本技术涉及溅射靶材制备，特别是涉及一种制备溅射靶材的快速冷却装置。
背景技术：
1、溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材，在靶材镀膜时,会把靶材绑定在一个背靶上，用焊料将靶材与背靶焊接起来，主要由三种方式:压接、钎焊和导电胶，在平面溅射靶材的绑定过程中，需要对溅射靶材料升温至230°c～360℃，以达到绑定层的熔点，保持绑定层材料流动性，从而完成基片和背板之间的绑定结合，然后对绑定靶材进行冷却，待绑定层材料凝固稳定后，绑定工序完成，然后需要对绑定靶材进行冷却处理，现有的冷却方式一般是自然冷却，但耗时较长，容易导致生产效率低下。
2、例如公告号为cn211394612u的中国专利公开的一种平面溅射靶材快速冷却装置，其虽然解决了“在现有技术中存在一些具有冷藏室的冷却装置，通过冷媒的相态改变以及流转，带走冷藏室内的热量，从而达到冷却效果。但是，这种冷却装置的冷却作用过于强烈，而靶材基片和背板的所选用的材料往往是不相同的，靶材基片和背板分别具有不同的膨胀系数，在靶材冷却过程中，容易使绑定靶材发生龟裂以及绑定层的损坏，而且这种冷却装置耗能巨大，增加了企业的生产成本，而且绑定靶材温度极高，转移困难”的问题，但现有技术中的托块不具有稳定效果，同时不能根据靶材大小进行调节，这就导致靶材在被降温冷却时，大小不能与托块配合使用，只能拥挤放置，导致冷却效果降低，为此我们提出一种制备溅射靶材的快速冷却装置。
技术实现思路
1、针对上述问题，本实用新型提供了一种制备溅射靶材的快速冷却装置，具有便于调节托架摆放位置的效果，从而适配靶材尺寸的效果。
2、本实用新型的技术方案是：
3、一种制备溅射靶材的快速冷却装置，包括水箱，所述水箱的顶面套设有顶盖，所述顶盖的顶面四角处均固定安装有支撑杆，四个所述支撑杆的顶面之间固定安装有一个冷却架，且冷却架呈四边形，所述冷却架的内壁沿长度方向设有至少四个托架，所述托架的两端均设有呈u形的滑架，且滑架的内壁与冷却架的上下表面紧密贴合，所述托架通过滑架滑动在冷却架的内壁，所述顶盖的顶面插设有至少五个吹风扇，每个所述吹风扇的抽风端均固定安装有位于水箱顶口的过滤片。
4、在进一步的技术方案中，所述托架的内壁两端均开设有插孔，所述插孔的内壁插设有转轴，所述冷却架的内壁两侧均开设有滑槽，所述转轴远离插孔的一端贯穿至滑槽内壁转动连接有滑轮，且托架的长度小于冷却架的内壁宽度。
5、在进一步的技术方案中，所述转轴远离五棱槽的一端顶面开设有五棱槽，所述五棱槽的顶面插设有五棱栓，所述五棱栓的顶面固定安装有直径大于五棱槽开口的挡块。
6、在进一步的技术方案中，所述托架呈镂空状，所述托架的内壁沿长度方向均匀分布有若干横条。
7、在进一步的技术方案中，所述水箱的四角处均设有支撑柱，所述支撑柱面朝水箱的一侧面开设有托槽，且托槽呈直角，并且托槽的内壁底面与水箱的底面边角处紧密贴合。
8、在进一步的技术方案中，所述滑槽呈凸型，所述滑轮活动于滑槽的开口内壁，所述转轴滚动于滑槽的槽内。
9、本实用新型的有益效果是：
10、1、通过设置冷却架内壁处滑动连接的托架，可以使托架在承载靶材时，能够沿着冷却架的长度方向进行移动，当靶材宽度较大时，能够直接将两个托架推到一起进行使用，同时刚好适配的靶材，可以由一个托架进行支撑；
11、2、通过设置托架的内壁两端均插设有转轴，并且转轴的一端转动连接有转动在滑槽内部的滑轮，可以使长度不足冷却架内壁宽度的托架具有可取下的效果，便于选择托架的使用数量。
1.一种制备溅射靶材的快速冷却装置，包括水箱(1)，其特征在于：所述水箱(1)的顶面套设有顶盖(2)，所述顶盖(2)的顶面四角处均固定安装有支撑杆(3)，四个所述支撑杆(3)的顶面之间固定安装有一个冷却架(4)，且冷却架(4)呈四边形，所述冷却架(4)的内壁沿长度方向设有至少四个托架(5)，所述托架(5)的两端均设有呈u形的滑架(6)，且滑架(6)的内壁与冷却架(4)的上下表面紧密贴合，所述托架(5)通过滑架(6)滑动在冷却架(4)的内壁，所述顶盖(2)的顶面插设有至少五个吹风扇(8)，每个所述吹风扇(8)的抽风端均固定安装有位于水箱(1)顶口的过滤片(9)。
2.根据权利要求1所述的一种制备溅射靶材的快速冷却装置，其特征在于：所述托架(5)的内壁两端均开设有插孔(13)，所述插孔(13)的内壁插设有转轴(12)，所述冷却架(4)的内壁两侧均开设有滑槽(10)，所述转轴(12)远离插孔(13)的一端贯穿至滑槽(10)内壁转动连接有滑轮(11)，且托架(5)的长度小于冷却架(4)的内壁宽度。
3.根据权利要求2所述的一种制备溅射靶材的快速冷却装置，其特征在于：所述转轴(12)远离五棱槽(14)的一端顶面开设有五棱槽(14)，所述五棱槽(14)的顶面插设有五棱栓(15)，所述五棱栓(15)的顶面固定安装有直径大于五棱槽(14)开口的挡块(16)。
4.根据权利要求1所述的一种制备溅射靶材的快速冷却装置，其特征在于：所述托架(5)呈镂空状，所述托架(5)的内壁沿长度方向均匀分布有若干横条(7)。
5.根据权利要求1所述的一种制备溅射靶材的快速冷却装置，其特征在于：所述水箱(1)的四角处均设有支撑柱(17)，所述支撑柱(17)面朝水箱(1)的一侧面开设有托槽(18)，且托槽(18)呈直角，并且托槽(18)的内壁底面与水箱(1)的底面边角处紧密贴合。
6.根据权利要求2所述的一种制备溅射靶材的快速冷却装置，其特征在于：所述滑槽(10)呈凸型，所述滑轮(11)活动于滑槽(10)的开口内壁，所述转轴(12)滚动于滑槽(10)的槽内。