蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法与流程

本发明涉及蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及使用了蒸镀掩模的显示装置的制造方法。

背景技术：

作为使用蒸镀法制造的显示装置之一，已知有有机el显示器。有机el显示器所具备的图案是在蒸镀工序中升华的蒸镀粒子的堆积物。蒸镀工序中使用的蒸镀掩模包含表面与背面，并且具有将蒸镀掩模从表面贯通到背面的多个掩模孔。各掩模孔是供升华的蒸镀粒子通过的通路。

蒸镀掩模的背面是在蒸镀工序中形成图案的蒸镀对象所接触的面。蒸镀掩模的表面是在蒸镀工序中与蒸镀源对置的面。各掩模孔包含在表面开口的表面开口和在背面开口的背面开口。表面开口包含于从表面朝向背面前端变细的大孔，背面开口包含于从背面朝向表面前端变细的小孔。大孔与小孔在蒸镀掩模的厚度方向上，在蒸镀掩模的厚度的比中央靠背面的位置相互连接。大孔与小孔连接的部分是连接部。在沿着蒸镀掩模的厚度方向并且穿过连接部的剖面上，与背面平行的直线是基准线。在该剖面上，穿过表面开口的边缘与连接部的直线是倾斜线。而且，基准线与倾斜线所形成的角度是锥形角度(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017－88936号公报

技术实现要素：

发明要解决的技术问题

然而，从蒸镀源朝向蒸镀掩模飞行的蒸镀粒子的轨迹和蒸镀掩模的背面所形成的角度是蒸镀粒子的入射角度。升华的蒸镀粒子能够穿过大孔的入射角度的范围、进而蒸镀粒子能够穿过掩模孔的入射角度的范围被上述锥形角度限制。因此，对于蒸镀掩模，要求减小蒸镀粒子能够穿过大孔的入射角度的限制。

本发明的目的是提供一种能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔的蒸镀粒子的入射角度的限制的蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法。

用于解决技术问题的手段

用来解决上述课题的蒸镀掩模是包含金属板和形成于上述金属板的多个掩模孔的蒸镀掩模。具备：表面；作为与上述表面相反的一侧的面的背面；以及划分各掩模孔的内表面。各掩模孔在上述表面与上述背面之间贯通，各掩模孔具备在与上述表面对置的俯视下位于上述表面的大开口和位于上述大开口的内侧的小开口。各掩模孔的至少一部分具有将上述大开口与上述小开口相连的倒锥台筒状。各内表面具备从上述小开口朝向上述大开口扩展的阶梯面。

用于解决上述课题的蒸镀掩模的制造方法是包含金属板和形成于上述金属板的多个掩模孔的蒸镀掩模的制造方法。该制造方法包括通过在金属板上形成多个掩模孔来形成蒸镀掩模的步骤，上述蒸镀掩模具备：表面；作为与上述表面相反的一侧的面的背面；以及划分各掩模孔的内表面，各掩模孔在上述表面与上述背面之间贯通，各掩模孔具备在与上述表面对置的俯视下位于上述表面的大开口和位于上述大开口的内侧的小开口，各掩模孔的至少一部分具有将上述大开口与上述小开口相连的倒锥台筒状，各内表面具备从上述小开口朝向上述大开口扩展的阶梯面。

用于解决上述课题的显示装置的制造方法是使用了包含金属板和形成于上述金属板的多个掩模孔的蒸镀掩模的显示装置的制造方法。该显示装置的制造方法包括：通过在金属板上形成多个掩模孔来形成蒸镀掩模的步骤，以及通过使用了上述蒸镀掩模的蒸镀来形成显示装置所具有的图案的步骤，上述蒸镀掩模具备：表面；作为与上述表面相反的一侧的面的背面；以及划分各掩模孔的内表面，各掩模孔在上述表面与上述背面之间贯通，各掩模孔具备在与上述表面对置的俯视下位于上述表面的大开口和位于上述大开口的内侧的小开口，各掩模孔的至少一部分具有将上述大开口与上述小开口相连的倒锥台筒状，各内表面具备从上述小开口朝向上述大开口扩展的阶梯面。

根据上述构成，由于扩展的阶梯面使大开口的边缘扩大，因此与不具有阶梯面的掩模孔相比，能够减小锥形角度。由此，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔的蒸镀粒子的入射角度的限制。

在上述蒸镀掩模中，也可以是，上述大开口的边缘具备作为上述阶梯面的边缘的第1部和除上述第1部以外的第2部，上述大开口的边缘中的上述第2部具备与和该大开口相邻的其他上述大开口的上述第2部合并在一起而成的边界部，该边界部具有从上述表面凹陷的形状。

根据上述构成，大开口的边缘中的边界部具有从表面凹陷的形状。因此，与不具备边界部的构成相比，也能够减小基于掩模孔的内表面中的除阶梯部以外的区域的锥形角度。

在上述蒸镀掩模中，也可以是，在与上述表面对置的俯视下，上述边界部包含上述小开口的周围中、相互相邻的上述小开口之间的距离最小的部位。

根据上述构成，在相互相邻的小开口之间的距离最小的部位，能够获得基于边界部的锥形角度，在相互相邻的小开口之间的距离更大的部位，能够获得基于阶梯面的较小的锥形角度。因此，在增大相互相邻的小开口的距离的设计中，也能够实现较小的锥形角度。

在上述蒸镀掩模中，也可以是，上述大开口的边缘具备作为上述阶梯面的边缘的第1部和除上述第1部以外的第2部，上述大开口的边缘中的上述第1部具备与和该大开口相邻的其他上述大开口的上述第1部合并在一起的边界部，该边界部也可以具有从上述表面凹陷的形状。

