一种蒸镀装置的制作方法

文档序号:34696250发布日期:2023-07-06 10:05阅读:105来源:国知局

本技术涉及蒸镀设备的,具体涉及一种蒸镀装置。


背景技术:

1、在oled蒸镀装置中,电阻式加热是当前最普遍、运用最广泛的蒸镀方式。现有的电阻式加热蒸镀装置通常包括加热舟、坩埚以及放置基片的基片夹,基片被基片夹固定后位于加热舟的上方,坩埚适于放置在加热舟内,且基片固定于基片夹后位于加热舟内坩埚的开口的上方。

2、上述的加热舟如图1所示,包括加热舟本体,加热舟本体上设有用于容纳坩埚的加热槽,加热槽相对的两个侧壁上设有加热件。加热槽呈u型,由加热舟本体弯折形成。蒸镀装置在蒸镀时,将加热舟的两端接上电极作为加热源,将坩埚放入加热舟中,蒸镀材料放入坩埚内,加热舟加热坩埚后使坩埚内的蒸镀材料从固态变为液态再变为蒸汽状态。在真空环境下,高速运动的气态分子向上到达基片上并在基片上固化成膜,从而实现蒸镀。

3、现有的坩埚如图2所示,包括坩埚本体,所述坩埚本体为圆柱体,内部形成圆柱形容纳空间。大部分蒸镀材料在蒸镀的过程中,由固态变为液态后具有较好的流动性,使蒸镀材料始终能够与坩埚的内壁接触而持续稳定蒸镀。但是对于一些性能特殊的材料,例如升华型材料,其一般为粉末状材料,在受热后,会直接由固态转变为气态分子。固态材料的流动性极差,在现有的坩埚中蒸镀一段时间后,如图3所示,靠近坩埚内壁的蒸镀材料会先变成气态分子蒸发掉,剩余的蒸镀材料无法与坩埚的内壁接触,造成蒸镀材料的蒸发速率不稳定,从而导致基片成膜不均匀。若要蒸镀装置维持一定的蒸镀速率稳定运行,则需要增加加热舟的温度以提高蒸镀材料的蒸发速率,但是这样可能会出现加热温度过高,导致蒸镀材料裂解、变质的问题。


技术实现思路

1、因此,本实用新型要解决的技术问题在于克服现有的坩埚在使用时,升华型的蒸镀材料蒸发速率不稳定,导致基片成膜不均匀的缺陷。

2、为此,本实用新型提供一种坩埚,包括:

3、坩埚本体,所述坩埚本体内设有凹槽;

4、所述凹槽的横截面的宽度由槽底至槽口逐渐增大。

5、可选的,所述凹槽的横截面的形状为圆形。

6、可选的,所述凹槽的内壁形状为倒圆台形。

7、可选的,所述坩埚本体为圆柱体,所述凹槽的轴线与所述坩埚本体的轴线相同。

8、可选的,所述凹槽侧壁的切面与所述坩埚本体侧壁的切面的夹角为10-30°。

9、本实用新型还提供高一种蒸镀装置,包括前述的坩埚。

10、可选的,蒸镀装置还包括:

11、加热舟,所述加热舟适于加热所述坩埚;

12、所述加热舟包括:

13、加热舟本体,所述加热舟本体上设有适于容纳所述坩埚的加热槽;

14、第一加热件,其沿加热槽的槽底至槽口的方向螺旋环绕在所述加热槽的侧壁上;

15、第二加热件,其环绕在所述加热槽的槽口。

16、可选的,所述加热槽为u型槽。

17、可选的,所述加热槽的内壁形状与所述坩埚本体的外壁形状配合。

18、可选的,蒸镀装置还包括支撑件,所述支撑件连接在所述支撑件侧壁的顶部。

19、本实用新型技术方案,具有如下优点:

20、1.本实用新型提供的一种坩埚,由于凹槽的横截面的宽度逐渐增大,使得凹槽的内壁形成斜坡。升华型的蒸镀材料在蒸镀过程中,由于材料本身的重力作用下沉,蒸镀材料始终能够充分的接触坩埚的内壁,使蒸镀材料蒸发速率稳定,基片成膜更均匀,也降低了为了维持升华型的蒸镀材料的蒸发速率而导致蒸镀材料裂解、变质的风险。

21、2.本实用新型提供的一种坩埚,倒圆台的内壁形状能够进一步降低凹槽内壁的阻力,使升华型的蒸镀材料能够充分下沉,进一步保证蒸镀材料与坩埚内壁的充分接触。

22、3.本实用新型提供的一种坩埚,将凹槽侧壁的切面与坩埚本体侧壁的切面的夹角设置为10-30°,能够最大限度的降低蒸镀材料在凹槽的槽口凝聚的可能性,从而降低了材料堵口的可能性。

23、4.本实用新型提供的一种蒸镀装置,第一加热件螺旋环绕设置在所述加热槽的侧壁上,能够使坩埚的侧壁均匀受热,进一步提高蒸镀材料受热的均匀性,提高基片成膜的均匀性。第二加热件的设置,能够实现对坩埚的凹槽槽口持续加热,降低了蒸镀材料在坩埚的凹槽槽口处出现凝聚堆积导致堵口的可能性。



技术特征:

1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括坩埚;

2.根据权利要求1所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述凹槽(2)的横截面的形状为圆形。

3.根据权利要求2所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述凹槽(2)的内壁形状为倒圆台形。

4.根据权利要求3所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述坩埚本体(1)为圆柱体,所述凹槽(2)的轴线与所述坩埚本体(1)的轴线相同。

5.根据权利要求4所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述凹槽(2)侧壁的切面与所述坩埚本体(1)侧壁的切面的夹角为10-30°。

6.根据权利要求1所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述加热槽(4)为u型槽。

7.根据权利要求6所述的一种蒸镀装置,其特征在于,所述加热槽(4)的内壁形状与所述坩埚本体(1)的外壁形状配合。

8.根据权利要求1所述的一种蒸镀装置,其特征在于,还包括支撑件(7),所述支撑件(7)连接在所述支撑件(7)侧壁的顶部。


技术总结
本技术涉及蒸镀设备的技术领域,具体涉及一种蒸镀装置。坩埚包括坩埚本体,所述坩埚本体内设有凹槽;所述凹槽的横截面的宽度由槽底至槽口逐渐增大。蒸镀装置包括前述的坩埚。本技术使蒸镀材料蒸发速率稳定,基片成膜更均匀,也降低了为了维持升华型的蒸镀材料的蒸发速率而导致蒸镀材料裂解、变质的风险。

技术研发人员:胡旭明,廖明富,陈志宽
受保护的技术使用者:宁波卢米蓝新材料有限公司
技术研发日:20221108
技术公布日:2024/1/13
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