1.一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，包括支撑架(1)，其特征在于：所述支撑架(1)的内部固定连接有安装架(2)，所述安装架(2)的内部开设有水槽(3)，所述水槽(3)的内部转动连接有扇叶(4)，所述扇叶(4)的下端固定连接有线圈(5)，所述水槽(3)靠近线圈(5)的侧壁固定连接有永磁体(6)，所述水槽(3)的下端固定连接有弹性腔(7)，所述弹性腔(7)的内部固定连接有磁块(8)，所述弹性腔(7)的内部转动连接有活动连杆(9)，所述活动连杆(9)远离弹性腔(7)的一端转动连接有挡板(10)，所述弹性腔(7)的侧面固定连接有软管(11)，所述软管(11)远离弹性腔(7)的一端固定连接有支撑杆(12)，所述支撑杆(12)的侧面固定连接有弹簧气囊(13)，所述弹簧气囊(13)的内部固定连接有复位弹簧(14)，所述支撑杆(12)的内部固定连接有电磁杆(15)，所述弹簧气囊(13)的内部固定连接有滑槽(16)，所述滑槽(16)的内部滑动连接有活动腔(17)，所述滑槽(16)的内部固定连接有推杆(18)，所述推杆(18)的端部固定连接有金属触头(19)，所述活动腔(17)内部的侧壁固定连接有电阻条(20)，所述活动腔(17)端部的内部固定连接有磁铁(21)，所述弹性腔(7)的下端固定连接有水腔(22)，所述水腔(22)的内部滑动连接有滑板(23)，所述水腔(22)靠近滑板(23)的侧面固定连接有压力开关(24)，所述水腔(22)的侧壁固定连接有脉冲喷头(25)。
2.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述安装架(2)的底部固定连接有打磨块，打磨块的内部开设有通孔，通孔的内部固定连接有脉冲喷头(25)。
3.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述磁块(8)有两个，分别固定连接在弹性腔(7)内部的两端，且磁块(8)位于同一水平面上，磁块(8)的相近端为同名磁极。
4.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述永磁体(6)环绕在水槽(3)的内部，所述线圈(5)位于永磁体(6)的中间，线圈(5)通过电线与内部电路连接。
5.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述支撑杆(12)的一端转动连接在支撑架(1)的下表面，另一端转动连接在安装架(2)的上表面，所述弹簧气囊(13)与软管(11)连通。
6.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述金属触头(19)与内部电路连接，金属触头(19)滑动连接在电阻条(20)的表面，所述电阻条(20)通过电线与电磁杆(15)连接。
7.根据权利要求1所述的一种避免倾斜且能够降温清洁的晶圆打磨装置，其特征在于：所述电磁杆(15)与磁铁(21)位于同一竖线上，且电磁杆(15)与磁铁(21)的相近端为同名磁极，所述压力开关(24)通过电线与脉冲喷头(25)连接。