技术特征：
技术总结
本发明公开了一种镀铜的格栅式石墨烯。本发明还公开了一种镀铜的格栅式石墨烯制备方法，步骤包括：1)对石墨烯纳米片表面无敏化和无活化处理，在透射电镜的真空打孔仓，对石墨烯纳米片打孔形成格栅；2)在硫酸铜溶液中加入柠檬酸三钠、四硼酸钠和EDTA，调节PH得到主盐混合溶液；3)往主盐混合溶液中加入催化剂，还原剂，缓冲剂，调节PH得到镀液混合溶液；4)将格栅式石墨烯纳米片放入镀液混合溶液中，然后再加入添加剂；PH控制为10‑15，磁力搅拌，超声分散，过滤取出格栅式石墨烯纳米片；采用去离子水清洗至中性，干燥，制得镀铜的格栅式石墨烯。本发明的方法，显著提高了镀层效果和导电性能。
技术研发人员：屈银虎;梅超;刘晓妮;左文婧;周思君;袁建才;张学硕;何炫
受保护的技术使用者：西安工程大学
技术研发日：2018.11.23
技术公布日：2019.01.25