铈类研磨材料的制作方法

专利名称：：铈类研磨材料的制作方法
技术领域：
：本发明涉及铈类研磨材料。技术背景以往，已知含有氧化铈分散于介质中形成的浆液的氧化铈研磨材料，该氧化铈以积分强度比确定用X射线衍射法得到的(111)面的衍射强度和(200)面的衍射强度之比(参照专利文献l)。专利文献l:日本专利特开2003-51467号公报此外，还已知含有F(氟)且含有特定量以上的La(镧)和Nd(钕)的比表面积为12m2/g以下的铈类研磨材料，它是在使用了Cu-Ka1线的X射线衍射中规定了相对于以氧化铈为主要成分的稀土类氧化物的主峰的稀土类氟化物的峰强度比的铈类研磨材料，以及规定了相对于以氧化铈为主要成分的稀土类氧化物的主峰的稀土类氧氟化物的峰强度比的范围的铈类研磨材料(参照专利文献2和专利文献3)。专利文献2:日本专利特开2002-97457号公报专利文献3:日本专利特开2002-97458号公报发明的揭示上述现有技术中，专利文献1公开的铈类研磨材料的积分强度比符合几乎所有的氧化铈研磨材料，没有特殊性。也就是说，即使用X射线衍射法得到的Ce02的(111)面的衍射强度和(200)面的衍射强度之比作为积分强度在特定范围内，其与该氧化钸研磨材料的研磨速度快慢、研磨损伤产生的多少之间的相关性也并不明确。另外，专利文献2和专利文献3公开的铈类研磨材料虽然是较少产生研磨损伤且研磨速度快的优异研磨材料，但存在不能适用于不存在F、La、Nd的体系这样的问题。鉴于上述情况，本发明的课题在于提供利用通过X射线衍射得到的峰强度比这一简单的指标即可判断铈类研磨材料研磨速度快慢和产生研磨损伤的多少而与是否具有F、La、Nd无关的技术，还提供研磨速度快、研磨损伤少的铈类研磨材料。本发明涉及CeO2/TREO^40质量％的铈类研磨材料，将以稀土类元素Ce为主要成分的稀土类氧化物的通过使用了Cu-Ka线或Cu-Ka1线的X射线衍射得到的峰中基于(111)面的峰定为a，其强度定为A，基于(220)面的峰定为b，其强度定为B时，强度比B/A值为0.200.80，BET法比表面积为l150m2/g。本发明只要是CeO/TREO^40质量Q/。则不管是否含有F、La、Nd均适用。本发明对X射线衍射中使用的X射线没有特殊限制，但优选使用能得到较大峰强度的Cu-Kci线或Cu-Ka1线。通过该X射线衍射得到的作为稀土类元素以铈为主要成分的稀土类氧化物的峰，通常通过X射线衍射鉴定为下述任一种。Ce02(ICDD卡No.34-0394或43-1002)Ce0.75Nd。.25O1875(ICDD卡No.28-0266)Ceo.5Ndo.5O,.75(ICDD卡No.28-0267)这些氧化物为立方晶，Ce为Ce(IV)。即使在几乎不含Nd的情况下若含有大量La，则多数情况下鉴定为Ce。.75Ndo.250u75或Ceo.sNdo.50L75。对本发明的铈类研磨材料通过X射线衍射得到的基于(111)面的峰和基于(220)面的峰进行说明，例如使用Cu-Ka线或Cu-Ka1线时，基于(111)面的峰按28计约在28。出现。基于(220)面的峰按29计约在47。出现。另外，Ceo.5Ndo.50，.75在ICDD卡中按2e计约28°的峰为(222)面，约47°的峰为(440)面，但在本发明中分别替换成(111)面、(220)面。本发明将通过使用了Ka线或Cu-Ka1线的X射线衍射得到的峰中基于(111)面的峰定为a，其强度定为A，基于(220)面的峰定为b，其强度定为B，由强度比B/A的值来确定铈类研磨材料，该强度比B/A范围为0.200.80的材料是本发明的对象。优选为0.220.75，0.230.70的强度比则更优选。若超过上限值0.80，则研磨速度降低，若不足下限值0.20，则容易产生大量研磨损伤。