本实用新型涉及机械领域。更具体地说，本实用新型涉及一种真空镀膜机。
背景技术：
镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。现有镀膜机的工件架包括一个不可转动的底座和一个转盘，在底座和转盘之间设有铜制的滚轮，该滚轮的作用即是为了支撑转盘的重量也是为了降低转盘的转动摩擦力。但是这种滚轮使用一段时间后，会有一些细小的铜粉污染到工件上，使工件出现黑色斑点状的瑕疵，因此改进真空镀膜机的工件架势在必行。
技术实现要素：
本实用新型的一个目的是解决至少上述问题，并提供至少后面将说明的优点。
本实用新型还有一个目的是提供一种不需要设置支撑作用的滚轮的真空镀膜机。
为了实现根据本实用新型的这些目的和其它优点，提供了一种真空镀膜机，包括真空室以及设置在所述真空室中的工件架，其特征在于，所述工件架包括：
第一齿轮盘，其与电机连接以轴向旋转；
第二齿轮盘，其与所述第一齿轮盘啮合，所述第二齿轮盘的顶面周向设置4个限位块；
第三齿轮盘，其与所述第二齿轮盘同心且所述第三齿轮盘的内径大于所述第一齿轮盘和第二齿轮盘的外径之和，所述第三齿轮盘与所述限位块通过限位杆固定连接；
第四齿轮盘，其与所述第三齿轮盘同心且所述第三齿轮盘的外径大于所述第四齿轮盘的外径，所述第四齿轮盘固定在所述第三齿轮盘下方，与所述第三齿轮盘互不干涉；以及
若干个齿轮轴，其周向分布在所述第三齿轮盘上并穿设所述第三齿轮盘和所述第四齿轮盘啮合。
优选地，所述工件架还包括固定在所述齿轮轴上方的笼架，所述笼架上设有盛放待镀膜部件的支撑杆。
优选地，所述真空室中还设有靶材，所述靶材为竖直设置的板状靶材。
本实用新型至少包括以下有益效果：本真空镀膜机取消了原有设置在底座和转盘之间的滚轮，通过在第二齿轮盘顶面设置限位块，第三齿轮盘通过与限位块匹配的限位杆承载在第二齿轮盘上，第二齿轮盘由第一齿轮盘啮合传动，进而带动第三齿轮盘转动，解决了工件出现黑色斑点状的瑕疵的问题。
本实用新型的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本实用新型的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。
附图说明
图1为本实用新型的工件架的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
需要说明的是，下述实施方案中所述实验方法，如无特殊说明，均为常规方法，所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得；在本实用新型的描述中，术语“横向”、“纵向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，并不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
如图1所示，本实用新型提供一种真空镀膜机，包括真空室以及设置在所述真空室中的工件架，其特征在于，所述工件架包括：
第一齿轮盘1，其与电机连接以轴向旋转；
第二齿轮盘2，其设置在以可转动的支撑架上，所述第二齿轮盘与所述第一齿轮盘1啮合，所述第二齿轮盘2的顶面周向设置4个限位块21；
第三齿轮盘3，其与所述第二齿轮盘2同心且所述第三齿轮盘3的内径大于所述第一齿轮盘1和第二齿轮盘2的外径之和，所述第三齿轮盘3与所述限位块21通过限位杆31固定连接，以使第三齿轮盘3支撑在支撑架上；
第四齿轮盘4，图中以虚线表示，其与所述第三齿轮盘3同心且所述第三齿轮盘3的外径大于所述第四齿轮盘4的外径，所述第四齿轮盘4固定在所述第三齿轮盘3下方，与所述第三齿轮盘3互不干涉；以及
若干个齿轮轴5，其周向分布在所述第三齿轮盘3上并穿设所述第三齿轮盘3和所述第四齿轮盘4啮合。
优选地，所述工件架还包括固定在所述齿轮轴5上方的笼架，所述笼架上设有盛放待镀膜部件的支撑杆。
优选地，所述真空室中还设有靶材，所述靶材为竖直设置的板状靶材。
本实用新型的运动流程为：第一齿轮盘由电机带动旋转，进而带动第二齿轮盘转动，由于第二齿轮盘与第三齿轮盘固定连接，使得第三齿轮盘和第二齿轮盘同步转动，而齿轮轴是套设在第三齿轮盘上的，因此也随第三齿轮盘转动，由于第四齿轮盘是固定不动的，当齿轮轴随第三齿轮盘转动时，也就与第四齿轮盘产生了相对运动，进而齿轮轴进行自转，即行星运动，由于笼架与齿轮轴固定连接，因此笼架也实现了行星运动。
本真空镀膜机取消了原有设置在底座和转盘之间的滚轮，通过在第二齿轮盘顶面设置限位块，第三齿轮盘通过与限位块匹配的限位杆承载在第二齿轮盘上，第二齿轮盘由第一齿轮盘啮合传动，进而带动第三齿轮盘转动，解决了工件出现黑色斑点状的瑕疵的问题。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。