根据上述构成，大开口的边缘中的边界部具有从表面凹陷的形状。因此，与不具备边界部的构成相比，能够减小锥形角度。

在上述蒸镀掩模中，上述小开口也可以位于上述背面。根据上述构成，由于小开口位于背面，因此能够从表面侧进行从大开口至小开口的加工。

在上述蒸镀掩模中，也可以是，上述阶梯面具有多个段，各段在与上述表面正交的剖面上具有圆弧状。上述构成适合于通过湿式蚀刻形成各段。

用于解决上述课题的蒸镀掩模是包含金属板和形成于上述金属板的多个掩模孔的蒸镀掩模。具备：表面；作为与上述表面相反的一侧的面的背面。各掩模孔在上述表面与上述背面之间贯通，各掩模孔具备在与上述表面对置的俯视下位于上述表面的大开口和位于上述大开口的内侧的小开口，各掩模孔的至少一部分具有将上述大开口与上述小开口相连的倒锥台筒状，相互相邻的上述大开口通过从上述表面凹陷的辅助凹部而被连接。

根据上述构成，大开口的边缘的一部分具有通过与辅助凹部的连接而从表面凹陷的形状。因此，与不具有辅助凹部的掩模孔相比，能够减小锥形角度。由此，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔的蒸镀粒子的入射角度的限制。

发明效果

根据本发明，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔的蒸镀粒子的入射角度的限制。

附图说明

图1是表示一实施方式中的掩模装置的构造的俯视图。

图2是表示蒸镀掩模的第1例中的与掩模表面对置的俯视下的构造的俯视图。

图3是表示蒸镀掩模的第1例中的与掩模背面对置的俯视下的构造的俯视图。

图4是沿着图2的i－i线的剖面图。

图5是放大表示图4的一部分的剖面图。

图6是沿着图2的ii－ii线的剖面图。

图7是表示蒸镀掩模的第2例中的与掩模表面对置的俯视下的构造的俯视图。

图8是表示蒸镀掩模的第2例中的与掩模背面对置的俯视下的构造的俯视图。

图9是沿着图7的iii－iii线的剖面图。

图10是沿着图7的iv－iv线的剖面图。

图11的(a)～(f)是说明蒸镀掩模的制造方法的一个例子的工序图。

图12是表示制造蒸镀掩模的第1例时使用的第1抗蚀剂掩模的构造的俯视图。

图13是表示制造蒸镀掩模的第2例时使用的第1抗蚀剂掩模的构造的俯视图。

图14是表示实施例1的蒸镀掩模中的构造的剖面图。

图15是表示比较例1的蒸镀掩模中的构造的剖面图。

图16是表示实施例2的蒸镀掩模中的构造的剖面图。

图17是表示比较例2的蒸镀掩模中的构造的剖面图。

图18是表示蒸镀掩模的变形例中的与掩模表面对置的俯视下的构造的俯视图。

图19是表示蒸镀掩模的变形例中的与掩模表面对置的俯视下的构造的俯视图。

具体实施方式

参照图1～图17，对蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法的一实施方式进行说明。以下，依次说明掩模装置的构成、蒸镀掩模的构成、蒸镀掩模的制造方法、以及实施例。

[掩模装置的构成]

如图1所示，掩模装置10具备主框架20和多个蒸镀掩模30。主框架20具有用于支承多个蒸镀掩模30的矩形框状，安装于用于进行蒸镀的蒸镀装置。主框架20具有与蒸镀掩模30数目相同的主框架孔21。各主框架孔21是主框架20之中贯通一个蒸镀掩模30所在的范围的大致整体的孔。蒸镀掩模30具有长方形板状，具备多个掩模部31和将多个掩模部31包围的外周部32。各掩模部31具有多个掩模孔31h。另一方面，外周部32不具有掩模孔31h。

蒸镀掩模30由掩模片材30s构成。掩模片材30s可以由单一的金属片材构成，也可以由多层的金属片材构成。构成掩模片材30s的金属片材的形成材料是铁-镍类合金。金属片材的形成材料优选的是例如包含30质量％以上的镍的铁-镍类合金。其中，更优选的是，以36质量％的镍与64质量％的铁的合金为主成分的合金即因瓦合金是金属片材的形成材料。在金属片材以36质量％的镍与64质量％的铁的合金为主成分时，作为金属片材的剩余部分，例如可以包含铬、锰、碳、以及钴等添加物。

在掩模片材30s为因瓦合金片材时，掩模片材30s的热膨胀系数例如约为1.2×10^－6/℃。根据具有这种热膨胀系数的掩模片材30s，掩模部31中的热膨胀的程度和玻璃基板中的热膨胀的程度匹配。因此，在使用了掩模装置10的蒸镀中，作为蒸镀对象的一个例子，优选的是使用玻璃基板。掩模片材30s的厚度例如是10μm以上且50μm以下。

另外，在图1所示的例子中，各蒸镀掩模30的整体位于比主框架20的边缘靠内侧的位置，但多个掩模部31排列的方向上的蒸镀掩模30的两端部也可以位于比主框架20的边缘靠外侧的位置。

[蒸镀掩模的构成]

参照图2～图10，对蒸镀掩模30的构成进行说明。以下，对蒸镀掩模30的第1例中的构成和蒸镀掩模30的第2例中的构成进行说明。另外，在蒸镀掩模30的第1例与蒸镀掩模30的第2例之间，掩模部31所含的掩模孔31h的形状不同。

[第1例]

参照图2～图6，对蒸镀掩模30的第1例进行说明。图2示出了与掩模表面对置的俯视下的掩模部31的平面构造。与此相对，图3示出了与掩模背面对置的俯视下的掩模部31的平面构造。在图2以及图3中，在掩模表面或者掩模背面之中，出于易于区别掩模孔31h所在的部分和不存在掩模孔31h的部分的目的，对不存在掩模孔31h的部分赋予点(dot)。

如图2所示，蒸镀掩模30具备掩模表面30f和作为与掩模表面30f相反的一侧的面的掩模背面。掩模部31具备贯通掩模表面30f与掩模背面30r之间的多个掩模孔31h。各掩模孔31h在与掩模表面30f对置的俯视下，具备位于掩模表面30f的表面开口hf和位于表面开口hf的内侧的中央开口hc。表面开口hf是大开口的一个例子，中央开口hc是小开口的一个例子。划分掩模孔31h的内表面具备将表面开口hf与中央开口hc相连的阶梯面。表面开口hf的边缘e具备阶梯面的边缘即第1部e1和第1部e1以外的第2部e2。