当铈类研磨材料的F含量为1质量％以上时，强度比以0.200.35的范围为宜，进一步优选0.220.33，更优选0.230.32。另一方面，当F含量不足1质量％时，强度比以0.400.80的范围为宜，强度比进一步优选为0.400.75，更优选为0.400.70。本发明的铈类研磨材料为了使初期研磨速度快并长时间维持研磨速度，Ce02/TREO必须在40质量％以上，优选在50质量％以上。当F含量为1质量%以上时，优选为95质量％以下，更优选为90质量％以下。这是因为若CeO/TREO值太高，则焙烧时F易挥发，用伴有焙烧的制造方法难以制造F含量为1质量％以上的研磨材料。此外，本发明的铈类研磨材料的BET法比表面积优选为l150m2/g，进一步优选为5100m2/g，更优选为250m2/g。上述本发明涉及的铈类研磨材料可用下述制造方法制得。首先，作为原料，可以使用CeO2/TREO^40质量％的含有碳酸根的稀土类化合物。关于制造顺序，首先一边搅拌作为初始液的水，一边同时连续地大致按化学计量比添加CeO2/TREOS40质量％的稀土类盐水溶液和碳酸类沉淀剂水溶液，生成沉淀。这里，该"大致化学计量比"指1分钟内添加的碳酸类沉淀剂水溶液的量相对于1分钟内添加的稀土类盐水溶液的量的比按化学计量为0.901.10，优选为0.951.05。但当稀土类盐水溶液含有大量过剩的酸时指考虑到过剩的酸所计算的值。若该化学计量比不足1.0，则稀土类元素有一部分未沉淀而残留于水溶液中形成损失，因此该比优选为1.01.1，更优选为1.01.05。但即使该比不足1.0但只要在0.90以上，也可以在之后添加不足量的碳酸类沉淀剂以防止损失。但是，若该比不足0.90，则不管之后是否具有添加不足量碳酸类沉淀剂的处理，均无法制造目标研磨材料。按上述方法生成的沉淀的形态在X射线衍射中主要为碳酸盐，有时确定为一氧化碳酸盐(乇/才^)炭酸塩)、氢氧化碳酸盐(水酸化炭酸塩)。下面举例说明上述化学计量。当用碳酸氢铵作碳酸类沉淀剂时(此时，将稀土类盐作为氯化物考虑，不考虑生成的稀土类碳酸盐的结晶水)，采用如下化学式。2LnCl3+6NH4HC03—Ln2(C03)3+6NH4Cl+3C02+3H20因此，相对于稀土类元素lmol，碳酸氢铵3mol为化学计量。这里，Ln是包含Ce(III)的+3价稀土类元素(通常未氧化处理时Ce在溶液中为+3价)。当用碳酸钠作碳酸类沉淀剂时(此时，将稀土类盐作为氯化物考虑，不考虑生成的稀土类碳酸盐的结晶水)，采用如下化学式。2LnCl3+3Na2C03—Ln2(C03)3+6NaCl因此，相对于稀土类元素lmol，碳酸钠1.5mol为化学计量。这里，Ln是包含Ce(III)的+3价稀土类元素(通常未氧化处理时Ce在溶液中为+3价)。作为上述碳酸类沉淀剂，可列举碳酸钠、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢铵、尿素、碳酸胍等。按上述方法生成的沉淀进行过滤，水洗后可直接作为原料使用，但也可以在过滤后与水混合或不过滤而直接加热至6010(TC(浸渍加热处理)以一氧化碳酸盐或氢氧化碳酸盐作为原料使用。根据需要进行原料粉碎，将原料粉碎时，使激光衍射，散射法粒度分布测定的Dso为0.13.0um。根据目标研磨材料的粒径，使该D5。的目标值为0.13.0um范围内的适宜值。当原料是一氧化碳酸盐或氢氧化碳酸盐时，有时Dso己经是目标值，此时可省略原料粉碎。但由于一氧化碳酸盐和氢氧化碳酸盐通过将碳酸盐进行浸渍加热处理(粉碎)来制造，因此虽然不是粉碎装置进行的粉碎，但也可以说已被粉碎。关于氟化处理，在制造含氟研磨材料时进行。