技术总结
本发明提供了一种高纯度二氧化硅中去除氯离子的方法，具体步骤为：(1)在合成二氧化硅生成沉淀前将氨水加入到反应体系中，其中，Na2SiO3与氨水的摩尔比为1：1‑1.2，静置，弃去清液；(2)二氧化硅再用氨水洗涤两次，其中，二氧化硅与氨水的摩尔比为1：1‑1.2；(3)二氧化硅再使用纯水洗涤，其中，每1kg二氧化硅的纯水使用量为20L/次，一天两次，洗涤2‑3天，即可得到去除氯离子的高纯度二氧化硅；所述方法操作方便，洗涤时间及次数较少50％以上，可以再较短时间和更少纯水用量的情况下，得到符合要求的二氧化硅成品，具有广泛的应用前景。
技术研发人员：陈曙
受保护的技术使用者：天津市科密欧化学试剂有限公司
文档号码：201610771451
技术研发日：2016.08.30
技术公布日：2017.06.16