一种全抛结晶釉仿古砖的制作方法

本实用新型涉及建筑陶瓷仿古砖釉面装饰技术领域，特别是涉及一种全抛结晶釉仿古砖。

背景技术：

目前陶瓷市场上呈现出需求高档化、艺术化、个性化产品等特点，具有高品味的装饰材料成为消费的主流。而结晶釉作为一种名贵独特的装饰性较好的艺术釉，一直应用于艺术陶瓷领域，而鲜少用于建筑陶瓷领域。

目前市场上的仿古砖通常采用丝网、辊筒或者喷墨打印机将普通着色花釉或墨水印制在面釉和特殊效果釉层中间，虽然颜色丰富多姿，但缺乏立体悬浮感。常规全抛釉仿古砖示意图如图1所示。参见图1，常规全抛釉仿古砖由下而上包括坯体1、面釉2、图案层3 和全抛釉层4。

专利文献1(专利申请号：201310426301.6)公开了一种带有冰裂状的抛晶砖及其制造方法，包括陶瓷砖坯，色釉层、冰裂层和透明熔块层，从上到下依次为透明熔块层、冰裂层、色釉层和陶瓷砖坯，其中冰裂层为以结晶釉为主的冰花水晶。该抛晶砖虽然用到了结晶釉，但此专利不能应用于低温快烧全抛仿古砖中。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种利用结晶釉的多变晶花效果的全抛瓷质仿古砖及其制造方法。

本实用新型一形态的全抛结晶釉仿古砖包括：

坯体；

覆于坯体上的具有第一道图案的面釉层；

形成于砖坯表面具有第一道图案的全抛釉层；

具有与所述第一道图案配合的第二道图案的结晶釉层，所述结晶釉层由下而上包括结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层；以及

图案层，所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间；或所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间、以及结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层之间。

上述全抛结晶釉仿古砖，利用结晶釉呈现星状、网状、冰花状、花簇状等自然变幻特点将其应用在全抛釉层下面，形成晶花美观颜色丰富多彩的效果；而且，结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层填充于面釉层和全抛釉层的规定图形的空白处，即结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层整体与面釉层和全抛釉层整体互补互配，具有更强的立体悬浮感；结晶釉底釉层和保护釉层结合形成不同类型的晶花，加以配合传统全抛仿古砖，搭配起来可以使产品图案具有层次丰富、逼真、立体感强的3D晶花效果；在结晶釉上面形成保护釉既促进生产中晶花成形的稳定，又可以在后期结晶釉仿古砖全抛中以及使用中保护晶花不被破坏。

较佳地，所述图案层是通过喷墨打印技术打印在面釉层上的喷墨图案层。喷墨图案层具有精细丰富的图案，与结晶釉形成的晶花相互搭配，形成更加美轮美奂立体的3D效果。

较佳地，所述面釉层和所述全抛釉层是通过具有第一道图案的第一丝网印刷而形成；所述结晶釉层是通过具有与所述第一道图案配合的第二道图案的第二丝网印刷而形成。此外，较佳地，所述面釉层的厚度为0.6～1.0mm。较佳地，所述全抛釉层的厚度为1.0～ 1.2mm。

较佳地，所述面釉层和图案层加上全抛釉层的总厚度与所述结晶底釉层和所述结晶保护釉层的总厚度相近(两釉厚度相差≤0.02mm)。这里的厚度是指烧成之后全抛之前的厚度。由此，烧成后整个釉面层平整美观，利于后面全抛过程。全抛后所得的成品砖中，所述面釉层和图案层加上全抛釉层的总厚度与所述结晶底釉层和所述结晶保护釉层的总厚度亦相近(两釉厚度相差≤0.02mm)，即，最后得到的全抛结晶釉仿古砖的表面平整。

附图说明

图1为一种常规全抛釉仿古砖抛光后的截面示意图；

图2为本实用新型的全抛结晶釉仿古砖抛光后的截面示意图；

图3为本实用新型的一个示例中所选丝网的图案展示；

图4为本实用新型的一个示例的工艺流程图；

图5为半抛和全抛的示意图区别。

具体实施方式

以下结合附图和下述实施方式进一步说明本实用新型，应理解，附图及下述实施方式仅用于说明本实用新型，而非限制本实用新型。以下各配方中，如无特别说明，各成分的含量均指重量百分比。