该氟化处理可通过添加氟氢酸、氟氢铵、氟化铵等水溶性氟化物或氟化稀土类来实施。关于氟化处理，从进行均匀氟化、容易制造较少产生研磨损伤的研磨材料的观点出发，优选添加水溶性氟化物。添加氟化稀土类时，优选充分粉碎后添加或在原料粉碎前添加再与原料一起粉碎。关于过滤，当用湿式法进行原料粉碎，或在原料桨液中添加水溶性氟化物进行氟化处理时，通常进行过滤处理。进行氟化处理时，通过过滤前倾析或过滤后向保持有滤饼的过滤装置通入水等来进行清洗。滤饼在焙烧前优选进行干燥、粉碎。另外，也可以不进行过滤而进行喷雾干燥。关于焙烧，温度优选为7501150°C，进一步优选为8001100°C，更优选为8501050°C。当含氟量不足1质量％时，优选8001150°C，进一步优选8501100。C，更优选为9001050°C。焙烧后最好进行粉碎、分级中的至少一种处理。以干式法进行时，可以制造粉末研磨材料，以湿式法进行时，可以制造浆液研磨材料。当然，也可以将干式法制得的粉末状研磨材料与水等分散介质混合制成浆液研磨材料。反之，亦可以将湿式法制得的浆液状研磨材料通过干燥、干式粉碎来制成粉末研磨材料。关于本发明的铈类研磨材料，当使用高纯度原料时，可以采用上述非高纯度原料时的制造方法，这一点毋庸置疑。在此，仅对使用高纯度原料时可用的制造方法进行说明。作为高纯度原料，可列举Ce02/TREOS95质量％、优选^98质量％、进一步优选^99质量％的一氧化碳酸铈或氢氧化碳酸铈。采用上述高纯度原料的情况下，一边搅拌作为初始液的水，一边同时连续地按大致化学计量比添加Ce02/TRE0^95质量％的稀土类盐水溶液和碳酸类沉淀剂水溶液，生成沉淀。这里，"大致化学计量比"基本上与上述内容相同，指1分钟内添加的碳酸类沉淀剂水溶液的量相对于1分钟内添加的稀土类盐水溶液的量的比按化学计量为0.卯1.10，优选为0.951.05。但是当稀土类盐水溶液含有大量过剩的酸时指考虑到过剩的酸所计算的值。另外，同时开始稀土类盐水溶液和碳酸类沉淀剂水溶液的添加且同时结束时，上述添加速度比以1.05以下为宜，优选为1.00以下，更优选为0.95以下。按上述方法生成的沉淀进行过滤，水洗后，与水混合，或不过滤，水洗而直接加热到6010(TC(浸渍加热处理)，得到一氧化碳酸盐或氢氧化碳酸盐，过滤或过滤，水洗，得到原料。该原料根据需要粉碎后(也可以在原料制造的最后过滤前进行)在13025(TC下干燥，制成氧化铈。当使用非高纯度原料时，在130250'C这样的低。干燥后，为了提高研磨速度，可以在300700'C下焙烧。干燥或焙烧后，优选实施粉碎、分级中的至少一种处理。以干式法进行时，可以制造粉末研磨材料，以湿式法进行时，可以制造浆液研磨材料。当然，也可以将干式法得到的粉末状研磨材料与水等分散介质混合制成浆液研磨材料，亦可以将湿式法得到的浆液状研磨材料干燥、干法粉碎来制成粉末研磨材料。附图的简单说明图1是研磨材料原料的制造流程图。图2是铈类研磨材料的制造流程图。图3是使用高纯度原料时的铈类研磨材料的制造流程图。实施发明的最佳方式下面，参照实施例和比较例详细说明本发明的最佳实施方式。首先对制造本实施例和比较例的铈类研磨材料时使用的原料进行说明。表1表6表示制造各原料时的稀土类盐水溶液、碳酸类沉淀剂水溶液的各组成、浓度、添加条件等。[表1]沉淀化:成前处理条件(粉<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>*1D:同时添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氢铵、SC:碳酸钠*3沉淀剂水溶液相对于稀土类盐水溶液的添加速度的比在化学计量为1时的比率*4O:实施追加添加<添加量比(化学计量为1时的比率)1.05为止>、X:不实施追加添加*5不过滤.