技术总结
本实用新型涉及一种用于真空镀膜的可移出式滚筒装置，其包括真空壳体、旋转传动机构、旋转磁流体密封件、筒状转动框架及工件滚筒；旋转磁流体密封件包括固定密封座、传动转轴和转轴齿轮；筒状转动框架包括后法兰板、前法兰环及水冷筋板；传动转轴一端装配连接筒状转动框架，另一端与旋转传动机构连接并还安装有旋转水接头；旋转水接头内部还穿设有中心回水管；中心回水管一端伸入旋转水接头内部，另一端与筒状转动框架连接。本实用新型能使装载工件的滚筒持续接受冷却水强制接触式冷却，可用于大批量小薄尺寸工件持续地翻滚搅拌和持续地接触式强制水冷，实现工件全表面在温度控制条件下的均匀镀铝或者镀制其它金属膜层的应用。
技术研发人员：董骐;罗蓉平;李常彬;刘永军;张超逸;杜建
受保护的技术使用者：北京丹鹏表面技术研究中心
技术研发日：2018.09.05
技术公布日：2019.04.02