一种化学研磨液的供应系统的制作方法

本实用新型涉及化学机械研磨领域，具体是一种化学研磨液的供应系统。

背景技术：

随着我国集成电路产业蓬勃发展，对于芯片制造中用到化学机械研磨所需研磨液的供应设备日益剧增，传统一对一供应方式已经无法满足现今半导体产业的发展，我司在与客户的深入合作中得知对方企业在实际生产中的痛点，公司领导决定在现有设备基础上加大创新投入费用，研发出了能符合企业所需一对多模式的供应设备，进而满足研磨液的集中供应和方便设备保养。

技术实现要素：

本实用新型采用的技术方案,提供了一种化学研磨液的供应系统，主要包括骨架(101)、操控面板(102)、研磨液加湿装置(103)、研磨液自动配比装置(104)、研磨液存储箱体1(105)、研磨液存储箱体2(106)、研磨液搅拌装置(107)、供液泵a(109)和供液泵b(110)。该系统是由外部研磨原液和化学品液的供应管道通过研磨液自动配比装置(104)分别输送到研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)，研磨液存储箱体安装有液位传感器，当研磨液存储箱体达到设定液位时，研磨液自动配比装置(104)将停止供液；供液泵a(109)和供液泵b(110)在研磨液存储箱体达到安全液位(l)时就能正常启动供液输出系统；在设备运行过程中，研磨液加湿装置通过管道b(202)和控制阀选择性的给研磨液存储箱体输送保湿的氮气保证研磨液存储容器在一个恒定的环境下工作，进而最大限度的避免研磨液在干燥环境下造成结晶；在供液输出系统正常工作时，当研磨液存储箱体达到安全液位下限时研磨液配比程序就会自动循环工作。

进一步优化的是，所述研磨液搅拌装置(107)用于研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)定时搅拌防止研磨液中悬浮物质上下分层凝结。

进一步优化的是,所述供液泵a(109)通过管道d(204)、控制阀d(304)把研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)串联起来，且设有溢流管道且连接排废液管道c(203)和管道f(206)，在研磨液的供应输出2关闭的情况，研磨液存储箱体a(105)也可以为研磨液存储箱体b(106)供液，这样加大研磨液的供应输出1的存储量，为设备拓展提供先决条件。

进一步优化的是,所述供液泵a(109)和供液泵b(110)分别用于研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)的内部循环，具体通过管道d(204)、管道f(206)和控制阀c(303)、控制阀e(305)来实现研磨液存储箱体内部循环，并且可以单独控制的管道g(207)和管道h(208)供应研磨液到化学机械研磨设备，也可以在任何一台供液泵出现故障和保养的情况下，开启管道g(207)和管道h(208)之间的连接控制阀g(308)同时为研磨液的供应输出1和研磨液的供应输出2的研磨设备供液，通过对控制阀f(307)、控制阀i(310)切换控制，可以保证其中任何一组研磨液的供应输出在发生故障和保养时不需要停机，进而不会影响化学机械研磨设备连续的工作。

本实用新型的有益效果

本实用新型解决了半导体加工过程中研磨液的供应一对多模式，即一套研磨液供多台化学机械研磨设备同时工作的系统，研磨液的设备在发生故障和保养时不需要停机，在满足研磨液24小时供应的同时，也节省设备占用厂房的成本，为正在准备设备升级、迭代的企业提供优选解决方案。

附图说明

图1为本实用新型的化学研磨液的供应系统结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步说明，通过实施例的方式详细地描述本实用新型提供的化学研磨液的供应系统。