清洗，直接实施、O:将沉淀过滤'清洗后实施、X:不实施*6O:实施磨碎机粉碎、X:不实施磨碎机粉碎*7C:碳酸盐、M:—氧化碳酸盐、H:氢氧化碳酸盐20068003784L3势溢齿被7/255r[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>表4]<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>*1D:同时添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氢铵、SC:碳酸钠*3沉淀剂水溶液相对于稀土类盐水溶液的添加速度的比在化学计量为l时的比率*4O:实施追加添加<添加量比(化学计量为1时的比率)1.05为止>、X:不实施追加添加*5不过滤'清洗，直接实施、O:将沉淀过滤'清洗后实施、X:不实施*6O:实施磨碎机粉碎、X:不实施磨碎机粉碎*7C:碳酸盐、M:—氧化碳酸盐、H:氢氧化碳酸盐<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>*lD:同时添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氢铵、SC:碳酸钠*3沉淀剂水溶液相对于稀土类盐水溶液的添加速度的比在化学计量为1时的比率*4O:实施追加添加<添加量比(化学计量为1时的比率)1.05为止>、X:不实施追加添加*5不过滤'清洗，直接实施、O:将沉淀过滤'清洗后实施、X:不实施*6O:实施磨碎机粉碎、X:不实施磨碎机粉碎*7C:碳酸盐、M:—氧化碳酸盐、H:氢氧化碳酸200680037841,3转s齿被11/25:K[表6]沉淀生成前处理条件(粉<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>*1D:同时添加、F:正添加、B:反添加*2AHC:碳酸氢铵、SC:碳酸钠*3沉淀剂水溶液相对于稀土类盐水溶液的添加速度的比在化学计量为1时的比率(括号内不是添加速度而是添加量的比)*4O:实施追加添加<添加量比(化学计量为1时的比率)1.05为止>、X:不实施追加添加*5不过滤'清洗，直接实施、O:将沉淀过滤'清洗后实施、X:不实施*6O:实施磨碎机粉碎、X:不实施磨碎机粉碎*7C:碳酸盐、M:—氧化碳酸盐、H:氢氧化碳酸盐g0680037841.3势滔*被12/25M首先，本实施方式在稀土类盐水溶液的制造时使用中国产混合碳酸稀土(TRE045%、Ce02/TREO60%、La203/TREO35%、Pr6On/TREO4%、Nd203/TREO1%)、中国产碳酸铈(TRE044%、Ce02/TREO^99.9%)、中国产碳酸镧(TRE045%、La203/TRE0^99.9%)、中国产碳酸镨(TREO46%、Pr60,"丁REO^99.9%)、中国产碳酸钕(TREO45%、Nd203/TREO^99.9%)。将各碳酸盐用盐酸溶解，将pH用碳酸盐、盐酸调至约3后，过滤，稀释，制成TREO50g/L的水溶液。Ce02/TREO60质量％的试验使用将混合碳酸稀土溶解而成的溶液，Ce02/TREO99.9质量％的试验使用将碳酸铈溶解而成的溶液。其他试验使用将5种碳酸盐溶解而成的溶液适当混合、对Ce02/TREO进行了调节的溶液。作为碳酸类沉淀剂，使用碳酸氢铵、碳酸钠。这些碳酸类沉淀剂作为浓度lmol/L(79g/L)碳酸氢铵水溶液和浓度0.5mol/L(53g/L)碳酸钠水溶液使用。关于该碳酸类沉淀剂水溶液，在表1表6中表示其添加速度和添加速度比率。