本发明涉及琉璃工艺品技术领域，特别是涉及一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃。
背景技术：
琉璃是以各种颜色的人造水晶为原料，在1000多摄氏度的高温下烧制而成，其色彩流云漓彩、品质晶莹剔透。琉璃多用于工艺品的制作，加工成首饰、挂件等，自古以来，一直深受人们喜欢。目前用于制作琉璃的原材料熔点较高，会影响其生产过程中产品形状的定型以及尺寸精细度的控制。因此寻找低熔点的原料来提高琉璃的成型性能具有重要的意义。
技术实现要素：
本发明主要解决的技术问题是提供一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，能够降低生产成本，通过降低其熔点提高琉璃的成型性能。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，包括二氧化硅、氧化铝、氧化铅、三氧化二铋、氧化硒、氧化铜、碳酸钾、碳酸钠、碳酸钙、碳酸钡、石英粉和颜料。
具体来说，所述原料按重量份数计：二氧化硅15-30份、氧化铝20-40份、氧化铅10-20份、三氧化二铋7-15份、氧化硒20-30份、氧化铜15-20份、碳酸钾10-20份、碳酸钠10-20份、碳酸钙10-20份、碳酸钡1-10份、石英粉5-10份、颜料5-15份。
较佳的是，一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：二氧化硅17-28份、氧化铝24-35份、氧化铅14-19份、三氧化二铋10-15份、氧化硒22-27份、氧化铜17-20份、碳酸钾13-18份、碳酸钠14-20份、碳酸钙12-17份、碳酸钡6-10份、石英粉7-10份、颜料7-12份。
更佳的是，一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：二氧化硅17-24份、氧化铝27-33份、氧化铅14-17份、三氧化二铋11-14份、氧化硒24-27份、氧化铜17-19份、碳酸钾13-16份、碳酸钠15-18份、碳酸钙13-16份、碳酸钡6-9份、石英粉7-9份、颜料9-11份。
优选的是，一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：二氧化硅20份、氧化铝30份、氧化铅17份、三氧化二铋12份、氧化硒25份、氧化铜18份、碳酸钾15份、碳酸钠17份、碳酸钙15份、碳酸钡8份、石英粉8份、颜料10份。
进一步说，所述石英粉为2-4目，颜色呈乳白色。
上述含有三氧化二铋的低熔点琉璃的制造方法，包括以下步骤：
步骤一：按重量份数称取各原料，并将块状原料研磨成粉状；
步骤二：在搅拌器中依次加入二氧化硅、氧化铝、氧化铅、三氧化二铋、氧化硒、氧化铜、碳酸钾、碳酸钠、碳酸钙、碳酸钡、石英粉和颜料，搅拌混合均匀；
步骤三：将混合物置于1300摄氏度的温度下熔化20小时，即得成品。
本发明的有益效果是：本发明的一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，由二氧化硅、氧化铝、氧化铅、三氧化二铋、氧化硒、氧化铜、碳酸钾、碳酸钠、碳酸钙、碳酸钡、石英粉和颜料组成；三氧化二铋的熔点低，可降低琉璃生产过程中所需的温度，节约能源消耗，并利于产品的成型。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明的技术方案进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
实施例1：
一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：
二氧化硅24份、氧化铝31份、氧化铅15份、三氧化二铋15份、氧化硒24份、氧化铜18份、碳酸钾18份、碳酸钠15份、碳酸钙12份、碳酸钡7份、石英粉7份、颜料8份。
实施例2:
一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：
二氧化硅19份、氧化铝33份、氧化铅16份、三氧化二铋10份、氧化硒26份、氧化铜17份、碳酸钾14份、碳酸钠18份、碳酸钙14份、碳酸钡6份、石英粉9份、颜料12份。
实施例3：
一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：
二氧化硅22份、氧化铝28份、氧化铅19份、三氧化二铋11份、氧化硒23份、氧化铜20份、碳酸钾15份、碳酸钠14份、碳酸钙17份、碳酸钡9份、石英粉6份、颜料11份。
实施例4：
一种含有三氧化二铋的低熔点琉璃，所述原料按以下重量份数计：
二氧化硅20份、氧化铝30份、氧化铅17份、三氧化二铋12份、氧化硒25份、氧化铜18份、碳酸钾15份、碳酸钠17份、碳酸钙15份、碳酸钡8份、石英粉8份、颜料10份。
上述实施例中，所述石英粉为2-4目，颜色呈乳白色。
以上实施例含有三氧化二铋的低熔点琉璃的制造方法包括以下步骤：
步骤一：按重量份数称取各原料，并将块状原料研磨成粉状；
步骤二：在搅拌器中依次加入二氧化硅、氧化铝、氧化铅、三氧化二铋、氧化硒、氧化铜、碳酸钾、碳酸钠、碳酸钙、碳酸钡、石英粉和颜料，搅拌混合均匀；
步骤三：将混合物置于1300摄氏度的温度下熔化20小时，降温后即得成品。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。