技术特征：
1.一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：包括坩埚，其外侧设有感应加热器，坩埚顶部通过蒸汽管道连有布流箱体，布流箱体内设有一水平向的隔板，布流箱体顶部连有喷嘴，蒸汽管道上设有调压阀；所述隔板，包括分压板，及连于其上表面的过滤板，分压板和过滤板均为多孔结构；所述分压板设置为分段式结构，其正对蒸汽管道的位置为d1段，分别位于d1段两侧的d2、d3段，位于d2旁的d4段，及位于d3段旁的d5段。2.如权利要求1所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述分压板上每段的长度与蒸汽管道的直径d关系如下：d1段的长度＝(1.0～1.5)d；d2、d3段的长度＝(1.0～2.0)d；d4、d5段的长度＝(1.0～3.0)d。3.如权利要求1所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述分压板上的孔形状为矩形、圆形、三角形、梯形或者是狭缝形。4.如权利要求1所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述稳压板上的孔隙总面积与蒸汽管道和坩埚顶部连接位置面积之比大于等于0.1，即：s
孔隙总面积
/s
出口
≥0.1。5.如权利要求4所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述稳压板上的孔形状为矩形、圆形或三角形。6.如权利要求5所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述稳压板上孔隙的走向为直线、曲线或者多层结构。7.如权利要求1所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述喷嘴出口设置为狭缝型或多孔型，且蒸汽管道和坩埚顶部连接位置面积与喷嘴出口面积之比大于等于0.05～5，即：s
出口
/s
入口
≥0.05～5。8.如权利要求7所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述狭缝型喷嘴出口设置为直线形或者曲线形。9.如权利要求7所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述多孔型喷嘴出口设置为矩形、圆形或梯形。10.如权利要求7所述一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置，其特征在于：所述喷嘴为石墨、陶瓷或者金属材质制成。