该添加速度比率指沉淀剂水溶液相对于稀土类盐水溶液的添加速度的比在化学计量为1时的比率。关于研磨材料原料中的沉淀生成，可以采用同时添加、正添加、反添加这三种方法。首先，同时添加(比较例8、9、17、18以外)时，在作为初始液的纯水200L中，在100分钟内添加稀土类盐水溶液(TREO50g/L)100L。按照各表中所示的规定添加速度在100分钟内添加碳酸类沉淀剂水溶液。但在进行碳酸类沉淀剂的追加添加时，即使在100分钟添加后，还继续添加直至沉淀剂水溶液/稀土类盐水溶液的添加量之比为化学计量的1.05倍。正添加时(比较例8、17)，在作为初始液的稀土类盐水溶液(TREO50g/L)中，在105分钟内添加作为碳酸类沉淀剂水溶液的lmol/L碳酸氢铵水溶液(此时，碳酸类沉淀剂/稀土类量比为化学计量的1.05倍)。逆添加(比较例9、18)时，在作为初始液的lmol/L碳酸氢铵水溶液93.5L中，在100分钟内添加稀土类盐水溶液(TREO50g/L)100L(此时，碳酸类沉淀剂/稀土类量比为化学计量的1.05倍)。下面对表1表6所示的各实施例、各比较例的目的进行概述，首先，关于氟含量为1质量％以上的铈类研磨材料，实施例15、比较例1、2对添加速度比的影响(无追加添加)进行分析，实施例68、比较例3、(实施例3)对有追加添加时的添加速度比的影响进行分析，实施例8、913、比较例4对氟含量的影响进行分析，实施例8、1421、比较例5、6对焙烧温度的影响进行分析，实施例8、22、23对浸渍加热处理的影响进行分析，实施例8、24对沉淀剂种类的影响进行分析，实施例8、2428、比较例7对Ce02/TREO的影响进行分析，实施例8、比较例8、9对沉淀方法的影响进行分析，比较例IO对不将中国产混合碳酸稀土溶解、再沉淀而直接使用时的影响进行分析。另外，据推断中国产混合碳酸稀土通过正添加生成沉淀。关于氟含量不足1质量％的铈类研磨材料，实施例2933、比较例11、12对添加速度比的影响(无追加添加)进行分析，实施例3436、比较例13、(实施例31)对有追加添加时的添加速度比的影响进行分析，实施例36、37、38对氟含量的影响进行分析，实施例36、3945、比较例14、15对焙烧温度的影响进行分析，实施例36、46、47对浸渍加热处理的影响进行分析，实施例36、48对沉淀剂种类的影响进行分析，实施例36、4954、比较例16对Ce02/TREO的影响进行分析，实施例36、比较例17、18对沉淀方法的影响进行分析，比较例19对不将中国产碳酸铈溶解、再沉淀而直接使用时的影响进行分析。另外，据推断中国产碳酸铈通过正添加生成沉淀。实施例55对用仅适用于高纯度原料的制造方法制造时的情况进行分析。具体而言，将生成的沉淀过滤后，将沉淀和水按质量比1:2混合，在90'C下浸渍加热5小时，再次过滤，然后在185"C下干燥48小时，在45(TC下焙烧12小时。另外，实施例45通过185。C下干燥品的X射线衍射证实焙烧前的干燥品已形成为氧化铈。下面，对研磨材料原料的制造顺序进行说明。图1表示本实施方式的研磨材料原料的制造流程。如该图l所示，本实施方式制造3种原料即原料im。原料i是沉淀生成后经过滤，水洗得到的稀土类碳酸盐。原料n是将原料I和水按质量比1:2混合后，在卯'C下浸渍加热处理5小时，过滤得到的稀土类一氧化碳酸盐。原料in是沉淀生成后不进行过滤，水洗而是在90。C下浸渍加热处理5小时，过滤得到的稀土类氢氧化碳酸盐/稀土类一氧化碳酸盐。关于各实施例、比较例的原料的详细制造条件如表1表6所示，浸渍加热处理一栏中"x"表示原料I，"O"表示原料II，"◎"表示原料m。接着，对由上述原料制造铈类研磨材料的工序进行说明。