一种陶瓷上蜡抛光机的制作方法

本发明涉及一种打蜡装置，具体为一种陶瓷上蜡抛光机。

背景技术

陶瓷在不抛光之前，烧制之后有很小的封闭气孔，但抛光之后就存在小的孔隙，在出厂之前，厂家会先进行一次打蜡，这样做是为了把小气孔填上，使得抛光陶瓷不容易渗污。

对于陶瓷打蜡技术，在打蜡完毕后，还需要对凝固后的蜡层进行打磨抛光，现有的抛光设备无法对抛光厚度进行调节，对不同的陶瓷进行抛光时，性能比较单一，抛光带与陶瓷片接触的面积比较少，机器工作时，噪音大、工作不平稳，影响抛光后陶瓷的尺寸精度。

技术实现要素：

本发明的目的是针对以上问题，提供一种陶瓷上蜡抛光机，该装置的抛光带横向设置，利用调节轮推动下滑板下压，来调节抛光高度，工作时机械损耗小，工作平稳，噪音低。

为实现以上目的，本发明采用的技术方案是：一种陶瓷上蜡抛光机，包括机体、工作台、输送机构、位于工作台上端的上蜡机构以及位于输送机构上端的抛光装置；其特征在于，所述的抛光装置包括设置在机体侧端带有齿轮部件的调节轮，所述调节轮的齿轮部件两侧啮合有一组齿板块，所述机体内壁上设置有上滑台，所述上滑台上滑动设置有一组上压块，所述的齿板块分别与上压块连接、位于调节轮两侧，且上压块为下端带锥部的梯形体，所述机体上设置有两个侧滑座，所述侧滑座上滑动设置有下滑板，所述下滑板与上滑台之间连有复位拉簧，下滑板的上端具有锥部、与上压块配合对下滑板进行位移；所述下滑板上设置有抛光轮，抛光轮安装有片抛光带，所述的抛光轮与电机连接，所述机体上设置有卸料出口。

进一步的，位于卸料出口的侧端机体上设置有风机，所述风机上连接有风管，所述风管的出风口朝向抛光装置的出料端。

进一步的，所述机体上设置有导向柱，导向柱上安装有滑板，所述滑板通过连接下料气缸使滑板沿导向柱上下位移，所述的滑板上设有上端和一侧端开口的滑槽，活动板位于滑槽内、延伸出滑槽的活动板上设置有齿条，所述齿条与齿轮啮合设置，所述齿轮安装在滑板上，且齿轮的另一侧啮合有固定齿板，所述固定齿板与机体连接；所述机体的上板上固定有梯形结构的垫高台，工作台的内侧为锥面，所述活动板和滑板上设置有卸料柱和抬升柱，工作台的下端通过卸料柱和抬升柱穿出上板和垫高台使工作台的锥面与梯形结构的垫高台配合，所述垫高台上设有止动柱，工作台上开设有止动柱卡入的配合通孔，所述工作台的侧端面上设置有弹簧，弹簧连接有倒“l”型结构的侧压板，所述侧压板与止动柱之间形成用于陶瓷片的夹持区；所述上板侧端开设有槽孔，所述槽孔内安装有推压板和夹持气缸，夹持气缸的推杆与推压板连接，所述推压板与侧压板正对设置。

进一步的，于抛光装置和工作台之间设有烘干室，所述烘干室内设有旋转轴，旋转轴的圆周方向均匀设置有陶瓷托板，所述的陶瓷托板衔接下料状态的工作台，输送机构衔接下料状态的陶瓷托板；所述烘干室的下端设置有电加热丝和挡蜡板，所述挡蜡板上均匀设有热气出口。

进一步的，所述机体上设置有朝向工作台的除尘装置。

进一步的，所述机体上设置有安装架，所述安装架上设置有驱动电机，所述驱动电机的输出轴伸入安装架内连接丝杆轴，所述丝杆轴上设置有滑块，所述滑块与上蜡机构通过连接板连接。

