技术总结
本实用新型公开了一种用于制备氮化硅膜的PECVD设备，具有石英反应管、向所述石英反应管通气的通气管，还包括和所述通气管连接的气体混合器，所述气体混合器包括第一混合腔、第二混合腔、设在所述第一混合腔与所述第二混合腔之间的连接腔、设在所述连接腔中的用于混合的搅拌装置、设在所述第一混合腔上的第一进气口以及第二进气口。本实用新型能够将反应气体进行充分的混合，得到稳定的气体混合比，从而得到稳定折射率的氮化硅膜。
技术研发人员：何一峰;汪燕萍;吴太亮;江泓
受保护的技术使用者：浙江贝盛光伏股份有限公司
文档号码：201621302349
技术研发日：2016.11.30
技术公布日：2017.05.31