在本实施方式中，多个掩模孔31h沿第1方向dr1和与第1方向dr1正交的第2方向dr2排列。各掩模孔31h与在第1方向dr1上相互相邻的掩模孔31h、以及在第2方向dr2上相互相邻的掩模孔31h的两方分离。各掩模孔31h具备一个主孔31h1和两个辅助凹部31h2。各主孔31h1在第1方向dr1上被两个辅助凹部31h2夹住。换言之，在第1方向dr1上相互相邻的主孔31h1之间，配置有两个辅助凹部31h2。

在各掩模孔31h中，主孔31h1与辅助凹部31h2相连的部分是相对于掩模表面30f凹陷的部分，并且，利用划分主孔31h1的面和划分辅助凹部31h2的面，在使表面开口hf的边缘扩大的方向上形成阶梯。因此，上述表面开口hf的边缘e由作为第2部e2的一个例子的主孔31h1的边缘和作为第1部e1的一个例子的辅助凹部31h2的边缘构成。

在与掩模表面30f对置的俯视下，第1方向dr1上相互相邻的中央开口hc间的距离为第1距离d1，第2方向dr2上相互相邻的中央开口hc间的距离为第2距离d2。第1距离d1与第2距离d2大致相等。

在与掩模表面30f对置的俯视下，表面开口hf具有大致正八边形状。在表面开口hf中，沿着第1方向dr1的长度的最大值与沿着第2方向dr2的长度的最大值大致相等。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，表面开口hf能够具有正八边形状以外的多边形状。表面开口hf在多边形状之中也优选的是具有2n(n是2以上的整数)边形状。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，表面开口hf中的各角部、各边也可以具有曲率。

在与掩模表面30f对置的俯视下，两个辅助凹部31h2具有相互大致相同的形状，并且具有大致相同的大小。各辅助凹部31h2具有沿第2方向dr2延伸的矩形状。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，两个辅助凹部31h2也可以具有相互不同的形状，还可以具有相互不同的大小。另外，各辅助凹部31h2的形状也可以是矩形状以外的形状，例如可以是椭圆状等。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，辅助凹部31h2中的各角部、各边也可以具有曲率。

如图3所示，在与掩模背面30r对置的俯视下，多个背面开口hr沿第1方向dr1与第2方向dr2排列。在与掩模背面30r对置的俯视下，背面开口hr比表面开口hf小，另外，各背面开口hr的中心的位置与该背面开口hr所属的掩模孔31h所含有的主孔31h1的中心的位置大致重叠。各背面开口hr具有大致正八边形状，各背面开口hr的形状与该背面开口hr所属的掩模孔31h中的主孔31h1的边缘的形状大致相似。

图4示出了沿着图2中的i－i线的剖面、即沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面的构造。i－i线在与掩模表面30f对置的俯视下是沿第1方向dr1延伸、并且穿过第2方向dr2上的表面开口hf的中央的直线。

如图4所示，各掩模孔31h具备在掩模表面30f开口的表面开口hf和位于比表面开口hf靠内侧的中央开口hc。掩模孔31h的一部分具有将表面开口hf与中央开口hc相连的倒锥台筒状。划分掩模孔31h的内表面具备从中央开口hc朝向表面开口hf扩展的阶梯面。在从中央开口hc到表面开口hf之间，划分辅助凹部31h2的内表面和划分主孔31h1的内表面相连接的部分是连接部hco。

各掩模孔31h由大孔hl与小孔hs构成。大孔hl具有包含表面开口hf的倒锥台筒状。小孔hs具有包含背面开口hr的锥台筒状。小孔hs与大孔hl相连，小孔hs与大孔hl相连接的部分是中央开口hc。大孔hl由上述主孔31h1与两个辅助凹部31h2构成。主孔31h1是将掩模表面30f与中央开口hc相连的孔。大孔hl的内表面在掩模孔31h的周向上的一部分上，具备2段的阶梯面。2段的阶梯面如上述那样由主孔31h1的内表面的一部分和辅助凹部31h2的内表面构成。中央开口hc与背面开口hr之间的距离是台阶高度sh。台阶高度优选的是3μm以下，更优选的是1μm以下。

在沿着蒸镀掩模30的厚度方向、并且穿过中央开口hc的剖面中，与掩模背面30r平行的直线是基准线bl。在该剖面中，将中央开口hc的边缘和大孔hl的内表面中的一点连结的直线之中，与基准线bl一起形成的角度成为最大时的直线是倾斜线ol。在第1例中，倾斜线ol是穿过主孔31h1的内表面和表面开口hf的边缘的直线。基准线bl与倾斜线ol所形成的角度是锥形角度θ。另外，将中央开口hc的边缘和连接部hco连结的直线也是倾斜线ol。

在蒸镀掩模30所具备的掩模孔31h的加工中，通常使用湿式蚀刻。该湿式蚀刻是从金属制的片材的表面各向同性地进行的蚀刻。通过湿式蚀刻形成的掩模孔31h是以掩模表面30f为底部的例如半圆球面的一部分，掩模孔31h的沿着与掩模表面30f平行的面的截面积越是远离表面开口hf越是急剧缩小。这种掩模孔31h所具有的锥形角度θ在片材的厚度越薄时越小，并大致由片材的厚度决定。另外，为了减小锥形角度θ而减薄片材的厚度也存在限度。在该一点，如果是上述构成，则扩展后的阶梯面将扩大表面开口hf的边缘e，因此与不具有阶梯面的掩模孔31h相比，能够减小锥形角度θ。由此，能够减小蒸镀粒子能够穿过掩模孔31h的蒸镀粒子的入射角度的大小、希望获得较小的入射角度的位置等这些入射角度的限制。

图5放大地示出掩模孔31h的剖面构造的一个例子。另外，在沿着i－i线的剖面中，在划分一个掩模孔31h的侧面之中，夹着掩模孔31h而在第1方向dr1上相互相邻的部分具有相互大致相同的形状。因此，以下，仅对两个部分中的一方进行说明，省略另一方的说明。另外，在沿着i－i线的剖面中，包含划分大孔hl的侧面在内的掩模要素在蒸镀掩模30的厚度方向上是平行的，并且相对于穿过第1方向dr1上的掩模要素的中央的直线，具有线对称的形状。

