一种用于脱除HCL气体中氟离子设备的制作方法

本实用新型涉及化工设备技术领域，具体涉及一种用于脱除HCL气体中氟离子设备。

背景技术：

HCL原料中含有氟离子，当上游工艺发生异常时氟离子含量还会更高，掺杂太多的氟离子对下游的搪瓷反应釜有较强的腐蚀作用。

技术实现要素：

为解决上述问题，本实用新型提供了一种用于脱除HCL气体中氟离子设备。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种用于脱除HCL气体中氟离子设备，包括相互串联的一级脱氟组件和二级脱氟组件，其特征在于：所述一级脱氟组件包括一级脱氟塔和一级循环罐，所述一级脱氟塔一侧靠近底部设有第一进气口，顶部设有第一出气口，底部通过连通管连通一级循环罐，所述一级循环罐顶部设有第一进液口，底部设有第一出液口，所述第一出液口通过管路连接一级脱氟塔。

优选的，所述二级脱氟组件包括二级脱氟塔和二级循环罐，所述二级脱氟塔一侧靠近底部设有第二进气口，顶部设有第二出气口，底部通过连通管连通二级循环罐，所述二级循环罐顶部设有第二进液口，底部设有第二出液口，所述第二出液口通过管路连接二级脱氟塔，所述第二进气口与第一出气口连通。

优选的，所述管路上设有压力泵。

优选的，所述一级脱氟塔和二级脱氟塔结构完全相同，所述一级循环罐和二级循环罐结构完全相同。

本实用新型具有以下有益效果：

该用于脱除HCL气体中氟离子设备通过增加相互串联的一级脱氟组件和二级脱氟组件能够大大降低HCL气体中的氟离子含量，利于后道工序的进行。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种用于脱除HCL气体中氟离子设备的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的及优点更加清楚明白，以下结合实施例对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1所示，本实用新型实施例提供的一种用于脱除HCL气体中氟离子设备，包括相互串联的一级脱氟组件10和二级脱氟组件20，一级脱氟组件10包括一级脱氟塔11和一级循环罐13，一级脱氟塔11一侧靠近底部设有第一进气口112，顶部设有第一出气口111，底部通过连通管12连通一级循环罐13，一级循环罐13顶部设有第一进液口131，底部设有第一出液口132，第一出液口132通过管路14连接一级脱氟塔11。

二级脱氟组件20包括二级脱氟塔21和二级循环罐23，二级脱氟塔21一侧靠近底部设有第二进气口212，顶部设有第二出气口211，底部通过连通管12连通二级循环罐23，二级循环罐23顶部设有第二进液口231，底部设有第二出液口232，第二出液口232通过管路14连接二级脱氟塔21，第二进气口212与第一出气口111连通。

管路14上设有压力泵15。

一级脱氟塔11和二级脱氟塔21结构完全相同，一级循环罐13和二级循环罐23结构完全相同。

本实用新型工作原理：

HCL气体原料中含发离子（约50ppm），由第一出气口111进入一级脱氟塔11内部，在由第一进液口131通入42%左右的氯化钙溶液（接近饱和浓度）进入一级循环罐13内，通过管路14进入一级脱氟塔11内，优选的，由压力泵15将氯化钙溶液泵入一级循环罐13内，含氟离子的HCL气体与氯化钙溶液在一级脱氟塔11内充分接触，利用同离子效应原理可增加氟化钙沉淀的在氯化钙溶液中的形成，从而减少HCL气相中氟离子的含量，经过一级脱氟塔11反应后的气体由第二进气口212进入二级脱氟塔21进行二次脱氟，充分反应后由第二出气口211出气，从而能够大大降低HCL气体中的氟离子含量，利于后道工序的进行。

综上所述，本实用新型装置通过增加相互串联的一级脱氟组件10和二级脱氟组件20能够大大降低HCL气体中的氟离子含量，利于后道工序的进行。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。