一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体为一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机。


背景技术：

2.真空镀膜是利用在一定的真空条件下，在真空腔室内，利用加热或放电，把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被镀的物体（称产品、基板、基片或基体）上沉积一层膜层的方法。沉积的膜层要与基体形成良好的膜基结合力，才能保证膜层不脱落。而要达到良好的膜基结合力，必须要保证被镀产品表面洁净，通常是在镀前对产品预清洁处理，放入真空腔体之后，开始沉积膜层之前，需要再次进行离子刻蚀清洗，通常是利用氩离子对工件进行轰击，解吸附掉产品表面吸附的气体分子，刻蚀掉表面微小的脏污或氧化层等，呈现出产品表面新鲜的表面，使沉积的膜层可以获得很好的膜基结合力。
3.常规的氩离子刻蚀轰击通常采用在产品上加上几百伏的负电位，使氩气电离，产生氩离子，由于氩离子带正电，产品上是负电位，所以氩离子会加速向产品运动直至轰击上区，产生刻蚀清洗的效果，而该种方式所产生的氩离子相对较少，因此对基片的刻蚀清洗效果相对较差，且效率较低，另外为了确保基片一侧面完整的镀膜一般采用悬挂或托盘承托夹持的方式对基片形成固定，不能便捷地对基片进行固定，且该种固定方式稳定性相对较差，容易影响其正常的使用。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机，包括底座、底座顶部一侧设有的机壳、机壳正面一侧铰接连接的大门，机壳顶部一侧设有进气口，底座顶部机壳后方设有分子泵，所述进气口和分子泵均与机壳相连通，所述机壳下方底座顶部嵌设有电机，所述电机输出端延伸至机壳内并连接有转轴，所述转轴穿过机壳内下部设有的第一支板，并连接有转架，所述机壳内第一支板上方转架的内侧设有内网，所述机壳内第一支板上方转架的外出对称设有外网，两所述外网的一端铰接连接，且两所述外网另一端通过连接机构相连接，所述转架包括机壳内外网上方转轴外壁上套设的第二支板，所述第二支板通过轴承与转轴转动连接，所述第二支板的上方转轴外壁上套设有主齿轮，所述主齿轮外侧连接有若干副齿轮。
6.进一步的，所述转架还包括机壳内外网与内网之间对应副齿轮位置由上到下依次设有的若干支杆，上下相邻所述支杆之间连接有与外网和内网相适配的固定架，靠近第二支板一侧的支杆上端穿过第二支板并与相对应的副齿轮相连接，所述固定架的顶部且位于支杆两侧对称设有拉杆，所述拉杆的下端延伸至固定架内侧并连接有夹持板，所述拉杆的上端连接有拉手，所述拉手与固定架顶部之间且位于拉杆外壁上套设有弹簧一，通过设有
的转架内的副齿轮和主齿轮之间的配合，从而使其驱动第二支板带动支杆进而带动固定架及其上安装的基片进行围绕转轴进行公转，同时支杆也会在副齿轮与主齿轮啮合作用下进行自转，使其更好地进行清洗，同时便于固定基片。
7.进一步的，所述连接机构包括两个外网远离铰接处一端上下错位设有的固定块，上方所述固定块的顶面设有插杆，所述插杆的下端贯穿两个所述固定块，所述插杆另一端连接有拉柄，所述拉柄与上方的固定块之间且位于插杆外壁上套设有弹簧二，通过设有的连接机构使得两个外网一端便于连接和拆分，以便取出内侧的固定架上放置的基片，使用更方便。
8.进一步的，所述外网和内网底端均通过绝缘底座与第一支板相连接所述转轴的一侧外网和内网之间内侧壁下部对应位置均设有导电端，所述导电端均通过导线分别与两个偏压电源的负极相连接，所述机壳内壁一侧与电源正极相连接，通过设有的外网和内网以及对外网和内网上分别连接有一个偏压电源的负极，从而提高对进入机壳内的氩气进行电离，使其产生更多的氩离子以便对产品进行轰击，从而提高对产品的刻蚀清洗功能，更好地提高膜基结合力，提高膜层质量，可以缩短离子刻蚀清洗的工艺时间，提高生产效率。
9.进一步的，所述机壳和大门内侧且位于转轴外侧套设有放置板，所述第一支板顶部开设有与放置板相适配的通槽，所述机壳内底部转轴两侧对称设有伸缩杆，所述伸缩杆的伸缩端与放置板底部固定连接，以便将放置板拉下从而便于更换放置溅射靶材。
10.进一步的，靠近所述第一支板一侧的支杆的下端通过轴承转动连接有连接头，所述连接头内侧活动安装有滚球，所述第一支板顶部开设有与滚球相适配的环形轨槽，所述轨槽内底部嵌设安装有导电环片，所述导电环片与一个偏压电源的负极相连接，使其对支杆进行支撑，提高其稳定性，使其能够跟随其转动和移动。
11.与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：