如图5所示，阶梯面的各段在沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面中、换言之在截面中具有圆弧状。阶梯面具有适合于通过湿式蚀刻形成各段的形状。大孔hl的内表面包括具有2段的圆弧状的弧状部ca。弧状部ca由第1圆弧ca1和第2圆弧ca2构成。第2圆弧ca2位于与第1圆弧ca1相比靠近掩模背面30r的位置。与第1圆弧ca1相切的第1曲率圆cc1具有第1曲率中心c1。第1曲率圆cc1中的曲率半径是第1曲率半径rc1。与第2圆弧ca2相切的第2曲率圆cc2具有第2曲率中心c2。第2曲率圆cc2中的曲率半径是第2曲率半径rc2。第1曲率中心c1以及第2曲率中心c2位于相对于弧状部ca靠掩模孔31h侧的位置。第1曲率半径rc1比第2曲率半径rc2小。

图6示出了沿着图2中的ii－ii线的剖面、即沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面中的构造。ii－ii线在与掩模表面30f对置的俯视下，是沿第2方向dr2延伸、并且穿过第1方向dr1上的表面开口hf的中央的直线。

如图6所示，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的截面换言之剖面中，大孔hl的内表面以及小孔hs的内表面分别具有朝向掩模孔31h的外侧突出的圆弧状。

在这样的蒸镀掩模30中，掩模表面30f是在蒸镀装置内用于与蒸镀源对置的面，掩模背面30r是在蒸镀装置内用于与玻璃基板等蒸镀对象接触的面。各掩模孔31h是从蒸镀源升华的蒸镀粒子所穿过的通路，从蒸镀源升华的蒸镀粒子从表面开口hf朝向背面开口hr进入掩模孔31h内。在掩模孔31h中，表面开口hf比背面开口hr大，从而能够抑制对从表面开口hf进入的蒸镀粒子的遮蔽效果。

[第2例]

参照图7～图10，对蒸镀掩模30的第2例进行说明。

如图7所示，蒸镀掩模30具备多个掩模孔31h。各掩模孔31h贯通掩模表面30f与掩模背面30r之间。掩模孔31h在与掩模表面30f对置的俯视下，具备位于掩模表面30f的表面开口hf和位于表面开口hf的内侧的中央开口hc。表面开口hf是大开口的一个例子，中央开口hc是小开口的一个例子。掩模孔31h的一部分具有将表面开口hf与中央开口hc相连的倒锥台筒状。相互相邻的表面开口hf通过从掩模表面30f凹陷的辅助凹部31c连接。

各表面开口hf的边缘e具备与和该表面开口hf相邻的其他表面开口hf的边缘e合并在一起而成的边界部hb。边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。在与掩模表面30f对置的俯视下，边界部hb包含中央开口hc的周围之中、相互相邻的中央开口hc之间的距离最小的部位。如上述那样，在与掩模表面30f对置的俯视下，第1方向dr1上相互相邻的中央开口hc间的距离是第1距离d1，第2方向dr2上相互相邻的中央开口hc间的距离是第2距离d2。在蒸镀掩模30的第2例中，第1距离d1比第2距离d2小，边界部hb位于第1方向dr1上的掩模孔31h间。

在这样的构成中，表面开口hf的边缘e中的边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。因此，与不具备边界部hb的构成相比，能够在辅助凹部31c以外的区域中也减小锥形角度θ。另外，在相互相邻的中央开口hc之间的距离最小的部位，能够获得基于边界部hb的锥形角度θ，在相互相邻的中央开口hc之间的距离更大的部位，能够获得基于辅助凹部31c的较小的锥形角度θ。因此，在相互相邻的中央开口hc的距离较大的设计中也能够实现较小的锥形角度θ。

在本实施方式中，多个掩模孔31h沿第1方向dr1与第2方向dr2排列，并且，在与掩模表面30f对置的俯视下具有沿第1方向dr1延伸的形状。在与掩模表面30f对置的俯视下，第2方向dr2上相互相邻的掩模孔31h间配置有1个辅助凹部31c。各辅助凹部31c与在第2方向dr2上夹住该辅助凹部31c的两个掩模孔31h相连。

在各掩模孔31h中，在与掩模表面30f对置的俯视下，边界部hb位于模孔31h的周向中的一部分。各掩模孔31h包含两个边界部hb。各边界部hb具有沿第2方向dr2延伸的直线状，两个边界部hb沿第1方向dr1排列。边界部hb在从掩模孔31h的内侧观察时是从掩模表面30f凹陷的凹状。

在与掩模表面30f对置的俯视下，表面开口hf具有大致八边形状。在表面开口hf中，沿着第1方向dr1的长度的最大值比沿着第2方向dr2的长度的最大值大。另外，在与掩模表面30f对应的俯视下，表面开口hf与第1例的表面开口hf相同，能够具有八边形状以外的多边形状。表面开口hf在多边形状之中也优选的是具有2n(n是2以上的整数)边形状。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，表面开口hf中的各角部、各边也可以具有曲率。

在与掩模表面30f对置的俯视下，多个辅助凹部31c具有相互大致相同的形状，并且具有大致相同的大小。各辅助凹部31c例如具有沿第1方向dr1延伸的矩形状。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，多个辅助凹部31c也可以具有相互不同的形状，还可以具有相互不同的大小。另外，各辅助凹部31c的形状也可以是上述矩形状以外的形状，例如可以是椭圆状等。另外，在与掩模表面30f对置的俯视下，辅助凹部31c中的各角部、各边也可以具有曲率。

如图8所示，多个背面开口hr沿第1方向dr1与第2方向dr2排列。各背面开口hr的中心的位置与该背面开口hr所属的掩模孔31h所含有的表面开口hf的中心的位置大致重叠。各背面开口hr具有沿第1方向dr1延伸的大致八边形状，各背面开口hr的形状与该背面开口hr所属的掩模孔31h中的表面开口hf的形状大致相似。

图9示出了沿着图7中的iii－iii线的剖面、即沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面中的构造。iii－iii线在与掩模表面30f对置的俯视下是沿第1方向dr1延伸、并且穿过第2方向dr2上的表面开口hf的中央的直线。