进一步的，所述的上蜡机构包括打蜡盘，所述打蜡盘的下端设有蜡刷，打蜡盘的支撑杆上设置有右齿轮，所述支撑杆穿过行星架和下底板之间的环槽，由下底板支承右齿轮，所述行星架的内壁上设置有齿圈，行星架内安装有中间齿轮，右齿轮与行星架内壁的齿圈和中间齿轮形成行星轮系，所述中间齿轮与安装在行星架外的伺服电机连接。

进一步的，所述行星架内还设置有与行星架内壁的齿圈和中间齿轮形成行星轮系的左齿轮，所述左齿轮与添蜡机构连接，所述添蜡机构包括储蜡罐、出蜡管以及喷蜡头，所述的储蜡罐上设有入蜡接口。

进一步的，所述的出蜡管下端具有多通管路出口，所述的喷蜡头设置在多通管路出口处。

进一步的，所述的打蜡盘长度大于陶瓷片的半径。

本发明的有益效果为：

1．该装置的抛光带横向设置，增大了与待抛光工件的接触面积，并可利用调节轮推动下滑板下压，来调节抛光高度，工作时机械损耗小，工作平稳，噪音低。

2．卸料出口的侧端机体上设置有风机，风机上风管的出风口朝向抛光装置的出料端，将抛光时产生灰尘吹落，保持抛光后陶瓷片的清洁度。

3．该装置利用行程不一的卸料柱和抬升柱，使工作台在卸料时处于倾斜状态，保证陶瓷在打蜡完毕后实现上蜡层无接触式自动下料，打蜡效果好。

4．止动柱的设计，配合侧压板，通过夹持气缸推动推压板将陶瓷片夹紧在止动柱与侧压板之间，完成夹持动作，同时下料时，工作台在倾斜导料状态下，也不会造成止动柱的堵料现象出现。

5．卸料柱和抬升柱采用同时抬升，但行程不一，是为了在抬升时，保证工作台倾斜不是很大的情况下，止动柱脱离配合通孔，降低陶瓷片下料的滑动速度。

6．烘干室内设置有多个陶瓷托板，利用陶瓷托板实现间隔，延迟陶瓷片在烘干室的烘干时间，保证蜡液完全凝固。

7．在上蜡前通过除尘装置对陶瓷表面吹风，将灰尘吹落，保证上蜡质量。

8．打蜡盘和添蜡机构采用行星轮系设计，通过添蜡机构给出蜡液，打蜡盘进行均匀摊平、抹蜡，保证蜡层厚度均匀，使抛光后陶瓷的尺寸精度达标，多通管路出口的出蜡管实现小流量的出蜡，防止蜡液浪费或造成蜡层厚度过大。

