1.一种等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，包括：
腔室(1)，设有进气口；
第一电极板(2)和第二电极板(3)，相向间隔设置在所述腔室(1)内部，且所述第一电极板(2)与射频电源连接，所述第二电极板(3)接地，所述第一电极板(2)上成型有多个允许通过所述进气口进入所述腔室(1)中的气体通过的第一通孔(21)；
多个移动组件(4)，所述移动组件(4)包括可在所述第一电极板(2)表面运动的板体(41)和与所述板体(41)连接、用于驱动所述板体(41)运动的驱动件(42)，所述板体(41)具有在所述驱动件(42)的作用下运动至部分覆盖所述第一通孔(21)的遮挡位置和在所述驱动件(42)的作用下运动至使所述第一通孔(21)完全暴露的敞开位置。
2.根据权利要求1所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，相邻两个板体(41)之间预留有间隙。
3.根据权利要求2所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述板体(41)上成型有多个与所述第一通孔(21)孔径相同的第二通孔(411)，且所述第二通孔(411)和所述第一通孔(21)一一对应设置，所述板体(41)具有在所述驱动件(42)的作用下运动至使所述第二通孔(411)部分偏离所述第一通孔(21)的第一位置和在所述驱动件(42)的作用下运动至使所述第二通孔(411)和所述第一通孔(21)完全对齐的第二位置。
4.根据权利要求1－3任一项所述的等离子体增加化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述移动组件(4)设于所述第一电极板(2)远离所述第二电极板(3)的上表面。
5.根据权利要求4所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述驱动件(42)为设于所述腔室(1)侧壁的多个伸缩杆，所述伸缩杆的另一端设于所述板体(41)的侧壁上。
6.根据权利要求5所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，每一个所述板体(41)的侧壁上至少设有一对伸缩杆，一对伸缩杆相对于所述板体(41)的与所述伸缩杆的运动方向平行的轴线对称设置。
7.根据权利要求4所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述驱动件(42)为设于所述腔室(1)顶壁的多个移动杆，所述移动杆的另一端设于所述板体(42)的上表面中央。
8.根据权利要求1－7任一项所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述板体(41)为第三电极板，所述第三电极板与所述第一电极板(2)靠近的表面涂覆有耐热耐磨材料。
9.根据权利要求8所述的等离子体增强化学气相沉积的腔室结构，其特征在于，所述耐热耐磨材料为特氟龙。
10.一种等离子体增强化学气相沉积设备，其特征在于，包括权利要求1－9任一项所述的腔室结构。