12.1、本实用新型通过设有的第二支板、支杆、固定架、副齿轮、主齿轮、拉杆、夹持板、拉手和弹簧一配合转轴和电机的使用，使其产品能够进行公转同时进行自转，以便更好地对其进行刻蚀清洗，同时方便固定不同大小的基片，使用更方便，配合外网、内网和导电端以及外接的偏压电源负极，使其能够电离出更多的氩离子，使产品能够受到更多氩离子的轰击，从而增强对产品刻蚀清洗效果，更好地提高膜基结合力，提高膜层质量，可以缩短离子刻蚀清洗的工艺时间，提高生产效率；
13.2、本实用新型通过设有的固定块、插杆、拉柄和弹簧二配合两个外网的使用，使其方便两个外网之间的连接和拆分，以便取出内侧的产品，使用方便。
附图说明
14.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
15.图1是本实用新型的结构示意图；
16.图2是本实用新型大门内部的局部剖面结构示意图；
17.图3是本实用新型副齿轮与主齿轮之间的俯视结构示意图；
18.图4是本实用新型图1中a处的结构示意图；
19.图5是本实用新型图2中b的结构示意图；
20.图6是本实用新型固定架与拉杆之间的结构示意图；
21.图中：1、机壳；2、大门；3、底座；4、进气口；5、分子泵；6、电机；7、转轴；8、第一支板；9、转架；10、外网；11、内网；12、第二支板；13、支杆；14、固定架；15、副齿轮；16、主齿轮；17、拉杆；18、夹持板；19、拉手；20、弹簧一；21、连接头；22、滚球；23、放置板；24、伸缩杆；25、固定块；26、插杆；27、拉柄；28、弹簧二；29、导电端。
具体实施方式
22.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
23.如图1－图6所示的一种增强氩离子刻蚀清洗功能真空镀膜机，包括底座3、底座3顶部一侧设有的机壳1、机壳1正面一侧铰接连接的大门2，机壳1顶部一侧设有进气口4，底座3顶部机壳1后方设有分子泵5，进气口4和分子泵5均与机壳1相连通，通过进气口4向机壳1内输送氩气，机壳1的顶部粗箭头处即为进气口4，如附图1所示，进气口4位置可根据实际情况进行相应的更改，进气口4通过导管与外界的气罐相连接，机壳1下方底座3顶部嵌设有电机6，电机6输出端延伸至机壳1内并连接有转轴7，转轴7穿过机壳1内下部设有的第一支板8，并连接有转架9，机壳1内第一支板8上方转架9的内侧设有内网11，机壳1内第一支板8上方转架9的外出对称设有外网10，两外网10的一端铰接连接，且两外网10另一端通过连接机构相连接，本示例中，转架9和外网10的材料可以是铜、铝、钛、不锈钢等导电金属，使其绝缘与真空腔室及转架9，转架9包括机壳1内外网10上方转轴7外壁上套设的第二支板12，第二支板12通过轴承与转轴7转动连接，第二支板12的上方转轴7外壁上套设有主齿轮16，主齿轮16外侧连接有若干副齿轮15，若干副齿轮15呈圆周等距阵列方式分布设置。
24.本示例中，转架9还包括机壳1内外网10与内网11之间对应副齿轮15位置由上到下依次设有的若干支杆13，上下相邻支杆13之间连接有与外网10和内网11相适配的固定架14，靠近第二支板12一侧的支杆13上端穿过第二支板12并与相对应的副齿轮15相连接，固定架14的顶部且位于支杆13两侧对称设有拉杆17，拉杆17的下端延伸至固定架14内侧并连接有夹持板18，拉杆17的上端连接有拉手19，拉手19与固定架14顶部之间且位于拉杆17外壁上套设有弹簧一20，通过设有的转架9内的副齿轮15和主齿轮16之间的配合，从而使其驱动第二支板12带动支杆13进而带动固定架14及其上安装的基片进行围绕转轴7进行公转，同时支杆13也会在副齿轮15与主齿轮16啮合作用下进行自转，使其更好地进行清洗，同时便于固定基片。
25.本示例中，连接机构包括两个外网10远离铰接处一端上下错位设有的固定块25，上方固定块25的顶面设有插杆26，插杆26的下端贯穿两个固定块25，插杆26另一端连接有拉柄27，拉柄27与上方的固定块25之间且位于插杆26外壁上套设有弹簧二28，外网10为半圆形环结构，转架9为圆环形结构，通过设有的连接机构使得两个外网10一端便于连接和拆分，以便取出内侧的固定架14上放置的基片，使用更方便。
26.本示例中，外网10和内网11底端均通过绝缘底座与第一支板8相连接转轴7的一侧外网10和内网11之间内侧壁下部对应位置均设有导电端29，导电端29均通过导线与一个偏