实施例一

请参阅附图1，本实施例是一种化学研磨液的供应系统，该系统是由外部研磨原液和化学品液的供应管道通过研磨液自动配比装置(104)、管道a(201)、控制阀a(301)、控制阀b(302)分别输送到研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)，研磨液存储箱体安装有液位传感器(hh、h、l、ll)，当研磨液存储箱体达到设定液位时，研磨液自动配比装置(104)将停止供液；研磨液加湿装置(103)通过管道b(202)上的控制阀选择性的给研磨液存储箱体输送保湿的氮气，进而最大限度的避免研磨液在干燥环境下造成结晶；研磨液搅拌装置(107)在研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)定时搅拌防止研磨液中悬浮物质上下分层凝结；启动供液泵a(109)和供液泵b(110)分别用于研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)的内部循环，具体通过管道d(204)、管道e(205)和控制阀c(303)、控制阀e(305)来实现研磨液存储箱体内部循环，并且单独控制的管道g(207)和管道h(208)供应研磨液到化学机械研磨设备，也可以实现在任何一台供液泵出现故障和保养的情况下，开启管道g(207)和管道h(208)之间的连接控制阀g(308)同时为研磨液的供应输出1和研磨液的供应输出2的研磨设备供液，通过对控制阀f(307)、控制阀i(310)切换控制，可以保证其中任何一组研磨液的供应输出在发生故障和保养时不需要停机，进而不会影响化学机械研磨设备连续的工作；当研磨液的供应输出1需要加大存储量时，可以启动供液泵a(109)通过管道d(204)、控制阀d(304)把研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)串联起来，在研磨液的供应输出2控制阀h(309)、控制阀i(310)关闭的情况下，研磨液存储箱体a(105)也可以为研磨液存储箱体b(106)供液，为化学机械研磨设备拓展提供先决条件。

在此需要说明的是，本实用新型描述中的术语“上”、“下”指示的位置是基于附图所示的位置关系，以上实施例仅用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定，有关技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化、修改、替换、整合和变型，因此所有等同的技术方案也应该属于本实用新型的范畴，应由权利要求所限定。

技术特征：

1.一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，主要包括骨架(101)、操控面板(102)、研磨液加湿装置(103)、研磨液自动配比装置(104)、研磨液存储箱体a(105)、研磨液存储箱体b(106)、研磨液搅拌装置(107)、供液泵a(109)和供液泵b(110)；所述研磨液加湿装置(103)通过管道b(202)连接到研磨液存储箱体b(106)；所述研磨液自动配比装置(104)通过管道a(201)连接到研磨液存储箱体a(105)；所述供液泵a(109)和供液泵b(110)既可以通过独立的管道g(207)和管道h(208)供应研磨液给化学机械研磨设备，也可以在任何一台供液泵出现故障的情况下，开启管道g(207)和管道h(208)之间的连接控制阀g(308)同时为研磨液的供应输出1和研磨液的供应输出2的研磨设备供液。

2.根据权利要求1所述一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，所述研磨液加湿装置(103)是用于给研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)中注入带有保湿的氮气。

3.根据权利要求1所述一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，研磨液自动配比装置(104)是用于配制混合所需化学研磨液。

4.根据权利要求1所述一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，研磨液搅拌装置(107)用于研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)定时搅拌防止研磨液中悬浮物质上下分层凝结。

5.根据权利要求1所述一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，供液泵a(109)和供液泵b(110)分别用于研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)的内部循环及输出研磨液到化学研磨设备。

6.一种化学研磨液的供应系统，其特征在于，供液泵a(109)通过管道d(204)、控制阀d(304)把研磨液存储箱体a(105)和研磨液存储箱体b(106)串联起来，在研磨液的供应输出2关闭的情况，研磨液存储箱体a(105)也可以为研磨液存储箱体b(106)供液，这样加大研磨液的供应输出1的存储量。

技术总结
本实用新型公开了一种化学研磨液的供应系统，具体涉及半导体制造领域。该系统主要包括骨架、操控面板、研磨液自动配比装置、研磨液存储箱体、研磨液搅拌装置、研磨液加湿装置、供液泵。所述研磨液自动配比装置是用于持续供给研磨液存储箱体所需的研磨液；研磨液加湿装置是用于给研磨液存储箱体中不断注入带有保湿的氮气，进而最大限度的避免研磨液在干燥环境下造成结晶。本实用新型解决了半导体加工过程中研磨液的供应一对多模式，即一套研磨液的供多台化学机械研磨设备同时工作的系统，在满足研磨液24小时供应的同时，很好的克服了因厂房面积局限造成无法扩大产能的客户，为企业设备升级、迭代的提供优选解决方案。

技术研发人员：罗保兴;杨凯
受保护的技术使用者：上海吉啸电子科技有限公司
技术研发日：2020.05.25
技术公布日：2021.03.23