1.一种带热处理的反应器，其包括：一反应室，所述反应室包括一进气口及一出气口，一生长基底，所述生长基底设置于反应室内，位于所述进气口及出气口之间，其特征在于，至少一微流管，微流管的直径大小范围为100～1000微米，且其一端与该进气口相连接，其另一端通入用于碳纳米管生长用之碳源气并对该碳源进行预解离；及一加热装置，用以对通过微流管的碳源气进行加热解离，所述生长基底包括一圆柱框架和包裹在圆柱框架上的一碳纳米管催化剂复合层，所述圆柱框架可旋转的设置于反应室内部，所述圆柱框架的中心转轴垂直于气流方向，所述碳纳米管催化剂复合层上具有多个微孔，所述微孔在碳纳米管催化剂复合层上呈螺旋线状排列，通过所述碳纳米管催化剂复合层的旋转使所述反应气体在反应室内流动过程中穿过所述碳纳米管催化剂复合层的多个微孔。
2.根据权利要求1所述的带热处理的反应器，其特征在于，所述碳纳米管催化剂复合层包括碳纳米管层和催化剂颗粒，所述催化剂颗粒均匀分散于所述碳纳米管层表面。
3.根据权利要求2所述的带热处理的反应器，其特征在于，所述催化剂颗粒嵌入碳纳米管层的微孔中。
4.根据权利要求1所述的带热处理的反应器，其特征在于，所述圆柱框架沿顺时针方向旋转。
5.根据权利要求1所述的带热处理的反应器，其特征在于，所述圆柱框架材料为铝陶瓷。
6.根据权利要求1所述的带热处理的反应器，其特征在于，包括第一电极和第二电极间隔设置且与所述碳纳米管催化剂复合层电连接。
7.根据权利要求1所述的带热处理的反应器，其特征在于，所述加热装置为一高温炉，其环绕于微流管。