图2表示使用非高纯度的研磨材料原料时铈类研磨材料的基本制造流程(但该制造流程也可适用于高纯度原料，表3的实施例28、表6的实施例53、54釆用该制造流程)。此时的制造工序中，氟化处理以及氟化处理前的粉碎处理如表1表6所示，可任意进行。图3表示仅适用于高纯度原料的铈类研磨材料(表6的实施例55)的制造流程。采用该高纯度原料时，不进行氟化处理，可任意进行氟化处理前的粉碎处理。另外，在本实施方式中，焙烧后的处理采用干式粉碎、干式分级。对按上述制造顺序得到的研磨材料原料以及铈类研磨材料进行如下评价。关于研磨材料原料，对粉碎后的原料粉末进行平均粒径(D5o)的测定以及利用X射线衍射进行鉴定(表1表6)。对于铈类研磨材料，实施利用X射线衍射进行的峰强度比的测定、利用BET法进行的比表面积和平均粒径(D5。)的测定，并分析研磨速度、研磨损伤、被研磨面的表面性状。其结果如表7表12所示。下面，对各测定进行说明。X射线衍射利用X射线分析装置(玛珂科学(7、乂夕廿一工乂70株式会社制、MXP18)进行结晶衍射分析。对研磨材料原料，利用X射线衍射图鉴定该原料的形态。关于铈类研磨材料，求出通过Cu-Ka线的X射线衍射得到的基于(111)面的峰A(按29约在28。出现)和基于(220)面的峰B(按26约在47。出现)的各自强度，从而求出峰强度比B/A。平均粒径(D5o)的测定使用激光衍射，散射法粒径分布测定装置((株)堀场制作所制LA-920)，测定各研磨材料原料以及各铈类研磨材料的粒度分布，求出平均粒径(D5。从小粒径侧开始累计质量50质量％处的粒径(中位粒径))。BET法比表面积(BET)的测定根据JISR1626-1996(利用细瓷粉体的气体吸附BET法测定比表面积的方法)的"6.2流动法的(3.5)—点法"，进行铈类研磨材料比表面积的测定。此时，使用作为载气的氦和作为吸附质气体的氮的混合气体。研磨速度作为研磨机，准备研磨试验机(HSP-2I型、台东精机株式会社制)。该研磨试验机将浆液状研磨材料提供给研磨对象面的同时，将该研磨对象面用研磨垫研磨。研磨材料浆液的磨粒浓度为100g/L(分散介质仅为水)。在本研磨试验中，以5升/分的比例提供浆液状研磨材料，循环使用研磨材料。另外，研磨对象物为65mmO的平面面板用玻璃。研磨垫使用聚氨酯制垫。研磨垫在研磨面上的压力为9.8kPa(100g/cm2)，研磨试验机的转速设定成IOO分钟"(rpm)，研磨规定时间。进行特定时间的研磨处理，测定研磨前后的玻璃重量，求出研磨引起的玻璃重量的减少量，根据该值求出研磨值。本硏磨评价用该研磨值评价研磨速度。另外，如表7所示，该研磨速度的评价值以比较例2的铈类研磨材料得到的研磨值为标准(100)，算出其他研磨速度的评价值。研磨损伤按以下方式进行研磨损伤评价。用将30万勒克斯的卤灯作为光源的反射法观察研磨后的玻璃表面，计算大损伤和微小损伤的数目，以IOO分为满分，进行减分评价。该损伤评价以硬盘(HD)用或LCD用玻璃基板的精密研磨中要求的研磨精度为判断标准。具体而言，表4和表5中""表示98分以上(非常适合HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"〇"表示95分以上不到98分(适合HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"△"表示90分以上不到95分(可用于HD用'LCD用玻璃基板的精密研磨)，"X"表示不到90分(不能用于HD用.LCD用玻璃基板的精密研磨)。算术平均微观起伏用三维表面结构分析显微镜(泽果(Zygo)公司制NewView200)，测定波长为0.21.4mm,在基板的规定区域用白光扫描研磨面来测定。