如图9所示，各掩模孔31h包含大孔hl与小孔hs。大孔hl包含表面开口hf，并且具有从掩模表面30f朝向掩模背面30r而前端变细的倒锥台筒状。小孔hs包含背面开口hr，并且具有从掩模背面30r朝向掩模表面30f而前端变细的锥台筒状。小孔hs与大孔hl相连，小孔hs与大孔hl相连的部分是中央开口hc。另外，在第1方向dr1上相互相邻的掩模孔31h在从掩模表面30f凹陷的边界部hb处相互相连。因此，边界部hb中的厚度比外周部32中的厚度薄。

图10示出了沿着图7中的iv－iv线的剖面、即沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面中的构造。iv－iv线在与掩模表面30f对置的俯视下是沿第2方向dr2延伸、并且穿过第1方向dr1上的表面开口hf的中央的直线。

如图10所示，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面中，在相互相邻的掩模孔31h间仅配置有一个辅助凹部31c。该辅助凹部31c连接于一方的掩模孔31h的表面开口hf和另一方的掩模孔31h的表面开口hf。即，掩模孔31h不具有2段的阶梯面。在相互相邻的两个掩模孔31h中，各大孔hl的内表面彼此利用辅助凹部31c连接。掩模部31的一部分中的厚度比外周部32的厚度薄辅助凹部31c的大小。

在各掩模孔31h中，与蒸镀掩模30的第1例相同，倾斜线ol与基准线bl所形成的角度是锥形角度θ。在蒸镀掩模30的第2例中，倾斜线ol是沿大孔hl的内表面延伸的直线。即，倾斜线ol是大孔hl与小孔hs的连接部即中央开口hc处的沿切线方向延伸的直线。

[蒸镀掩模的制造方法]

参照图11，对蒸镀掩模30的制造方法进行说明。

如图11(a)～图11(f)所示，在蒸镀掩模30的制造方法中，首先，准备作为金属板的一个例子的片材30s1(参照图11(a))。接着，在片材30s1的掩模表面30f形成第1抗蚀剂层pr1，并且在片材30s1的掩模背面30r形成第2抗蚀剂层pr2(参照图11(b))。然后，对第1抗蚀剂层pr1以及第2抗蚀剂层pr2进行曝光以及显影，从而在掩模表面30f形成第1抗蚀剂掩模rm1，并且在掩模背面30r形成第2抗蚀剂掩模rm2(参照图11(c))。

接下来，在形成覆盖第1抗蚀剂掩模rm1的第1保护层pl1之后，使用第2抗蚀剂掩模rm2从掩模背面30r对片材30s1进行湿式蚀刻，从而在片材30s1形成多个小孔hs(参照图11(d))。接着，在进行第1保护层pl1的去除和将第2抗蚀剂掩模rm2覆盖的第2保护层pl2的形成之后，使用第1抗蚀剂掩模rm1从掩模表面30f对片材30s1进行湿式蚀刻，从而片材30s1形成多个大孔hl(参照图11(e))。对片材30s1形成多个小孔hs的工序和形成多个大孔hl的工序包含在板形成工序以及掩模形成工序中。然后，第1抗蚀剂掩模rm1、第2抗蚀剂掩模rm2、以及第2保护层pl2被从片材30s1去除，从而制造出蒸镀掩模30(参照图11(f))。另外，在图11(d)中，也可以在剥离第1抗蚀剂掩模rm1之后形成第2保护层pl2。

在制造片材30s1的方法中，使用电解或者轧制，作为通过这些获得的片材30s1的后序处理，适当地使用研磨、退火等。在片材30s1的制造中使用电解时，在电解所使用的电极的表面形成片材30s1，之后，从电极的表面将片材30s1脱模。由此，制造出片材30s1。另外，从电极的表面脱模后的片材30s1也可以根据需要被退火。在片材30s1的制造中使用轧制时，将用于制造片材30s1的母材轧制，之后，对轧制后的母材进行退火，从而获得片材30s1。另外，通过电解获得的片材30s1以及通过轧制获得的片材30s1都可以通过使用了酸性蚀刻液的湿式蚀刻加工为较薄。

电解所使用的电解浴包含铁离子供给剂、镍离子供给剂、以及ph缓冲剂。另外，电解浴也可以包含应力缓和剂、fe³⁺离子掩模剂、以及络合剂等。电解浴是调整成适合电解的ph的弱酸性的溶液。铁离子供给剂中例如能够使用七水合硫酸亚铁、氯化亚铁、以及氨基磺酸铁等。镍离子供给剂中例如能够使用硫酸镍(ii)、氯化镍(ii)、氨基磺酸镍以及溴化镍等。ph缓冲剂中例如能够使用硼酸以及丙二酸。丙二酸也作为fe³⁺离子掩蔽剂发挥功能。应力缓和剂中例如能够使用例如苯甲酸钠等。络合剂中例如能够使用苹果酸以及柠檬酸等。电解所使用的电解浴例如是包含上述添加剂的水溶液，电解浴的ph通过ph调整剂，例如调整为2以上且3以下。另外，ph调整剂中能够使用5％硫酸以及碳酸镍等。

电解所使用的条件是用于将片材30s1的厚度、以及片材30s1的组分比等调节成希望的值的条件，这样的条件中包含电解浴的温度、电流密度以及电解时间。应用于上述电解浴的阳极例如是纯铁板以及镍板等。应用于电解浴的阴极例如是sus304等不锈钢板。电解浴的温度例如是40℃以上且60℃以下。电流密度例如是1a/dm²以上且4a/dm²以下。

另外，在形成用于形成片材30s1的轧制用的母材时，为了将用于形成轧制用的母材的材料中混入的氧去除，例如将粒状的铝、粒状的镁等脱氧剂混入用于形成母材的材料中。铝、镁作为氧化铝、氧化镁等金属氧化物包含在母材中。这些金属氧化物的大部分在将母材轧制前被从母材中去除。另一方面，金属氧化物的一部分残留于作为轧制的对象的母材中。根据使用电解的蒸镀掩模30的制造方法，抑制金属氧化物混入掩模片材30s。