附图说明

图1为本发明的整体结构示意图。

图2为抛光装置的结构示意图。

图3为卸料柱和抬升柱实现行程不一的结构示意图。

图4为下料和夹料结构示意图。

图5为本发明正在下料时的结构示意图。

图6为上蜡机构的结构示意图。

图7为图6中a处的局部放大示意图。

图8为行星轮系的俯视结构示意图。

图中所述文字标注表示为：1、机体；2、工作台；3、上蜡机构；4、导向柱；5、滑板；6、固定齿板；7、活动板；8、齿轮；9、下料气缸；10、卸料柱；11、抬升柱；12、上板；13、垫高台；14、止动柱；15、侧压板；16、弹簧；17、推压板；18、夹持气缸；19、安装架；20、驱动电机；21、丝杆轴；22、滑块；23、连接板；24、除尘装置；25、烘干室；26、旋转轴；27、陶瓷托板；28、电加热丝板；29、挡蜡板；30、输送机构；31、添蜡机构；32、陶瓷片；33、调节轮；34、齿轮部件；35、齿板块；36、上滑台；37、上压块；38、复位拉簧；39、侧滑座；40、下滑板；41、抛光轮；42、抛光带；43、风机；44、风管；45、卸料出口；201、配合通孔；202、锥面；291、热气出口；301、打蜡盘；302、蜡刷；303、行星架；304、伺服电机；305、中间齿轮；306、右齿轮；307、左齿轮；308、下底板；309、环槽；310、储蜡罐；311、入蜡接口；312、出蜡管；313、喷蜡头；501、滑槽。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本发明的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图8所示，本发明的具体结构为：包括机体1、工作台2、输送机构30、位于工作台2上端的上蜡机构3以及位于输送机构30上端的抛光装置；其特征在于，所述的抛光装置包括设置在机体1侧端带有齿轮部件34的调节轮33，所述调节轮33的齿轮部件34两侧啮合有一组齿板块35，所述机体1内壁上设置有上滑台36，所述上滑台36上滑动设置有一组上压块37，所述的齿板块35分别与上压块37连接、位于调节轮33两侧，且上压块37为下端带锥部的梯形体，所述机体1上设置有两个侧滑座39，所述侧滑座39上滑动设置有下滑板40，所述下滑板40与上滑台36之间连有复位拉簧38，下滑板40的上端具有锥部、与上压块37配合对下滑板40进行位移；所述下滑板40上设置有抛光轮41，抛光轮41安装有片抛光带42，所述的抛光轮41与电机连接，所述机体1上设置有卸料出口45；抛光带42横向设置，增大了与待抛光工件的接触面积，并可利用调节轮33推动下滑板下压，来调节抛光高度，工作时机械损耗小，工作平稳，噪音低。

优选的，位于卸料出口45的侧端机体1上设置有风机43，所述风机43上连接有风管44，所述风管4的出风口朝向抛光装置的出料端；将抛光时产生灰尘吹落，保持抛光后陶瓷片32的清洁度。

优选的，所述机体1上设置有导向柱4，导向柱4上安装有滑板5，所述滑板5通过连接下料气缸9使滑板5沿导向柱4上下位移，所述的滑板5上设有上端和一侧端开口的滑槽501，活动板7位于滑槽501内、延伸出滑槽501的活动板7上设置有齿条，所述齿条与齿轮8啮合设置，所述齿轮8安装在滑板5上，且齿轮8的另一侧啮合有固定齿板6，所述固定齿板6与机体1连接,下料气缸9推动滑板5带动卸料柱10和抬升柱11上推，由于设置齿轮8，齿轮8将使卸料柱10的行程额外增大；所述机体1的上板12上固定有梯形结构的垫高台13，工作台2的内侧为锥面202，所述活动板7和滑板5上设置有卸料柱10和抬升柱11，工作台2的下端通过卸料柱10和抬升柱11穿出上板12和垫高台13使工作台2的锥面202与梯形结构的垫高台13配合，所述垫高台13上设有止动柱14，工作台2上开设有止动柱14卡入的配合通孔201，止动柱14脱离配合通孔201，降低陶瓷片下料的滑动速度；所述工作台2的侧端面上设置有弹簧16，弹簧16连接有倒“l”型结构的侧压板15，所述侧压板15与止动柱14之间形成夹持区，用于陶瓷片32的夹紧；所述上板12侧端开设有槽孔，所述槽孔内安装有推压板17和夹持气缸18，夹持气缸18的推杆与推压板17连接，所述推压板17与侧压板15正对设置；利用行程不一的卸料柱10和抬升柱11，使工作台2在卸料时处于倾斜状态，保证陶瓷在打蜡完毕后实现上蜡层无接触式自动下料，工作时机械损耗小，工作平稳，噪音低，打蜡效果好。

优选的，于抛光装置和工作台2之间设有烘干室25，所述烘干室25内设有旋转轴26，旋转轴26的圆周方向均匀设置有陶瓷托板27，利用陶瓷托板27实现隔料，延迟陶瓷片在烘干室25的烘干时间，所述的陶瓷托板27衔接下料状态的工作台2，输送机构30衔接下料状态的陶瓷托板27；所述烘干室25的下端设置有电加热丝28和挡蜡板29，所述挡蜡板29上均匀设有热气出口291。

优选的，所述机体1上设置有朝向工作台2的除尘装置24；除尘装置24对陶瓷表面吹风，将灰尘吹落，保证上蜡质量。

优选的，所述机体1上设置有安装架19，所述安装架19上设置有驱动电机20，所述驱动电机20的输出轴伸入安装架19内连接丝杆轴21，所述丝杆轴21上设置有滑块22，所述滑块22与上蜡机构3通过连接板23连接。

