专利名称：抛光机头自动调节机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种抛光机头自动调节机构。
抛光机对物件表面进行抛光时，依靠调节拖板实施对物件表面的抛光，抛光盘在移动方向上吃刀量不能改变。因此对大平面薄壳型构件，由于其平面不可能绝对平整，抛光盘吃刀量就不可能均匀，导致平面某些部分抛光量过多，而有些部分就可能抛光不上，影响平面抛光质量。这时往往只能用手工进行抛光，而手工抛光不仅费力费时，而且质量不好。究其原因主要是现有的机械抛光机的抛光机头在作抛光作业时相对物体平面位置不能自动调节，即不能自动调节抛光盘的进给量。
本实用新型目的在于提供一种抛光机头自动调节机构，使抛光机对大平面物件进行抛光时针对不均匀平面能自动调节抛光机头。
为实现上述目的，本抛光机头自动调节机构包括抛光机头9、抛光头上安装抛光盘8，抛光头带动抛光盘旋转，其特征是抛光头9固定在活动底板7上，活动底板通过销轴10与固定支架5一端连接，固定支架安装在机架11上，活动底板可挠销轴上下浮动，活动底板上设有进给力调节机构，该机构使抛光盘与被抛光件处于合适的工作状态。
图1为本实用新型抛光机头自动调节机构一种实施例的结构示意图。
图2是
图1的左视图。
图3为本实用新型抛光机头自动调节机构另一种实施例的结构示意图。
图1和图3提供了两种抛光头进给力调节机构的技术方案。由
图1，进给力调节机构包括螺杆4，螺杆4由下往上穿过活动底板7和固定支架5的另一端，螺杆上套有弹簧3，弹簧一端支承在固定支架5上，另一端支承在弹簧垫2上，螺杆上端的调节螺母1压住弹簧垫2，以调节弹簧力，工作时，移动抛光头，以抛光平面中凹面为基准，调节螺母1，使弹簧力处于合适状态，即抛光盘能对凹面进行合理的抛光。当抛光盘接触到凸面时，这时抛光头承受较大的反进给力，与抛光头固定在一起的活动底板7随之上浮，从而减少抛光盘对凸面的进给量，一旦抛光盘又进入凹面时，抛光头在弹簧力作用下又下浮，对凹面进行抛光。由图3，另一种进给力调节机构包括配重块12，配重块放在活动底板一侧，可沿活动底板左右移动，活动底板的另一侧由螺杆13和螺母14固定在固定支架5上。该机构的工作原理同第一种进给力调节机构雷同，这里从略。
本抛光机头能随被抛光面的凹凸作进给的自动调整，使抛光盘在工作过程中始终与被抛光面保持一定的接触，作用力几乎不变，不仅克服手工抛光劳动强度大，费时，质量不理想的缺陷，同时又能使机械抛光不平整平面成为可能，是一种实用性强的抛光机头，适用于机械抛光机中。
权利要求1.一种抛光机头自动调节装置，包括抛光头(9)、抛光头上安装抛光盘(8)，抛光头带动抛光盘旋转，其特征是抛光头(9)固定在活动底板(7)上，活动底板通过销轴(10)与固定支架(5)一端连接，固定支架安装在机架(11)上，活动底板可挠销轴上下浮动，活动底板上设有进给力调节机构。
2.根据权利要求1所述的抛光机头自动调节装置，其特征是进给力调节机构包括螺杆(4)，螺杆(4)由下往上穿过活动底板(7)和固定支架(5)的另一端，螺杆上套有弹簧(3)，弹簧一端支承在固定支架(5)上，另一端支承在弹簧垫(2)上，螺杆上端的调节螺母(1)压住弹簧垫(2)。
3.根据权利要求1所述的抛光机头自动调节装置，其特征是进给力调节机构包括配重块(12)，配重块放置在活动底板一侧，可沿活动底板左右移动，活动底板的另一侧由螺杆(13)、螺母(14)固定在固定支架(5)上。
专利摘要本实用新型涉及一种抛光机头自动调节机构,包括抛光头9、其特征是抛光头固定在活动底板7上,活动底板通过销轴10与固定支架5一端连接,固定支架安装在机架11上,活动底板可挠销轴上下浮动,活动底板上设有进给力调节机构。该自动调节机构能使抛光机头随被抛光面的凹凸作进给的自动调整,使抛光盘在工作过程中始终与被抛光面保持一定的接触,使机械抛光不平整平面成为可能,该机构具有减轻劳动强度、抛光质量好等优点。
文档编号B24B39/06GK2274547SQ9720051
公开日1998年2月18日 申请日期1997年1月13日 优先权日1997年1月13日
发明者王小伦 申请人:王小伦