在用于在片材30s1形成多个掩模孔31h的蚀刻中，作为蚀刻液，能够使用酸性的蚀刻液。在片材30s1由因瓦合金形成时，蚀刻液为能够将因瓦合金蚀刻的蚀刻液即可。酸性的蚀刻液例如是对高氯酸铁液、以及高氯酸铁液与氯化铁液的混合液混合高氯酸、盐酸、硫酸、甲酸、以及醋酸中的某一个而得的溶液。在对掩模表面30f进行蚀刻的方式中，能够使用浸渍式、喷射式、以及旋涂式中的某一个。

参照图12以及图13，对第1抗蚀剂掩模rm1进行说明。图12示出了制造蒸镀掩模30的第1例时形成的第1抗蚀剂掩模rm1，图13示出了制造蒸镀掩模30的第2例时形成的第1抗蚀剂掩模rm1。

如图12所示，第1抗蚀剂掩模rm1包含抗蚀剂表面rmf。抗蚀剂表面rmf是第1抗蚀剂掩模rm1之中与片材30s1接触的面相反侧的面。第1抗蚀剂掩模rm1具有多个第1图案rma和多个第1辅助图案rmb。各第1图案rma以及各第1辅助图案rmb沿第1抗蚀剂掩模rm1的厚度方向贯通第1抗蚀剂掩模rm1。

在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，各第1图案rma具有大致正八边形状。各第1图案rma具有与由该第1图案rma形成的主孔31h1的第2部e2所划分的区域大致相似的形状。在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，多个第1图案rma沿第1方向dr1以及第2方向dr2的各个方向排列。

在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，各第1辅助图案rmb具有沿第2方向dr2延伸的矩形状。各第1辅助图案rmb具有与由该第1辅助图案rmb形成的辅助凹部31h2的第1部e1所划分的区域大致相似的形状。在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，在第1方向dr1上相互相邻的两个第1图案rma之间配置有两个第1辅助图案rmb。

通过使用了这样的第1抗蚀剂掩模rm1的蚀刻，能够形成由主孔31h1和两个辅助凹部31h2构成的大孔hl。另外，在形成多个小孔hs时，作为第2抗蚀剂掩模rm2，使用在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下形成有多个图案的抗蚀剂掩模。第2抗蚀剂掩模rm2所具有的图案与第1图案rma大致相似，并且沿第1方向dr1以及第2方向dr2的各个方向排列。

如图13所示，第1抗蚀剂掩模rm1具有多个第1图案rma和多个第1辅助图案rmb。各第1图案rma以及各第1辅助图案rmb沿第1抗蚀剂掩模rm1的厚度方向贯通第1抗蚀剂掩模rm1。

在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，各第1图案rma具有沿第1方向dr1延伸的大致八边形状。各第1图案rma具有与由该第1图案rma形成的表面开口hf所划分的区域大致相似的形状。在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，多个第1图案rma沿第1方向dr1以及第2方向dr2排列。

在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，各第1辅助图案rmb具有沿第1方向dr1延伸的矩形状。各第1辅助图案rmb具有与由该第1辅助图案rmb形成的辅助凹部31c所划分的区域大致相似的形状。在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下，在第2方向dr2上相互相邻的两个第1图案rma之间配置有一个第1辅助图案rmb。

通过使用了这样的第1抗蚀剂掩模rm1的蚀刻，能够形成大孔hl和在第2方向dr2上连接于相互相邻的2个大孔hl的辅助凹部31c。另外，在形成多个小孔hs时，作为第2抗蚀剂掩模rm2，使用在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下形成有多个图案的抗蚀剂掩模。第2抗蚀剂掩模rm2所具有的图案与第1图案rma大致相似，并且沿第1方向dr1以及第2方向dr2的各个方向排列。

在使用上述蒸镀掩模30来制造显示装置的方法中，首先，将搭载有蒸镀掩模30的掩模装置10安装于蒸镀装置的真空槽内。此时，以使玻璃基板等的蒸镀对象与掩模背面30r对置、并且蒸镀源与掩模表面30f对置的方式，将掩模装置10安装于真空槽内。然后，向蒸镀装置的真空槽搬入蒸镀对象，利用蒸镀源使蒸镀物质升华。由此，在与背面开口hr对置的蒸镀对象上形成具有跟随于背面开口hr的形状的图案。蒸镀物质例如是构成显示装置的像素的有机发光材料、构成显示装置的像素电路的像素电极材料等。另外，通过使用了掩模装置10所含的蒸镀掩模30的蒸镀而形成显示装置所具有图案的工序是图案形成工序。

[实施例]

准备具有30μm的厚度的因瓦合金制的片材30s1。然后，使用片材30s1制造了以下说明的实施例1、实施例2、比较例1、以及比较例2的蒸镀掩模。

[实施例1]

通过第2抗蚀剂层pr2的曝光以及显影，分别沿第1方向dr1以及第2方向dr2排列地形成了在与掩模背面30r对置的俯视下具有大致正八边形状的多个图案。通过第1抗蚀剂层pr1的曝光以及显影，分别沿第1方向dr1以及第2方向dr2排列地形成了在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下具有大致八边形状的多个第1图案rma。另外，以使在沿第1方向dr1排列的两个第1图案rma之间排列有各两个第1辅助图案rmb的方式形成了在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下具有沿第2方向dr2延伸的矩形状的多个第1辅助图案rmb。由此，获得了第1抗蚀剂掩模rm1以及第2抗蚀剂掩模rm2。

使用第1抗蚀剂掩模rm1以及第2抗蚀剂掩模rm2，在片材30s1形成了多个掩模孔31h。由此，获得了与上述蒸镀掩模30的第1例对应的实施例1的蒸镀掩模30。在实施例1的蒸镀掩模30中，大孔hl的形状以及各部中的尺寸如以下记载。

即，如图14所示，认定大孔hl的内表面具有2段的圆弧状。另外，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面中，将第1方向dr1上包含一个大孔hl的宽度、换言之是大孔hl的间距设定为第1宽度w1，将第1方向dr1上的背面开口hr的宽度设定为第2宽度w2。而且，将背面开口hr间的宽度设定为第3宽度w3。