本实用新型提供了一种新型全抛结晶釉仿古砖。半抛”是指局部抛光，施点釉顾名思义就是在釉面上甩成均匀分布的点状，而半抛就是将点釉的尖部稍稍抛掉一小部分，一个个小点点上层形成一个局部平面层，“全抛”是指将整个釉面平整抛去一层，形成镜面层，半抛和全抛示意图如图5所示。图2示出本实用新型一个示例的全抛结晶釉仿古砖抛光后的截面示意图，如图2所示，所述全抛结晶釉仿古砖包括：坯体11；覆于坯体11上的具有规定图案的面釉层12，该面釉层12上形成有图案层13(和/或图案层13位于下述结晶釉底釉层14和结晶釉保护釉层15之间)；包括结晶釉底釉层14和结晶釉保护釉层15的具有规定图案的结晶釉层；以及覆于面釉层12(或图案层13)上的具有与面釉层12同样的规定图案的全抛釉层16。结晶釉底釉层14填充于下面，而结晶釉保护釉层15填充于结晶釉底釉层 14之上。

坯体11的厚度可为10～11mm。其组成可为常规仿古砖坯体组成。

“具有规定图案的面釉层”是指面釉层具有预先设计的第一道图案。“具有规定图案的结晶釉层”是指该结晶釉层具有预先设计的第二道图案。而且该第一道图案与第二道图案相互配合。常规的仿古砖面釉层通常不需要预先设计图像均匀施于坯体整个表面以能够对坯体进行遮瑕、不会影响后续施加于面釉层的图案层色彩和图案的呈现即可。本实用新型提供的仿古砖面釉层需要根据结晶釉层图案预先经过设计，以便与结晶釉层的图案形成配合。该“第一道图案与第二道图案相互配合”指的是面釉和结晶釉的施釉位不同、并形成互补。理想的是在施点釉之前的面釉和结晶釉的釉面处于一个厚度。如果不考虑面釉层的图案将面釉也均匀施于坯体整个表面，再在面釉层上施加预定图案的结晶釉层，而后再釉加点釉，那么点釉层需要增加厚度这样后续抛光时才不会破坏结晶釉层的图案。点釉层过厚对图案层的图案色彩呈现会有影响，对整个砖坯效果也有影响。面釉层12的厚度可为0.6～1.1mm。

图案层13可以是通过喷墨打印技术打印在面釉层上的喷墨图案层。其可以渗透入面釉层中。在形成图案层13时可以避开结晶釉层的施釉位置，以使两者图案和花色不会互相影响。如果图案层13和结晶釉层的色彩图像即使形成叠加也不会有明显的影响，则在形成图案层13时也可以不用避开结晶釉层的施釉位置。图案层13的厚度可以尽可能薄，只要图案花色能够达到预定的效果即可。

本实用新型提供的结晶釉仿古砖利用结晶釉层呈现星状、网状、冰花状、花簇状等自然变幻的晶花效果。呈现晶花效果的主要在于结晶釉底釉层14。晶花形状例如为星状、网状、冰花状、花簇状等。该晶花还可以具有不同的颜色。一个示例中，结晶釉底釉层为硅酸锌-硅酸钛结晶釉。结晶釉底釉层14的厚度可为0.4～0.6mm。结晶釉保护釉层15用以促进结晶釉底釉层14的晶花的稳定性，并可保护结晶釉底釉层14，使其晶花不被破坏。结晶釉底釉和保护釉相接处形成晶花。结晶釉保护釉层15的厚度可为0.4～0.6mm。结晶釉底釉层14和结晶釉保护釉层15的总厚度与面釉层12、图案层13和全抛釉层16的总厚度可相等。

全抛釉层16覆于面釉层12上，具有与面釉层12的规定图案相同的图案。全抛釉层 16可使全抛结晶釉仿古砖具有优异的防污性和耐磨性。“全抛釉”是指是指在原普通仿古砖基础上开发的一种新型装饰材料，全抛釉是以平面形式均匀施在釉面上，经过全抛加工使得仿古砖美观大方，同时又能更好的保护图案和结晶釉层。全抛釉层16的厚度无特别限定，在不影响抛光以及成品砖图案、花色的呈现的情况下可以选择合适的厚度，例如为0.6～ 1.0mm。

