1.一种RH精炼装置，其特征在于，所述RH精炼装置包括真空室、上升管和下降管；
所述真空室的底槽的形状为倒圆台形；所述底槽的上部内径为下部内径的1.2～2倍，内部高度为200～600mm；
所述上升管和下降管的上端均与所述底槽的底端固定连接，且与所述真空室连通，下端浸渍在大包中；所述底槽的一侧内壁与所述上升管的一侧内壁对齐，另一侧内壁与所述下降管的一侧内壁对齐，使得所述上升管和下降管的内侧壁间最大距离与所述底槽的下部内径相同；
所述上升管的下端侧壁连接有氩气管，且与所述氩气管连通。
2.根据权利要求1所述的RH精炼装置，其特征在于，所述底槽的内侧壁为斜坡式、阶梯式或弧形。
3.根据权利要求1所述的RH精炼装置，其特征在于，所述真空室的上部为圆筒形或圆台形。
4.根据权利要求1或2或3所述的RH精炼装置，其特征在于，所述真空室的最大内径与所述底槽的上部内径相同。
5.根据权利要求4所述的RH精炼装置，其特征在于，所述氩气管与所述上升管的下端面的距离小于等于所述上升管的长度1/4。
6.根据权利要求1或2或3或5所述的RH精炼装置，其特征在于，所述氩气管与所述上升管的下端面的距离小于等于所述上升管的长度1/4。
7.根据权利要求6所述的RH精炼装置，其特征在于，所述上升管和下降管为一体式或分体式。
8.根据权利要求1或2或3或5所述的RH精炼装置，其特征在于，所述上升管和下降管为一体式或分体式。
9.根据权利要求4所述的RH精炼装置，其特征在于，所述上升管和下降管为一体式或分体式。