在与掩模表面30f对置的俯视下，在掩模部31设定1边的长度为2.8mm的正方形的测定区域，测定了以下的13个位置处的第1宽度w1、第2宽度w2、第3宽度w3、锥形角度θ、以及台阶高度sh。即，在测定区域中，将测定区域的中心设定为测定点，在穿过测定区域的中心并且沿第1方向dr1延伸的直线上，设定了夹着测定区域的中心的两个测定点。另外，在穿过测定区域的中心并且沿第2方向dr2延伸的直线上，设定了夹着测定区域的中心的两个测定点。而且，在通过测定区域的中心的2条对角线的每一个上，在相对于测定区域的中心的一侧设定了两个测定点，并且在相对于测定区域的中心的另一侧设定了两个测定点。另外，在各测定点所在的直线上，将两个测定点间的距离设定为相同的值。此外，以下，将13个测定点处的锥形角度θ的平均值设定为各实施例以及各比较例中的锥形角度θ。而且，以下，将13个测定点处的台阶高度sh的平均值设定为各实施例以及各比较例中的台阶高度sh。

在实施例1的蒸镀掩模30中，认定第1宽度w1为140μm，第2宽度w2为75μm，第3宽度w3为65μm，锥形角度θ为36°，台阶高度sh为0.5μm。另外，认定大孔hl具有从中央开口hc朝向表面开口hf扩展的阶梯面、以及大孔hl包含主孔31h1和在第1方向dr1上夹着主孔31h1的两个辅助凹部31h2。另外，认定在同一测定点中，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面上，锥形角度θ是57°。

[比较例1]

除了第1抗蚀剂掩模rm1仅具有多个第1图案rma以外，使用与上述实施例1相同的方法，制造了比较例1的蒸镀掩模40。

如图15所示，在比较例1的蒸镀掩模40中，认定第1宽度w1、第2宽度w2、第3宽度w3、以及台阶高度sh分别是与实施例1的蒸镀掩模30相同的值。与此相对，在比较例1的蒸镀掩模40中，认定锥形角度θ为55°。另外，将测定各值时的条件设定为与实施例1相同的条件。另外，认定各掩模孔的内表面具有圆弧状，另一方面却不具有阶梯面。另外，认定在同一测定点，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面上，锥形角度θ为57°。

[实施例2]

除了如以下那样变更第1抗蚀剂掩模rm1所具有的第1图案rma以及第1辅助图案rmb以外，使用与实施例1相同的方法，制造了实施例2的蒸镀掩模30。即，分别沿第1方向dr1以及第2方向dr2排列地在第1抗蚀剂掩模rm1形成了在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下具有沿第1方向dr1延伸的大致八边形状的多个第1图案rma。另外，在第2方向dr2上相互相邻的第1图案rma之间形成了一个在与抗蚀剂表面rmf对置的俯视下具有沿第1方向dr1延伸的矩形状的第1辅助图案rmb。另外，实施例2的蒸镀掩模30是与上述蒸镀掩模30的第2例对应的蒸镀掩模。

如图16所示，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第2方向dr2延伸的平面的剖面中，将第2方向dr2上包含一个大孔hl的宽度、换言之是大孔hl的间距设定为第4宽度w4，将第2方向dr2上的背面开口hr的宽度设定为第5宽度w5。而且，将背面开口hr间的宽度设定为第6宽度w6。

在实施例2的蒸镀掩模30中，认定第4宽度w4为140μm，第5宽度w5为90μm，第6宽度为50μm，锥形角度θ为36°，台阶高度sh为0.6μm。另外，将测定各值时的条件设定为与实施例1相同的条件。另外，认定在与掩模表面30f对置的俯视下在第2方向dr2上相邻的两个表面开口hf之间，形成有与各表面开口hf相连的辅助凹部31c。另外，认定在同一测定点，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面上，锥形角度θ是33°。

[比较例2]

除了第1抗蚀剂掩模rm1仅具有多个第1图案rma以外，使用与上述实施例2相同的方法，制造了比较例2的蒸镀掩模50。

如图17所示，在比较例2的蒸镀掩模50中，认定第4宽度w4、第5宽度w5、第6宽度w6、以及台阶高度sh分别是与实施例2的蒸镀掩模30相同的值。与此相对，在比较例2的蒸镀掩模50中，认定锥形角度θ为58°。另外，将测定各值时的条件设定为与实施例1相同的条件。另外，认定在与掩模表面对置的俯视下，多个表面开口排列，另一方面，认为没有位于两个表面开口之间的辅助凹部。另外，认定在同一测定点中，在沿着与掩模表面30f正交并且沿第1方向dr1延伸的平面的剖面上，锥形角度θ为32°。

[评价]

如上述那样，认定为根据大孔hl具备主孔31h1与辅助凹部31h2的蒸镀掩模30，与不具有辅助凹部的蒸镀掩模40相比，能够减小锥形角度θ。另外，认定为根据在两个大孔hl之间配置有辅助凹部31c的蒸镀掩模30，与未配置辅助凹部31c的蒸镀掩模50相比，能够减小锥形角度θ。即，认定为根据蒸镀掩模30，通过减小锥形角度θ，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔31h的蒸镀粒子的入射角度的限制。

根据上述实施方式，能够获得以下记载的效果。

(1)由于扩展的阶梯面使表面开口hf的边缘e扩大，因此与不具有阶梯面的掩模孔31h相比，能够减小锥形角度θ。由此，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔31h的蒸镀粒子的入射角度的限制。

(2)由于阶梯面在与表面正交的剖面上具有圆弧状，因此适合通过湿式蚀刻形成各段。

(3)表面开口hf的边缘e的一部分具有通过与辅助凹部31c的连接而从掩模表面30f凹陷的形状。因此，与不具有辅助凹部31c的掩模孔31h相比，能够减小锥形角度θ。由此，能够减小对于蒸镀粒子能够穿过掩模孔31h的蒸镀粒子的入射角度的限制。

(4)表面开口hf的边缘e中的边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。因此，与不具备边界部hb的构成相比，在辅助凹部31c以外的区域也能够减小锥形角度θ。

(5)在相互相邻的中央开口hc之间的距离最小的部位，能够获得基于边界部hb的锥形角度θ，在相互相邻的中央开口hc之间的距离更大的部位，能够获得基于辅助凹部31c的较小的锥形角度θ。因此，在增大相互相邻的中央开口hc的距离的设计中，也能够实现较小的锥形角度θ。