本实用新型的全抛结晶釉仿古砖中，喷墨图案与结晶釉的晶花配合形成一种美轮美奂立体的3D效果。

以下，作为示例，说明本实用新型的结晶釉仿古砖的制造方法。图4示出本实用新型一个示例的全抛结晶釉仿古砖的生产工艺流程图。

首先，制备坯体。坯体的制备可以采用公知的工艺。在图4所示的示例中，经原料采集、破碎、铲车配料、湿法球磨、过筛除铁、喷雾制粉、陈腐、成型、干燥等步骤得到坯体。坯体原料可采用常规仿古砖所用原料。优选地，根据釉料特殊工艺的需要，为平衡好砖的变形度，在原有配方的基础上适量提高了氧化铝的含量，例如使氧化铝的含量从19～ 21wt％提高至20～23wt％，使坯体抵抗高温变形的能力增强。同时降低了坯体膨胀系数，拉近了坯体及釉料的膨胀系数差异性，提高了坯釉适应性，便于窑炉烧成砖形的控制。

一个示例中，坯体中主要使用的原料为庆钾砂、精选钠石粉、水磨石粉、力鸿钾砂、南峰低温砂、邦砂、球土、东基泥、黑滑石等多种泥砂料的复合。坯体配方可以为(重量份)：庆钾砂8～10wt％、精选钠石粉8～10wt％、水磨石粉9～10wt％、力鸿钾砂6～7 wt％、南峰低温砂6～8wt％、邦砂28～30wt％、球土18～20wt％、东基泥6～7wt％、黑滑石2 wt％。

坯体化学成分分析可为：SiO2 66.0～68.0wt％、Al2O3 20～23wt％、Fe2O3 0～1.2wt％、 TiO2 0～0.3wt％、CaO 0.1～0.5wt％、MgO 0.8～1.0wt％、K2O 2.0～3.5wt％、Na2O2.0～ 3.5wt％、烧失量0～5.0wt％。

一个示例中，坯体制作过程的工艺参数可以是：

制粉工艺：泥浆比重：1.69～1.71

球磨细度：0.8～1.0％(250目筛余)

颗粒级配：30目上：5～20％

30～60目：≥64％

60～80目：≤12％

80目下：≤6％

粉料水分：7.0～7.5％

成型工艺：压机机型：PH3000

成型压力：360bar

压制周期：5.4次/min(600×600mm规格)

干燥工艺：干燥温度：140℃

干燥时间：60min

干燥坯体水分：≤0.5％。

然后，在坯体上施面釉花釉以形成面釉层。

关于面釉的配方，为了能够适应坯料的烧成制度和提高坯釉的结合性，优选瓷质仿古砖专用高温哑光面釉，并可适量添加一些辅助原料，如煅烧高岭土可适当提高面釉的烧成温度。通过对比釉面效果、防污性能、砖的变形情况，优选面釉花釉基础配方(重量份)：面釉成釉(面釉粉)30～40wt％、印油60～70wt％。印油可以是本领域常用的用于制备花釉的印油。面釉成釉的化学成分分析可为SiO2 43～47wt％、Al2O3 16～17wt％、Fe2O3 0.1～ 0.2wt％、CaO 8.5～12wt％、MgO 2.3～3.8wt％、K2O 4.2～5.5wt％、Na2O 3～5wt％、BaO 5～7wt％、烧失量3.5～4.5wt％。一个示例中，面釉成釉为购自西班牙博耐德公司的W8100 成釉。关于面釉花釉的制备，可以是先将其粉料按配方经快速搅拌机和印油搅拌均匀。花釉面釉的流速可控制在80～120秒。花釉的流速测量步骤是将流速杯装满花釉，打开流速杯下面小孔，花釉从开始到流尽后的时间统计，将其记为花釉的流速依据进行判断。

施面釉花釉的方式可为丝网印刷。所用的丝网(第一丝网)具有第一道图案，以形成具有规定图案的面釉层。图3中的上图示出具有第一道图案的丝网的示意图。丝网可选择 80目3+2厚度。“3+2厚度”是指在丝网正面刮胶两次背面刮胶三次，此目的是为了增加印花釉料的厚度。印刷次数可为2～3次。由于砖坯为热砖坯，因此无需干燥，即可形成面釉层。

然后，在面釉层上打印图案以形成图案层。打印方式可为数字喷墨打印。关于图案层的设计，本实用新型中，可以将准备好的设计图案利用喷墨机打印在表面，与结晶釉的晶花配合形成一种美轮美奂立体的3D效果。常用的墨水颜色有粉红、红棕、桔黄、浅黄、青色、黑色等。具体颜色可根据需要形成的图案来选择。