压电源负极相连接，机壳1内壁一侧与电源正极相连接，机壳1内接地处理，通过设有的外网10和内网11以及对外网10和内网11上分别连接有一个偏压电源的负极，从而提高对进入机壳1内的氩气进行电离，使其产生更多的氩离子以便对产品进行轰击，从而提高对产品的刻蚀清洗功能，更好地提高膜基结合力，提高膜层质量，可以缩短离子刻蚀清洗的工艺时间，提高生产效率，本示例中采用对转架9、外网10和内网11均连接有一个负偏压系统，提高对氩气的电离，负偏压系统即指将电源的负极与转架9、外网10和内网11之间分别相接通，同时电源正极与机壳1内壁相连接，并且将真空腔室即机壳1的内部接地处理，输入电压可调即为负偏压。
27.本示例中，机壳1和大门2内侧且位于转轴7外侧套设有放置板23，第一支板8顶部开设有与放置板23相适配的通槽，机壳1内底部转轴7两侧对称设有伸缩杆24，伸缩杆24的伸缩端与放置板23底部固定连接，在放置板23顶部对称放置有溅射靶材，在机壳1内侧壁两侧对称设有溅射靶材，放置板23上的溅射靶材与机壳1内设有的溅射靶材相对应，溅射靶材为柱状，本示例中溅射靶材为现有技术，不做详细描述，放置板23上的溅射靶材未画出，以便将放置板23拉下从而便于更换放置溅射靶材。
28.本示例中，靠近第一支板8一侧的支杆13的下端通过轴承转动连接有连接头21，连接头21内侧活动安装有滚球22，第一支板8顶部开设有与滚球22相适配的环形轨槽，轨槽内底部嵌设安装有导电环片，导电环片与一个偏压电源的负极相连接，使其对支杆13进行支撑，提高其稳定性，使其能够跟随其转动和移动。
29.本示例中，外网10和内网11均采用铜、铝、钛、不锈钢等导电金属，以便对转架9和真空腔室绝缘，转架9也采用导电材质，以便使得对产品导电，使其带有负电压，外网10和内网11分别距离产品3厘米左右，金属网的厚度1-3mm，孔的直径在2cm左右，孔心间距3-4cm左右，在真空室内通入ar气同时使装置真空度控制在1-3帕左右，负偏压处于－600-1200v之间。
30.本实用新型的工作原理：使用时，通过将上拉拉手19带动拉杆17同步移动，从而配合固定架14拉伸弹簧一20，同时带动拉杆17移动，之后将需要夹持固定的基片放置到夹持板18与固定架14内底部之间，之后，缓慢的释放对拉手19的拉力，使得拉手19在弹簧一20作用下进行复位，同时带动拉杆17推动夹持板18复位，进而使得夹持板18配合固定架14夹持固定基片，之后翻转前方的外网10，使得两个外网10相连接，拉动拉柄27带动插杆26移动，使得拉柄27配合固定块25拉伸弹簧二28，直至将插杆26一端移至下方固定块25的上方，之后翻转外网10使得两个固定块25一侧面相贴合，之后释放对拉柄27的拉力，使得拉柄27在弹簧二28的作用下进行复位运动，从而使得插杆26进行复位运动，使得插杆26一端穿过下方固定块25上的孔，实现两个外网10的连接固定，拆分时只需重复上述操作使得插杆26拉出下方固定块25上方即可；之后将导电端29和导电环片均连接一个偏压电源的负极，同时使得机壳1内腔室可连接电源正极同时进行接地处理，关闭机壳1和大门2，通过分子泵5将机壳1与大门2内部抽真空，之后通过气罐将氩气通过进气口4对机壳1内输送，将装置内真空度控制在1-3帕左右，同时对负偏压的电压控制在600-1200v，同时启动电机6带动转轴7和转架9转动，通过在负偏压的作用下，外网10、内网11、转架9附近都会产生辉光放电，从而对氩气电离，被电离的氩离子会加速向产品及转架9和外网10轰击，由于有3套电源在工作，真空室内的被电离的氩离子数量远远大于常规只在产品上加偏压的状况，并且可以通过调
整不同偏压的大小，使电子在转架9和外网10之间震荡，电子的运动轨迹变多，与氩气碰撞电离的机会就越多，从而产生更多氩离子，更多的氩离子轰击产品从而带来更好的清洗刻蚀效果，同时转轴7会带动主齿轮16同步转，使得主齿轮16与副齿轮15啮合从而驱动副齿轮15围绕主齿轮16转，从而使其带动支杆13进而带动第二支板12围绕转轴7进行转动，同时支杆13进行自转并带动固定架14同步转动，使得产品进行转动实现翻面，从而能够对其两面进行刻蚀清洗，使其时刻清洗更方便，同时支杆13会带动连接头21和滚球22移动，使得滚球22在轨槽内滚动，同时连接头21与支杆13转动连接使其不影响其自转，该装置通过设有外网10和内网11和转架9连接三个偏压电源负极，使其电离产生更多的氩离子，从而更好地对产品表面刻蚀清洗，提高清洗效果，更好地提高膜基结合力，提高膜层质量，可以缩短离子刻蚀清洗的工艺时间，提高生产效率，同时也便于固定产品，使得产品公转同时自转能够同时对双面进行清洗，使用更方便，通过该装置对产品进行15-30分钟左右时间即可完成对产品的清洗。
31.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。