另外，上述实施方式能够如以下那样适当变更来实施。

[第1例的变形例]

·也可以如图18所示，表面开口hf的边缘e中的第2部e2具备与和该表面开口hf相邻的其他表面开口hf的第2部e2合并在一起而成的边界部hb，边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。即，也可以是，在蒸镀掩模30的第1例中，掩模孔31h也具有与蒸镀掩模30的第2例所具有的边界部hb同等的边界部hb。根据这样的构成，能够获得以下记载的效果。

(6)由于表面开口hf的边缘e中的边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状，因此与不具备边界部hb的构成相比，在阶梯面以外的区域也能够减小锥形角度θ。

·也可以是，在掩模孔31h具备边界部hb的构成中，在与掩模表面30f对置的俯视下，边界部hb包含中央开口hc的周围中相互相邻的中央开口hc之间的距离最小的部位。即，也可以是，在蒸镀掩模30的第1例中，例如也与蒸镀掩模30的第2例相同，第1距离d1比第2距离d2小，并且利用第1方向dr1上相互相邻的两个掩模孔31h形成边界部hb。根据这样的构成，能够获得以下记载的效果。

(7)在相互相邻的中央开口hc之间的距离最小的区域，能够获得基于边界部hb的较小的锥形角度θ，在相互相邻的中央开口hc之间的距离更大的部位，能够获得基于阶梯面的较小的锥形角度θ。因此，在相互相邻的中央开口hc之间的距离大的设计中，也能够实现较小的锥形角度θ。

·也可以如图19所示，表面开口hf的边缘e中的第1部e1具备与和该表面开口hf相邻的其他表面开口hf的第1部e1合并在一起而成的边界部hb，边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。即，例如也可以是，一个表面开口hf所含的辅助凹部31h2的边缘、与和该表面开口hf在第1方向dr1上相邻的其他表面开口hf所含的辅助凹部31h2的边缘合并在一起，从而形成边界部hb。换言之，蒸镀掩模30的第2例中的边界部hb也可以应用于在第1方向dr1上相互相邻的两个辅助凹部31h2之间。根据这样的构成，能够获得以下记载的效果。

(8)表面开口hf的边缘e中的边界部hb具有从掩模表面30f凹陷的形状。因此，与不具备边界部hb的构成相比，能够减小锥形角度θ。

·也可以是，各掩模孔31h在与掩模表面30f对置的俯视下具有位于第2方向dr2上相互相邻的掩模孔31h间的凹陷。在这种构成中，各掩模孔31h可以具有一个凹陷，也可以具有在第2方向dr2上夹着表面开口hf的两个凹陷。根据这样的构成，能够在第2方向dr2上获得基于上述(1)的效果。

·掩模孔31h的内表面也能够具有遍及表面开口hf的整周的阶梯面。在形成遍及表面开口hf的整周的阶梯面时，在第1抗蚀剂掩模rm1形成遍及第1图案rma的整周的第1辅助图案，并形成遍及表面开口hf的整周的环状的辅助凹部。

·中央开口hc也可以位于掩模背面30r。换言之，各掩模孔31h也可以是具备表面开口hf与背面开口hr、另一方面不具备中央开口hc的构成。在这种情况下，表面开口hf是大开口的一个例子，背面开口hr是小开口的一个例子。换句话说，各掩模孔31h也可以是具备大孔hl的内表面、另一方面不具备小孔hs的内表面的构成。另外，在这种构成中，在将背面开口hr的边缘和大孔hl的内表面中的一点连结的直线之中，与基准线bl一起形成的角度最大的直线是倾斜线ol。根据这样的构成，能够获得以下记载的效果。

(9)由于作为小开口的一个例子的背面开口hr位于掩模背面30r，因此能够仅在掩模表面30f侧进行从表面开口hf至背面开口hr的加工。

[第2例的变形例]

·各掩模孔31h也可以不具备边界部hb。换言之，也可以是，在与掩模表面30f对置的俯视下，第1方向dr1上相互相邻的掩模孔31h彼此分离。

·第1方向dr1上的掩模孔31h间的距离和第2方向dr2上的掩模孔31h间的距离也可以彼此相等。

·中央开口hc也可以位于掩模背面30r。换言之，各掩模孔31h也可以是具备表面开口hf与背面开口hr、另一方面不具备中央开口hc的构成。在这种情况下，表面开口hf是大开口的一个例子，背面开口hr是小开口的一个例子。换句话说，各掩模孔31h也可以是具备大孔hl的内表面、另一方面不具备小孔hs的内表面的构成。另外，在这种构成中，在将背面开口hr的边缘和大孔hl的内表面中的一点连结的直线之中，与基准线bl一起形成的角度最大的直线是倾斜线ol。根据这样的构成，能够获得基于上述(9)的效果。

[其他变形例]

·蒸镀掩模30也可以是具备至少一个掩模部和具有将掩模部包围的矩形框状的掩模框架、且掩模部接合于掩模框架的构成。在这种构成中，多个掩模孔也可以形成于掩模部。

·也可以通过对片材30s1照射激光光线，从而在片材30s1形成多个掩模孔31h。

附图标记说明

10…掩模装置，20…主框架，21…主框架孔，30、40、50…蒸镀掩模，30f…掩模表面，30r…掩模背面，30s…掩模片材，30s1…片材，31…掩模部，31c、31h2…辅助凹部，31h…掩模孔，31h1…主孔，32…外周部，c1…第1曲率中心，c2…第2曲率中心，ca…弧状部，ca1…第1圆弧，ca2…第2圆弧，cc1…第1曲率圆，cc2…第2曲率圆，e…边缘，e1…第1部，e2…第2部，hb…边界部，hc…中央开口，hco…连接部，hf…表面开口，hl…大孔，hr…背面开口，hs…小孔，pl1…第1保护层，pl2…第2保护层，pr1…第1抗蚀剂层，pr2…第2抗蚀剂层，rc1…第1曲率半径，rc2…第2曲率半径，rm1…第1抗蚀剂掩模，rm2…第2抗蚀剂掩模，rma…第1图案，rmb…第1辅助图案，rmf…抗蚀剂表面，sh…台阶高度。