本发明属于陶瓷艺术品制备技术领域，具体涉及一种陶瓷影雕艺术品的制备方法。
背景技术：
陶瓷制品自古以来就是实用性和艺术性极高的制品，我国已经成为世界艺术陶瓷的生产和消费大国，产量与出口都跃居世界第一。传统陶瓷艺术品的生产采用一次性煅烧工艺，其优点是工序少、成本低，但是这也限制了成品率和色彩问题，艺术效果差。然而随着现代人审美要求的提高，色彩图案单一的陶瓷制品已经难以满足需求，人们更多的追求艺术与实用的结合。随着公众审美情趣的逐步提高，带动了陶瓷制备技术的改进，在瓷土配方、外观造型上加以研究开发和创意设计，提高工艺水平，增加艺术内涵，使得艺术陶瓷市场不断升温。
陶瓷影雕艺术是利用预先制备好的模具生产窑烧陶瓷制品的方法，该方法制备出的艺术品立体感强烈，效果明显，但是由于材料的限制，制备出的成品仍然存在易碎、易断裂的问题，制约了陶瓷影雕艺术的发展。
鉴于现有技术存在的缺陷，有必要开发一种新的陶瓷影雕艺术品的制备方法
技术实现要素：
本发明提供的一种陶瓷影雕艺术品的制备方法，解决了现有技术制备出的陶瓷工艺品仍然存在易碎、易断裂的问题，立体感强烈，效果明显。
本发明的目的是提供一种陶瓷影雕艺术品的制备方法，包括以下步骤：
s1，制作生产模具；
s2，制作泥浆；
所述泥浆由以下重量份的原料制成：高岭土40-50份、石英30-40份、石灰石5-10份、硅酸钙5-10份、硅酸钠5-10份、珍珠岩3-5份、氧化铝1-3份、氧化铜1-3份、水20-25份；
s3，制作艺术品：将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆干透后连同生产模具一起移至窑炉中素烧，然后施以釉料，待釉料干透后继续入窑煅烧，直至煅烧完毕，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
优选的，所述陶瓷影雕艺术品的制备方法中，所述制作生产模具的步骤包括：
s11，制作影雕图谱，并将影雕图谱复制在石膏板上，然后利用雕图工具在石膏板上雕图，得到表面凹凸不平的具有所需影雕图谱的石膏板；
s12，以s11得到的石膏板为母模制作生产模具。
优选的，所述陶瓷影雕艺术品的制备方法中，所述泥浆的制作步骤如下：
s21，按以下重量份称取各组分：高岭土40-50份、石英30-40份、石灰石5-10份、硅酸钙5-10份、硅酸钠5-10份、珍珠岩3-5份、氧化铝1-3份、氧化铜1-3份、水20-25份；
s22，将s21称取的高岭土、石英、石灰石、硅酸钙、硅酸钠、珍珠岩、氧化铝、氧化铜分别粉碎、混合后研磨、过150目筛，再加入s21称取的水，充分混合均匀，得到泥浆。
优选的，所述陶瓷影雕艺术品的制备方法中，所述艺术品的制作步骤如下：
s31，在生产模具内涂上脱模剂，然后将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆30-40℃干透后连同生产模具一起移至窑炉中，50-100℃素烧，直至泥浆中的水分含量为15-20％，冷却至室温，得到青坯；
s32，向青坯上施以釉料，待釉料自然干透后继续入窑煅烧，30-1300℃程序升温煅烧，其中升温速度为100-150℃/h；
s33，煅烧完毕后，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
优选的，所述陶瓷影雕艺术品的制备方法中，所述脱模剂由仙水和甘油按照100:1的质量比例混合而成。
与现有技术相比，本实用发明提供的一种陶瓷影雕艺术品的制备方法，具有以下有益效果：
1、使用本发明的泥浆配方制备而成的陶瓷影雕艺术品作品图案线条流畅、凹凸鲜明、立体感强烈，抗压强度、抗拉强度提高和成品率均有所提高，减少易碎品和断裂品的产生，适用于规模化生产。
2、我们在生产模具上涂抹的脱模剂采用仙水和甘油的混合物，采用的仙水是新型高效的电解质，与甘油混合使用后，既不会损伤石膏模型，且保证泥浆在模具内60h不龟裂，而单纯使用仙水只能保证泥浆在模具内24h不龟裂。
3、青坯外表面施用釉料后，最后一步煅烧的时候采用程序升温煅烧，逐步提高温度，每一个温度阶段陶瓷都发生了不同的变化，陶瓷工艺品的成品率由96％提高至98％，减少易碎品和断裂品的产生。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明，但不应理解为本发明的限制。下列实施例中未注明具体条件的试验方法，通常按照常规条件操作。除非另外定义，本发明中使用的所有技术和科学术语与本技术领域技术人员通常理解的意义相同。
本发明的陶瓷影雕艺术品的制备方法，包括以下实施例：
实施例1
s1，制作生产模具；
所述制作生产模具的步骤包括：
s11，制作影雕图谱，并将影雕图谱复制在石膏板上，然后利用雕图工具在石膏板上雕图，得到表面凹凸不平的具有所需影雕图谱的石膏板；
s12，以s11得到的石膏板为母模制备生产模具。
s2，制作泥浆；
所述泥浆由以下重量份的原料制成：高岭土40份、石英30份、石灰石5份、硅酸钙10份、硅酸钠10份、珍珠岩5份、氧化铝3份、氧化铜3份、水22份；
所述泥浆的制作步骤如下：
s21，按以下重量份称取各组分：高岭土40份、石英30份、石灰石5份、硅酸钙10份、硅酸钠10份、珍珠岩5份、氧化铝3份、氧化铜3份、水22份；
