本发明涉及玻璃技术领域，尤其涉及一种超薄玻璃的制造方法。
背景技术：
随着电子产品轻薄短小的要求下，例如手持式装置，对超薄玻璃的需求越来越高。
由于超薄玻璃的厚度非常小，因此在制造上并不容易，目前制造超薄玻璃的制造方法是针对一厚度较大的玻璃进行薄化制程以使其厚度变小，而薄化制程主要以蚀刻的方式来蚀刻玻璃的厚度。
然而在蚀刻制程中太多因素会影响超薄玻璃的制造良率，光是蚀刻液就有许多条件不易控制，例如蚀刻液的扰动、蚀刻液的喷淋压力、蚀刻液流量以及蚀刻液温度等等。
举例来说，当上述蚀刻液的条件控制不精确时，制造出的超薄玻璃其表面平坦度差，一旦表面平坦度差，也会使后续在超薄玻璃上制造电子组件的良率不佳，甚至导致超薄玻璃变形或容易破裂的问题。
是以，确有需要对上述超薄玻璃的制造良率不佳的问题提出解决方法。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种薄玻璃的制造方法，其能制造出表面平坦的超薄玻璃并提高超薄玻璃的制造良率。
为达成上述目的，本发明提供了一种超薄玻璃的制造方法，包括：提供至少一玻
璃；将所述玻璃固定为垂直站立状态；对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液；以及通过至少一导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的至少一喷嘴，经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴的步骤中，进一步包括：控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中，进一步包括：将所述喷嘴设置于所述导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条线上，并且与所述导液管的内部相通，用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
在将所述喷嘴设置于所述导液管表面的步骤中，进一步包括：使所述导液管的内部具有一渐变的管径，用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
进一步，在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述导液管具有的所述喷嘴，经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面的步骤中，使所述玻璃的表面被蚀刻至厚度为0.1毫米至1.5毫米。
进一步，对所述蚀刻液进行雾化的方法为超音速雾化、加压式雾化或涡流式雾化。
进一步，所述蚀刻液至少包含氢氟酸。
说明书
为达成上述目的，本发明还提供了一种超薄玻璃的制造方法，包括：提供至少一玻璃；将所述玻璃固定为垂直站立状态；对一蚀刻液进行雾化以得到一雾化的蚀刻液；将至少一喷嘴设置于一导液管表面且平行于所述导液管的轴心的一条在线，并且与所述导液管的内部相通；以及通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴，经由所述喷嘴喷洒所述雾化的蚀刻液于所述玻璃表面。
在通过所述导液管传送所述雾化的蚀刻液至所述喷嘴的步骤中，进一步包括：控制所述雾化的蚀刻液的一喷洒范围、一喷洒压力以及一喷洒均匀性中至少一项。
在控制所述雾化的蚀刻液的步骤中，进一步包括：使所述导液管的内部具有一渐变的管径，用以控制所述喷洒范围、所述喷洒压力以及所述喷洒均匀性中至少一项。
本发明的超薄玻璃的制造方法以雾化的蚀刻液蚀刻玻璃，制造出的超薄玻璃具有平坦的表面，因此能提高超薄玻璃的制造良率。s100-s140、步骤。具体实施方式
首先，在步骤s100中，提供至少一玻璃10。一般来说，玻璃10的厚度约为大于1.5毫米(millimeter;mm)。
在步骤s110中，将所述玻璃10固定为如附2所示的垂直站立状态。举例来说，以一治具夹持所述玻璃10，以使其固定为垂直站立状态。
在步骤s120中，对一蚀刻液(未示)进行雾化以得到一雾化的蚀刻液20。雾化的方法可以为超音速雾化、加压式雾化或涡流式雾化。
超音速雾化是将蚀刻液经超音速喷射后形成喷雾状。加压式雾化是将蚀刻液加压后形成喷雾状。涡流式雾化则是利用扰流叶片使蚀刻液产生高速旋转，再经由一涡流室将蚀刻液形成喷雾状。
蚀刻液至少包含氢氟酸（hf），也可以使用氢氟酸并调配适量的硫酸（h2so4）、盐酸（hcl）或硝酸（hno3）等酸液或具有表面活性剂特质的化学液体作为氧化硅材料溶解反应的缓冲剂，各成分依适当浓度比例调配作为所述蚀刻液。添加上述除hf以外的其它物质所组成的蚀刻液可改善因玻璃（氧化硅）与hf发生溶解反应时因蚀刻液浓度无法达成完全理想均匀，或是有局部浓度集中现象发生时所造成玻璃基板表面的微小缺陷，进而达成较佳的表面均一性与完整性。
在随着薄化需求以及厚度都增大的状况下，不论是喷洒式或是浸泡式玻璃薄化，其蚀刻液配比方式将会是良率及成本的一主要关键。本发明中除了hf本身会与氧化硅玻璃材质反应外，其它所添加的物质是为了通过其本身较大的分子体积来缓和hf与氧化硅在接触接口因浓度（溶液本身即有理想浓度均匀性的实际困难）与温度（蚀刻为放热反应，该反应越剧烈、单位时间温度上升越快，而温度越高亦会加速蚀刻速率）所产生的蚀刻反应差异。另外主要蚀刻反应：sio2(s)+4hf(l)->sif4(s)+2h2o(l)中所产生的氟化硅（sif4）固体也会造成玻璃蚀刻反应后的缺陷，因为会有反应产生物附着在原有玻璃材质表面（hf无法接触玻璃将其反应）造成蚀刻反应不均而形成微小缺陷。因此，适当的添加其它物质所形成的蚀刻液本身可以形成良好的润滑特性（例如硫酸还有表面活性剂等本身的特性），以避免氟化硅颗粒附着的现象，也能改善蚀刻后的质量，同时也能改善因氟化硅固体在管路中凝结所造成的堵塞现象。