[表7]<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>[表8]<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>[表9]<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>[表10]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>[表11]<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>[表12]<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>从表7表12所示的各铈类研磨材料的数据中，选出X射线衍射测定的强度比B/A中与本发明的下限值和上限值接近的值的实施例、比较例的数据。表13显示与下限值0.2相关的数据，表14显示峰强度比B/A与上限值0.8相关的数据。[表13]<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>由表7表12以及表13、表14可知，若峰强度比超过上限值0.80，则研磨速度降低，若不足下限值0.20，则有容易产生大量研磨损伤的倾向。而且，本实施例这样的峰强度比在0.200.80范围内且BET法比表面积为l150m2/g的铈类硏磨材料在研磨速度和研磨损伤的研磨特性方面非常优异。另外，表13和表14记载了相对于(111)面的(200)面的峰强度比作为参考，但与本发明规定的相对于(111)面的(220)面的峰强度比不同，与研磨特性几乎无关。它不是本发明的峰强度比，作为峰的积分强度比也具有同样的倾向。产业上利用的可能性如上所述，本发明能提供无论是否含有F、La、Nd只要Ce02/TREO^40质量％则研磨速度快且研磨损伤少的铈类研磨材料。权利要求1.铈类研磨材料，其特征在于，它是CeO2/TREO≥40质量％的铈类研磨材料，将以稀土类元素Ce为主要成分的稀土类氧化物的通过使用了Cu-Kα线或Cu-Kα1线的X射线衍射得到的峰中基于(111)面的峰定为a，其强度定为A，基于(220)面的峰定为b，其强度定为B时，强度比B/A的值为0.20～0.80，BET法比表面积为1～150m2/g。2.如权利要求1所述的铈类研磨材料，其特征在于，峰a的半峰宽按2e计为o.ioi.oo°。3.如权利要求1或2所述的铈类研磨材料，其特征在于，B/A的值为0.200.35。4.如权利要求1或2所述的铈类研磨材料，其特征在于，B/A的值为0.400.80。5.如权利要求14中的任一项所述的铈类研磨材料，其特征在于，氟含量为1质量％以上。6.如权利要求3所述的铈类研磨材料，其特征在于，氟含量为1质量％以上。7.如权利要求14中的任一项所述的铈类研磨材料，其特征在于，氟含量不足1质量％。8.如权利要求4所述的铈类研磨材料，其特征在于，氟含量不足1质全文摘要本发明提供无论是否含有F、La、Nd只要CeO₂/TREO≥40质量％则研磨速度快且研磨损伤少的铈类研磨材料。本发明涉及CeO₂/TREO≥40质量％的铈类研磨材料，将以稀土类元素Ce为主要成分的稀土类氧化物的通过使用了Cu-Kα线或Cu-Kα1线的X射线衍射得到的峰中基于(111)面的峰定为a，其强度定为A，基于(220)面的峰定为b，其强度定为B时，强度比B/A的值为0.20～0.80，BET法比表面积为1～150m²/g。文档编号C01F17/00GK101283070SQ20068003784公开日2008年10月8日申请日期2006年10月12日优先权日2005年10月13日发明者山口靖英,桑原滋申请人:三井金属鉱业株式会社