再用第二道图案的丝网(第二丝网)在反空位上印刷结晶釉底釉，以形成结晶釉底釉层。丝网可选择80目3+2厚度。可印刷2～3层。“反空位”是指面釉层的图案所余留的空位。图3中的下图示出具有第二道图案的丝网的示意图。第二道图案与上述第一道图案为正反两套丝网图案。关于丝网图案设计，可来源于生活中图画，如大写的“福”、花纹、龙凤图案等等，将其制成要求用的丝网。

再用第二道图案的丝网(第二丝网)在结晶釉底釉层上印刷结晶釉保护釉。丝网可选择80目3+2厚度。可印刷2～3层。应注意与结晶釉底釉的图案对好位置，不要走位。

本实用新型一实施方式中，结晶釉可为低温快烧辊道窑形成硅酸锌-硅酸钛结晶釉。一个示例中，低温快烧是指烧成温度为1200～1210℃，例如1200℃，烧成周期为55～60分钟，例如55分钟。结晶釉所选原材料有钛白粉、氧化锌、石英粉、硅灰石、烧滑石、熔块等。本实用新型使用的结晶釉配方完全区别于艺术陶瓷的结晶釉配方，是适合在陶瓷企业批量生产的结晶釉底釉配方和结晶釉保护釉配方。

结晶釉底釉可以是包括结晶釉底釉粉和印油的花釉。花釉制成的配比如下：印油 60～70wt％，结晶釉底釉粉30～40wt％。一个示例中，结晶釉底釉粉配方如下：特殊熔块 30～40wt％、硅灰石3～8wt％、氧化锌5～8wt％、钛白粉25～30wt％、烧滑石3～8wt％、石英粉 10～20wt％。该配方适用于辊道窑中低温快烧。一个示例中，结晶釉底釉的化学成分分析为：SiO2 65～68wt％、Al2O3 18～21wt％、Fe2O3 0.1～0.2wt％、CaO 4.5～6wt％、MgO 0.1～ 0.2wt％、K2O 2～3wt％、Na2O 1～2wt％、BaO 3～4wt％、烧失量1～3wt％、TiO2 7～ 9wt％、ZnO 4～7wt％。

结晶釉保护釉可以是包括结晶釉保护釉粉和印油的花釉。花釉制成的配比如下：印油60～70wt％，结晶釉保护釉粉30～40wt％。一个示例中，结晶保护釉粉配方如下：特殊熔块50～60wt％、硅灰石3～8wt％、氧化锌8～12wt％、钛白粉20～25wt％、烧滑石3～8wt％。该配方适用于辊道窑中低温快烧。一个示例中，结晶保护釉的化学成分分析为：SiO252～ 54wt％、Al2O3 12～15wt％、Fe2O3 0.1～0.2wt％、TiO2 5～7wt％、CaO 3～5wt％、MgO 1～ 3wt％、K2O 1～3wt％、Na2O 3～5wt％、ZnO 6～8wt％、烧失量2～3wt％。

在结晶釉上面印刷保护釉既促进生产中晶花成形的稳定(利用底釉和保护釉接触面在烧成中发生化学反应产生晶花)，又可以在后期结晶釉仿古砖全抛中保护晶花不被破坏。结晶釉晶花主要在釉层中长成，所以后续的全抛对晶花没有影响，而结晶釉的底釉和保护釉均与普通全抛砖的面釉分开印刷到坯体上，互不影响。

然后，利用具有第一道图案的丝网在面釉层上施全抛釉。应注意与面釉层的对好位置，不要走位。可印刷2～3层。全抛釉的配方可为：按重量份计，全抛釉成釉30～40 wt％、水分60～70wt％。其中，全抛釉成釉的化学成分分析可为SiO2 55.2～57.5wt％、 Al2O311.5～12.8wt％、Fe2O3 0.1～0.2wt％、TiO2 0.1～0.2wt％、CaO 10～13wt％、MgO 2～ 4wt％、K2O 1～3wt％、Na2O 3～4wt％、烧失量4～5wt％。一个示例中，全抛釉成釉为购自博耐德公司的全抛釉釉粉P20020。

本实用新型一实施方式中，坯体膨胀系数为8.82～8.93*10^-6/K，面釉膨胀系数为 7.74～7.85*10^-6/K，结晶釉底釉膨胀系数为7.65～7.70*10^-6/K，结晶釉保护釉膨胀系数为 6.89～7.12*10^-6/K，全抛釉膨胀系数为7.0～7.2*10^-6/K。坯体及釉料的膨胀系数差异较小，提高了坯釉适应性，便于窑炉烧成砖形的控制。

