金属蚀刻液及金属蚀刻方法与流程

文档序号:29922644发布日期:2022-05-07 09:40阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种金属蚀刻液,其特征在于,包括:5至30wt%的氧化剂;2.5至15wt%的氨基酸;2.5至15wt%的磷酸盐;2.5至15wt%的非氨基酸类羧酸;以及余量的水,其中,所述氧化剂包括过氧化氢及过硫酸盐,且所述过氧化氢及所述过硫酸盐的使用重量比介于1:1.5至1:5。2.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述过硫酸盐包括:由过硫酸钠、过硫酸钾、过硫酸铵、过硫酸氢钠、过硫酸氢钾和过硫酸氢铵所组成的群组中选出的至少一种。3.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述氨基酸包括:由亚氨基二乙酸、亚氨基二丁酸、氨基三乙酸、氨基甲酸、氨基丁酸、乙二胺四乙酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二乙烯三胺五乙酸、氨基三亚甲基膦酸、1-羟基亚乙基-1,1-二磷酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、亮氨酸、异亮氨酸、肌氨酸、丙氨酸、谷氨酸、赖氨酸、蛋氨酸、苯丙氨酸、谷氨酰胺、甘氨酸、胱氨酸、丝氨酸、精氨酸、天门冬氨酸和天冬酰胺所组成的群组中选出的至少一种。4.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述磷酸盐包括:由磷酸钠、磷酸钾、磷酸铵、磷酸氢二钠、磷酸氢二钾、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸二氢钾、磷酸二氢铵所组成的群组中选出的至少一种。5.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,所述非氨基酸类羧酸包括:由2-羟基丁二酸、乙二酸、甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、十二烷酸、十六烷酸、十四烷酸、硬脂酸、乙醇酸、丁二酸、二甘醇酸、己二酸、反乌头酸、水杨酸、丙二酸、丙烷-1,2,3-三羧酸、丙酮酸、戊二酸、乳酸、亚甲基丁二酸、亚麻油酸、亚麻酸、油酸、苯乙醇酸、苯甲酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、酒石酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、羟基丁酸和柠檬酸所组成的群组中选出的至少一种。6.根据权利要求1所述的金属蚀刻液,其特征在于,还包括:0.01至0.1wt%的唑类化合物,所述唑类化合物包括:由吡唑、咪唑、恶唑、苯并吡唑、苯并咪唑、1,2,4-三唑、3-氨基-1,2,4-三唑、苯并三唑、甲基苯并三唑、羟甲基苯并三唑、四唑、5-甲基四唑、5-苯基四唑、5-氨基四唑和氯化三苯基四唑所组成的群组中选出的至少一种。7.一种金属蚀刻方法,其特征在于,包括:准备步骤,提供基板,且所述基板上包括金属层膜及遮蔽所述金属层膜的屏蔽膜;以及蚀刻步骤,使用根据权利要求1至6中任一项所述的金属蚀刻液对所述金属层膜中未被所述屏蔽膜遮蔽的部分进行蚀刻,其中,所述金属层膜包括由铜及钼所组成的群组中选出的至少一种或其合金。8.根据权利要求7所述的金属蚀刻方法,其特征在于,所述金属层膜至少包括第一金属层和第二金属层,且所述第一金属层包括铜或其合金,所述第二金属层包括钼或其合金。9.根据权利要求8所述的金属蚀刻方法,其特征在于,所述金属蚀刻液对所述第一金属层的蚀刻速率为70至且对所述第二金属层的蚀刻速率为15至10.根据权利要求7所述的金属蚀刻方法,其特征在于,所述蚀刻步骤中所述金属蚀刻液的铜负载浓度在8000ppm以下。

技术总结
本发明提供了一种金属蚀刻液,包括:5至30wt%的氧化剂;2.5至15wt%的氨基酸;2.5至15wt%的磷酸盐;2至15wt%的非氨基酸类羧酸;以及余量的水。在本发明中,通过选用过氧化氢及过硫酸盐作为氧化剂,并将两者之间的使用重量比控制在1:1.5至1:5之间,使得金属蚀刻液可具有良好的蚀刻效率、使用寿命及安全性。使用寿命及安全性。使用寿命及安全性。


技术研发人员:许靖惟
受保护的技术使用者:宣城亨旺新材料有限公司
技术研发日:2020.11.03
技术公布日:2022/5/6
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