本发明涉及建筑陶瓷
技术领域：
，特别是涉及一种柔光抛釉砖的生产方法。
背景技术：
：随着社会经济的不断发展，人们对生活品质、生活环境的要求也不断提高，具有天然仿石、简洁、高品位的装饰材料成为消费的主流。抛釉砖集抛光砖和仿古砖优点于一体，即可实现釉面如抛光砖的表面一般光滑亮洁，又可实现釉面装饰效果如仿古砖般图案丰富、色彩绚丽。目前市面上抛釉瓷质砖、微晶石及仿古瓷质砖已经逐步成为市场的主流产品，每一系列产品由于其理化性能不同，造成其各有优缺点。柔光效果的砖面因其光泽度柔和，装饰典雅，是人们喜欢的高档建材。目前现有技术制备的抛釉砖光泽度很高，很少有柔光制品，主要是因为按照传统的方式，制备柔光制品，只需将抛磨工段中的精磨去掉，即降低磨具细度即可。但是通过这种方式虽然降低了表面光泽度，可以得到柔光制品，但因表面划痕严重，这些划痕影响装饰，而且特别容易吸污。不利于使用后的保洁服务。因此本发明针对现有工艺进行改良，提供一种具有装饰效果好而且耐污的柔光抛釉砖产品生产方法。技术实现要素：本发明要解决的是现有柔光抛釉砖表面划痕严重、容易吸污染的技术问题，为解决上述问题，所采用的技术方案如下：一种柔光抛釉砖生产方法，其特征在于，由以下步骤组成：按常规方法制备柔光抛釉砖坯体，配制柔光抛釉砖底釉和面釉，施底釉，干燥，施面釉，干燥和烧成，抛光处理，拣选、包装、入库。其中，在所述施底釉步骤中，将柔光抛釉砖底釉施于柔光抛釉砖生坯上，单位面积施面浆重量为1000-1400g/m2；在所述干燥步骤中，将施过底釉的柔光抛釉砖生坯再在干燥窑中于150-300℃下烘干；在所述施面釉步骤中，将柔光抛釉砖面釉施于干燥后的柔光抛釉砖生坯上，单位面积施面浆重量为600-800g/m2；在所述干燥和烧成步骤中，将施过面釉的柔光抛釉砖生坯在干燥窑中于150-300℃下烘干。接着在辊道窑中使用常规的陶瓷烧成温度制度、压力制度和气氛制度，将烘干处理后的柔光抛釉砖生坯一次烧成，烧成温度为1150-1250℃，烧成周期为40-90min，制得柔光抛釉砖半成品。进一步地，在所述配制柔光抛釉砖底釉和面釉步骤中，所述底釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石30％～35％、钠长石20％～25％、高岭土8％～10％、石英25％～35％、滑石5％～10％、氧化铝4％～6％。进一步地，所述面釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石35％～40％、硅灰石25％～30％、方解石5％～7％、石英5％～8％、高岭土6％～8％、氧化锌3％～5％、碳酸钡8％～10％及白云石3％～7％。进一步地，在所述抛光步骤中，将烧成后的柔光抛釉砖半成品按如下工序进行抛光：1、使用弹性磨块作为抛光模具的抛光机，抛光介质使用树脂粘结金刚砂磨料，磨料的细度为100-240目；2、使用柔光模块作为抛光模具的抛光机，抛光介质使用树脂粘结碳化硅和氧化镁磨料，磨料的细度为250-350目；3、使用研磨擦作为抛光模具的抛光机，研磨擦的刷毛是由硬质塑料和碳化硅的磨料构成，磨料的细度为320-400目；4、使用抛光片作为抛光模具的抛光机，抛光片的抛光介质为与纤维结合的碳化硅磨料，即所述抛光片是将碳化硅磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得，磨料的细度为320-600目。以上步骤中，凡未加特别说明的，都采用现有技术中的常规控制手段。本发明的生产步骤中，制备柔光抛釉砖底釉和面釉和抛光是本发明的关键。本发明由于采用以上技术方案，产生的有益效果是：（1）减少了产品在烧后釉面上出现小凸点(痱子)、针孔等缺陷（2）保持釉料发色效果和稳定的釉面光泽度，使釉面更加细腻并得到柔光效果，同时光线产生漫反射，形成无光效果。（2）使釉面表面光亮无划痕，呈现出镜面效果。具体实施方式实施例1：一种柔光抛釉砖的生产方法，由以下步骤组成：按常规方法制备柔光抛釉砖坯体，配制柔光抛釉砖底釉和面釉，施底釉，干燥，施面釉，干燥和烧成，抛光处理，拣选、包装、入库。进一步地，所述底釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石30％、钠长石22％、高岭土10％、石英25％、滑石8％、氧化铝5％；所述面釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石38％、硅灰石27％、方解石6％、石英8％、高岭土7％、氧化锌2％、碳酸钡9％及白云石3％；进一步的，所述抛光处理的具体方法如下：（1）使用弹性磨块作为抛光模具的抛光机，抛光介质使用树脂粘结金刚砂磨料，磨料的细度为100-240目；（2）使用柔光模块作为抛光模具的抛光机，抛光介质使用树脂粘结碳化硅和氧化镁磨料，磨料的细度为250-350目；（3）使用研磨擦作为抛光模具的抛光机，研磨擦的刷毛是由硬质塑料和碳化硅的磨料构成，磨料的细度为320-400目；（4）使用抛光片作为抛光模具的抛光机，抛光片的抛光介质为与纤维结合的碳化硅磨料，即所述抛光片是将碳化硅磨料嵌入纤维中，通过压实或粘结压实获得，磨料的细度为320-600目。实施例2：一种柔光抛釉砖的生产方法，由以下步骤组成：按常规方法制备柔光抛釉砖坯体，配制柔光抛釉砖底釉和面釉，施底釉，干燥，施面釉，干燥和烧成，抛光处理，拣选、包装、入库。进一步地，所述底釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石32％、钠长石20％、高岭土12％、石英23％、滑石9％、氧化铝4％；所述面釉的材料包括如下质量百分含量的原料：钾长石40％、硅灰石25％、方解石7％、石英7％、高岭土5％、氧化锌2％、碳酸钡9％及白云石5％，其余与实施例1相同。实施例3：一种柔光抛釉砖的生产方法，由以下步骤组成：按常规方法制备柔光抛釉砖坯体，配制柔光抛釉砖底釉和面釉，施底釉，干燥，施面釉，干燥和烧成，抛光处理，拣选、包装、入库。进一步地，所述底釉的材料包括如下质量百分含量的原料：底釉配方为(重量份)：钾长石35％、钠长石20％、高岭土10％、石英25％、滑石5％、氧化铝5％；面釉配方为(重量份)：钾长石37％、硅灰石26％、方解石7％、石英5％、高岭土7％、氧化锌2％、碳酸钡9％及白云石7％,其余与实施例1相同。对上述三个实施例所制备的柔光抛釉砖的白度、耐磨性能、耐污等级、吸水率根据《gb/t3810-2006》进行测试的结果见表1：表1：测试结果白度（°）耐磨等级防污等级吸水率（%）实施例180440.04实施例281440.05实施例380.5440.06从表1中可以看出，实施例1～实施例3制备的柔光抛釉砖吸水率在0.1%以下，抗污等级达到4级，且白度在80°以上，耐磨等级达4级，远大于国家标准，即实施例1～实施例3的柔光抛釉砖的吸水率低、白度高、耐磨性能好、防污性能好即本发明的全抛釉砖具有较高的白度且性能较好。以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。当前第1页12