压强曲线图；

图4为节流阀与沉积压强变化率曲线图；

图5为本专利与非本专利效果比对图。

图中：1真空炉、2真空泵、3压力传感器、4流量计、5节流阀、6流量计负反馈电路、7节流阀负反馈电路。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型提供了如图1-5所示的一种智能真空度控制系统，包括真空炉1，所述真空炉1通过管道连接真空泵2，所述真空炉1的内部设有压力传感器3，所述压力传感器3分别电性连接流量计负反馈电路6的输入端和节流阀负反馈电路7的输入端，所述流量计负反馈电路6的输出端电性连接流量计4的输入端，所述节流阀负反馈电路7的输出端电性连接节流阀5的输入端，所述流量计4和节流阀5设置在真空炉1沉积气体进气的管道上，所述压力传感器3的表面设有防护层，所述真空炉1与真空泵2之间的连接管设置为金属管。

流量计4输出气体的多少直接影响真空炉1内的沉积压强，流量计4输出气体的多少与炉内沉积压强成正比，如图3所示。节流阀5改变节流截面，影响真空炉1内沉积压强的变化率，节流阀5节流面积越大，沉积压强变化越快，反之节流阀5节流面积越小，沉积压强变化越慢，当节流阀5关闭时，压力不变，如图4所示。当沉积压强与设定压强不相等时，采用负反馈原理，流量计4和节流阀5改变输出，达到保证沉积压强准确，快速，稳定的目的。

工作原理：用真空泵2把真空炉1的气体排出，抽到合适的气压时，打开流量计4，通入沉积气体，改变沉积压强。当实际沉积压强与设定压强不相等时，流量计4改变流量，节流阀5改变节流截面，保证沉积压强的准确，快速，稳定。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。