s22，将s21称取的高岭土、石英、石灰石、硅酸钙、硅酸钠、珍珠岩、氧化铝、氧化铜分别粉碎、混合后研磨、过150目筛，再加入s21称取的水，充分混合均匀，得到泥浆。
s3，制作艺术品：将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆干透形成白坯后连同生产模具一起移至窑炉中，素烧后施以釉料，待釉料干透后继续入窑煅烧，直至煅烧完毕，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
所述艺术品的制作步骤如下：
s31，在生产模具内涂上脱模剂，然后将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆30-35℃干透形成白坯后连同生产模具一起移至窑炉中，70℃素烧，直至泥浆中的水分含量为15-20％，冷却至室温，得到青坯；
s32，向青坯上施以釉料，待釉料自然干透后继续入窑煅烧，30-1300℃程序升温煅烧，其中升温速度为100℃/h；
s33，煅烧完毕后，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
其中，所述脱模剂由仙水和甘油按照100:1的比例混合而成。
实施例2
s1，制作生产模具；
所述制作生产模具的步骤包括：
s11，制作影雕图谱，并将影雕图谱复制在石膏板上，然后利用雕图工具在石膏板上雕图，得到表面凹凸不平的具有所需影雕图谱的石膏板；
s12，以s11得到的石膏板为母模制备生产模具。
s2，制作泥浆；
所述泥浆由以下重量份的原料制成：高岭土50份、石英40份、石灰石10份、硅酸钙5份、硅酸钠5份、珍珠岩3份、氧化铝1份、氧化铜1份、水25份；
所述泥浆的制作步骤如下：
s21，按以下重量份称取各组分：高岭土50份、石英40份、石灰石10份、硅酸钙5份、硅酸钠5份、珍珠岩3份、氧化铝1份、氧化铜1份、水25份；
s22，将s21称取的高岭土、石英、石灰石、硅酸钙、硅酸钠、珍珠岩、氧化铝、氧化铜分别粉碎、混合后研磨、过150目筛，再加入s21称取的水，充分混合均匀，得到泥浆。
s3，制作艺术品：将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆干透形成白坯后连同生产模具一起移至窑炉中，素烧后施以釉料，待釉料干透后继续入窑煅烧，直至煅烧完毕，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
所述艺术品的制作步骤如下：
s31，在生产模具内涂上脱模剂，然后将制备好的泥浆注入生产模具，待泥浆35-40℃干透形成白坯后连同生产模具一起移至窑炉中，100℃素烧，直至泥浆中的水分含量为15-20％，冷却至室温，得到青坯；
s32，向青坯上施以釉料，待釉料自然干透后继续入窑煅烧，30-1300℃程序升温煅烧，其中升温速度为150℃/h；
s33，煅烧完毕后，拆除生产模具，得到影雕艺术品。
其中，所述脱模剂由仙水和甘油按照100:1的比例混合而成。
实施例3
除所述泥浆的配方有所改变外，其余步骤均同实施例1，其中所述泥浆由以下重量份的原料制成：高岭土45份、石英35份、石灰石8份、硅酸钙8份、硅酸钠8份、珍珠岩4份、氧化铝2份、氧化铜2份、水20份。
利用上述方法和泥浆配方制备而成的陶瓷影雕艺术品作品图案线条流畅、凹凸鲜明、立体感强烈，按照实际需要确定影雕所需图谱，采用的石膏板是高密度的ks石膏，利用针头式和极细平口式工具进行细致的雕刻和加工，得到三维立体效果好的石膏板，相比于传统的一次性煅烧工艺而言，更加细致和柔美。
我们在生产模具上涂抹的脱模剂采用仙水和甘油的混合物，采用的仙水是新型高效的电解质，与甘油混合使用后，既不会损伤石膏模型，且保证泥浆在模具内60h不龟裂，而单纯使用仙水只能保证泥浆在模具内24h不龟裂。
另外，采用本发明的泥浆配方制成的青坯韧性好，不易断裂。为了证明本发明泥浆配方的效果，我们以专利授权公告号为cn103304215b，名称为《超纳米银离子硅酸锆陶瓷工艺品及其制备方法》的专利中述及的陶瓷坯体的配方作为对照组，采用该专利述及的釉料和方法制备陶瓷工艺品，并测定陶瓷工艺品的抗压强度、抗拉强度和成品率。另外，以本发明实施例1方法中述及的泥浆配方和上述专利述及的釉料和方法制备陶瓷工艺品，作为实验组，并测定陶瓷工艺品的抗压强度、抗拉强度和成品率。结果如下：
对照组陶瓷工艺品的抗压强度为521mpa，抗拉强度为109mpa，成品率为96％；实验组陶瓷工艺品的抗压强度为832mpa，抗拉强度为256mpa，成品率为98％。说明根本发明实施例1的配方可以使陶瓷工艺品的抗压强度提高60％，使抗拉强度提高135％，使成品率提高。
青坯外表面施用釉料后，最后一步煅烧的时候采用程序升温煅烧，逐步提高温度，每一个温度阶段陶瓷都发生了不同的变化，比如干燥阶段、氧化阶段和还原阶段，与上述专利述及的方法相比，实施例1的方法制备的陶瓷工艺品的成品率由96％提高至98％，减少易碎品和断裂品的产生。
尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。