施釉完成后，将所得的砖坯烧成。烧成工艺可以是：

烧成窑炉：辊道窑；

最高烧成温度：1200～1210℃；

烧成周期：55～60min。

最后对烧成后的全成品砖进行全抛工艺加工，得到全抛结晶釉仿古砖。优选采用手推式多功能全自动抛光打蜡机，将其抛光后并打蜡，抛光的厚度可以为0.1～0.2mm。

所得的全抛结晶釉仿古砖产品晶花多姿多彩，加以配合传统图案，更加美轮美奂，极大地提升了产品品质。经检测，本实用新型的全抛结晶釉仿古砖力学性能优异，其抗折强度≥37兆帕，耐磨度达到6级，是高档场所装饰的首选材料。

本实用新型可利用丝网印刷、喷墨机喷图案，最后还可选地再利用钟罩设备淋釉，制成全抛结晶釉仿古砖。其中花网印刷结晶釉底釉粉、结晶保护釉粉、面釉粉等可制成花釉，喷墨机喷选定的图案。本实用新型可以在1200℃的低温下经过55分钟的烧成成品。而且本实用新型可以在砖面任何位置选择性定点定片位置形成结晶晶花。即，可以按不同丝网图案设计改变砖面结晶釉的位置以达到需要的效果。

本实用新型将结晶釉应用到建筑陶瓷仿古砖中，采用新技术、新工艺通过改善结晶釉的配方体系，与以往仿古砖工艺相结合，研发出一种可以在辊道窑中低温快烧的独特装饰效果的仿古砖，对整个行业的技术进步和升级产生一定的影响。

下面进一步例举实施例以详细说明本实用新型。同样应理解，以下实施例只用于对本实用新型进行进一步说明，不能理解为对本实用新型保护范围的限制，本领域的技术人员根据本实用新型的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本实用新型的保护范围。下述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于下文示例的具体数值。

实施例1

1)制备坯体

坯体配方为：庆钾砂10wt％、精选钠石粉10wt％、水磨石粉9wt％、力鸿钾砂7wt％、南峰低温砂8wt％、邦砂30wt％、球土18wt％、东基泥6wt％、黑滑石2wt％。

2)在步骤1)制得坯体上利用选好的第一道图案的丝网(丝网选择80目3+2厚度) 印刷面釉花釉形成面釉层，印刷次数2次。面釉花釉配方是：按重量份计，W8100成釉 (西班牙博耐德公司)70wt％、印油(购自佛山市名墨釉料科技有限公司，型号：MJ-880) 30wt％。

3)然后通过数字喷墨打印技术把图案打印在步骤2)的釉层上。

4)再用第二道图案(丝网选择80目3+2厚度，第二道图案和第一道图案为丝网的正反不同图案)的丝网在步骤3)的反空位上印刷2～3层结晶釉底釉。结晶釉底釉配方如下：结晶釉底釉粉30wt％、印油70％。结晶釉底釉粉配方如下：熔块38wt％、硅灰石8wt％、氧化锌8wt％、钛白粉25wt％、烧滑石8wt％、石英粉13wt％。

5)再用第二道图案的丝网在步骤4)印刷2～3层结晶釉保护釉(与步骤4的图案对好位置，不要走位)。结晶釉保护釉配方如下：结晶釉保护釉粉30wt％、印油70％。结晶釉保护釉粉配方如下：熔块55wt％、硅灰石8wt％、氧化锌11wt％、钛白粉22wt％、烧滑石 4wt％。

6)再用第一道图案的丝网在面釉层上印刷2～3层全抛釉(与面釉层的图案对好位置，不要走位)。全抛釉的配方为：按重量份计，P20020(博耐德公司)成釉70wt％、水分 30wt％。

7)施釉完成后，入辊道窑烧成。烧成温度1200℃，烧成周期55分钟。

8)烧成后，抛光，抛光后厚度为0.15毫米。

制得的全抛结晶釉仿古砖晶花呈现黄色、一蔟一蔟如雪花状的晶花形状，具有立体悬浮感，加以配合传统图案，更加美轮美奂。经湘潭市仪表有限公司数显陶瓷抗折仪SKZ 检测，该全抛结晶釉仿古砖的抗折强度为37MPa，经佛山市华洋仪器有限公司HYK型抗磨仪检测，该全抛结晶釉仿古砖的耐磨度达到6级。