一种新型制靶装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种ITO导电膜玻璃行业ITO靶材的制作，特别是一种新型制靶
目.0
【背景技术】
[0002]现有的ITO导电膜玻璃靶材制作过程中，通常涉及到靶材的加热。因此，靶材的受热是否均匀是影响到靶材质量的关键。现有的制靶装置均采用如下结构存在以下弊端:加热部件同均热部件完全分离，加热效率低。加热管的热量由均热盘来传导，易造成加热不均匀，温度不均匀。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是:提供一种新型制靶装置，它用于改进现有技术中至少一种缺陷，将加热管和均热盘做成一个整体，加热管通电后直接加热均热盘，提高加热效率，使得加热均匀、整体温度保持一致。
[0004]达到上述目的的技术方案是:一种新型制靶装置，它包括
[0005]一均热盘，所述均热盘内水平等距的预设有加热孔道；
[0006]至少一加热管，每一所述加热管对应安装于所述加热孔道内；
[0007]—铜背板，所述铜背板设置于所述均热盘的上表面。
[0008]相邻的两个所述加热管之间的距离为10cm~50cm。
[0009]相邻的两个所述加热管之间的距离为40cm。
[0010]上述技术方案的优点是:本实用新型的新型制靶装置，它改进了现有技术中的缺陷，可用于ITO镀膜行业的ITO硅靶、铌靶以及其他一切金属靶的邦定，加热快，加热均匀，温升平稳，能有效的提高靶材制作过程中邦定的质量，提高靶材的质量；而且由于铟在空气中易于氧化，使用本装置可以缩短整个制靶邦定的过程，从而有效的减少了靶材制作过程中稀有贵重金属铟的消耗，节约了成本。
【附图说明】
[0011]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述。
[0012]图1为本实用新型实施例的制靶装置的结构示意图。
[0013]其中:1均热盘I ; 2加热管；3铜背板。
【具体实施方式】
[0014]实施例:如图1所示，一种新型制靶装置，它包括一均热盘1，至少一加热管2，一铜背板3。
[0015]均热盘I内水平等距的预设有加热孔道；每一加热管2对应安装于加热孔道内；铜背板3设置于均热盘I的上表面。
[0016]相邻的两个所述加热管2之间的距离为10cm~50cm。本实施例中优选为40cm。加热管2固定在均热板的孔内，且贯穿整个均热板，加热效率大大提升。每隔40mm就安装一个加热管2，保证了整个均热板加热均匀。
[0017]在具体的实施过程中，将均热盘I (最好是铜质)中间每隔40mm预设一个021的孔并贯穿整个均热盘1，将加热管2固定通孔内，通电加热后，由于加热管2固定在均热盘I内，就对均热盘I直接加热，提高了加热效率。
[0018]其中，均热盘I的规格为300 mm*200mm*50mm，在厚度50mm的均热盘I中间每隔40mm开一排7个021的孔，并贯穿整个铜板。
[0019]在每隔孔内固定一个直径为020的加热管2，做好绝缘，防止漏电。
[0020]接好相应的电器装置，通电就可以对均热铜板进行加热。
[0021]应当指出，对于经充分说明的本实用新型来说，还可具有多种变换及改型的实施方案，并不局限于上述实施方式的具体实施例。上述实施例仅仅作为本实用新型的说明，而不是对本实用新型的限制。总之，本实用新型的保护范围应包括那些对于本领域普通技术人员来说显而易见的变换或替代以及改型。
【主权项】
1.一种新型制靶装置，其特征在于:它包括 一均热盘，所述均热盘内水平等距的预设有加热孔道； 至少一加热管，每一所述加热管对应安装于所述加热孔道内； 一铜背板，所述铜背板设置于所述均热盘的上表面。2.根据权利要求1所述的新型制靶装置，其特征在于:相邻的两个所述加热管之间的距离为 10cm~50cm。3.根据权利要求2所述的新型制靶装置，其特征在于:相邻的两个所述加热管之间的距离为40cm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种新型制靶装置，它包括一均热盘，所述均热盘内水平等距的预设有加热孔道；至少一加热管，每一所述加热管对应安装于所述加热孔道内；一铜背板，所述铜背板设置于所述均热盘的上表面。本实用新型的新型制靶装置，它改进了现有技术中的缺陷，可用于ITO镀膜行业的ITO硅靶、铌靶以及其他一切金属靶的邦定，加热快，加热均匀，温升平稳，能有效的提高靶材制作过程中邦定的质量，提高靶材的质量；而且由于铟在空气中易于氧化，使用本装置可以缩短整个制靶邦定的过程，从而有效的减少了靶材制作过程中稀有贵重金属铟的消耗，节约了成本。
【IPC分类】C23C14/34
【公开号】CN204752841
【申请号】CN201520538418
【发明人】周道怀, 汪奇, 陶道昌
【申请人】安徽今上显示玻璃有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年7月23日