蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明提供一种蒸镀单元(1)，包含：蒸镀掩膜(10)、具有限制板(22)的限制板单元(20)及蒸镀源(30)。蒸镀源(30)俯视时具有：分别设置在限制板(22)间的限制板开口(23)间的用于蒸镀颗粒射出的多个第一开口部(31)及设置在不与限制限制板开口(23)相对的位置的至少一个用于泄压的第二开口部(32)。

技术研发人员：小林勇毅;川户伸一
受保护的技术使用者：夏普株式会社
技术研发日：2016.02.18
技术公布日：2017.10.13