优选的，所述的上蜡机构3包括打蜡盘301，所述打蜡盘301的下端设有蜡刷302，打蜡盘301的支撑杆上设置有右齿轮306，所述支撑杆穿过行星架303和下底板308之间的环槽309，由下底板308支承右齿轮306，所述行星架303的内壁上设置有齿圈，行星架303内安装有中间齿轮305，右齿轮306与行星架303内壁的齿圈和中间齿轮305形成行星轮系，所述中间齿轮305与安装在行星架303外的伺服电机304连接；所述行星架303内还设置有与行星架303内壁的齿圈和中间齿轮305形成行星轮系的左齿轮307，所述左齿轮307与添蜡机构31连接，所述添蜡机构31包括储蜡罐310、出蜡管312以及喷蜡头313，所述的储蜡罐310上设有入蜡接口311；所述的出蜡管312下端具有多通管路出口，所述的喷蜡头313设置在多通管路出口处；通过添蜡机构31给出蜡液，打蜡盘301进行均匀摊平、抹蜡，保证蜡层厚度均匀，使抛光后陶瓷32的尺寸精度达标，多通管路出口的出蜡管312实现小流量的出蜡，防止蜡液浪费或造成蜡层厚度过大。

优选的，所述的打蜡盘301长度大于陶瓷片32的半径，保证打蜡盘301的打蜡区域完全覆盖陶瓷片32。

夹紧打蜡过程:如图4所示，控制器控制夹持气缸18启动，推杆推动推压板17右移，侧压板15压缩弹簧16配合止动柱14对陶瓷片32进行夹紧，夹紧完毕后，除尘装置24对陶瓷片32打蜡表面吹风，将灰尘吹落，保证上蜡质量，随后进行打蜡工作，如图1、图6-图8所示，控制器控制驱动电机20转动，丝杆轴21带动滑块22下移，对上蜡机构3进行高度调节，使打蜡盘301的蜡刷302与陶瓷片32接触，到达预设点后，驱动电机20停止，控制器控制伺服电机304转动，中间齿轮305带动左齿轮307和右齿轮306转动，可通过在入蜡接口311上接上蜡液管，往储蜡罐310内充入蜡液，将蜡液经出蜡管312，从喷蜡头313中导出至陶瓷片32上，由于左齿轮307在导蜡液时为旋转状态，可保证蜡液小量、均匀的摊铺在陶瓷片32上，另一侧的右齿轮306带动打蜡盘301转动，蜡刷302对蜡液进行抹蜡，将小团量的蜡液涂抹至整个陶瓷片32的上端面。

陶瓷片32下料过程：如图1、图3-图5所示，控制器控制下料气缸9启动，推杆推动滑板5在导向柱4上移动，滑板5上设置有齿轮5，由于向上移动的齿轮5两侧分别设置有固定齿板6和活动板7，固定齿板6设置在机体1上无法移动，而活动板7则在齿轮5的作用下，卸料柱10向上移动的行程为推杆的行程加上齿轮转动的行程，抬升柱11的行程为推杆的行程，因此工作台2在上升时，处于倾斜状态，并且止动柱14与配合通孔201发生了脱离（如图5）。

陶瓷片32打蜡后的烘干抛光过程：如图1所示陶瓷片32在重力的作用下，沿倾斜面滑至烘干室25内进行烘干，利用陶瓷托板27实现隔料，延迟陶瓷片32在烘干室25的烘干时间，保证蜡液完全凝固；转动的陶瓷托板27将烘干后的陶瓷片32送料至输送机构30上，如图2所示，预先调节好所要抛光的高度，通过手动调节调节轮33，齿轮部件34带动两个齿板块35向两侧移动，推动上压块37下压下滑板40来调节高度，陶瓷片32在输送机构30与抛光带42之间通过，尾部的风机43对抛光后的陶瓷片32和抛光带42进行清理，保证卸料后陶瓷片32的清洁度，和防止抛光带42粘附灰尘影响后续抛光尺寸精度。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本发明的保护范围。