技术总结
本实用新型属于光学元件加工技术领域，尤其涉及一种数控抛光用三角形抛光模，其特征是包括：抛光模基体、缓冲层和抛光层；其中，所述抛光模基体上端粘附所述缓冲层，所述缓冲层上面粘结抛光层；所述抛光模基体和所述缓冲层为圆形，所述抛光层为三角形；所述抛光模基体为紫铜，所述缓冲层为沥青，所述抛光层为带背胶的抛光阻尼布。本实用新型采用圆形抛光模基体、圆形缓冲层和三角形抛光层的结构，构建的去除函数边缘去除效率低，中心去除效率高，解决大口径光学元件数控抛光的边缘效应，减少中频误差，提高加工精度和效率。
技术研发人员：廖品生;曾承远;毛卫平
受保护的技术使用者：东莞市兰光光学科技有限公司
技术研发日：2017.09.23
技术公布日：2018.11.06