一种晶化槽消音装置的制造方法
【技术领域】
[〇〇〇1] 本实用新型涉及晶化槽装置，尤其是一种晶化槽消音装置。
【背景技术】
[0002] 分子筛原粉在合成过程中需要经过反应液配制、成胶、低温老化、高温晶化等步骤合成最终分子筛原粉成品。晶化过程温度一般为90-100°C，加热过程是通过蒸汽加热实现的。在加热过程中，会产生较大噪音，产生噪音污染，影响车间环境。
[0003] 鉴于上述原因，现有晶化槽的结构需要改进。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种晶化槽消音装置，在晶化过程中产生的噪音，大部分可被消音装置吸收，从而起到降低晶化合成过程中产生的噪音分贝，改善车间生产环境。
[0005] 本实用新型为了实现上述目的，采用如下技术方案：一种晶化槽消音装置，是由：晶化槽、消音器、吸音孔构成；晶化槽的内壁上均匀分布至少两个消音器，所述消音器上均勾分布至少十个吸音孔。
[0006] 本实用新型的有益效果是：本实用新型在晶化槽内安装消音装置，在晶化过程中产生的噪音，大部分可被消音装置吸收，从而起到降低晶化合成过程中产生的噪音分贝，改善车间生产环境。本实用新型结构简单，操作方便，制造成本低，使用效果好，降低了生产成本，提高了生产效率，适合普遍推广应用。
【附图说明】
[0007] 下面结合附图对本实用新型作进一步说明：
[0008]图1是，总装结构示意图；
[0009]图1中：晶化槽1、消音器2、吸音孔3。
【具体实施方式】
[0010] 下面结合附图与【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细说明：
[0011] 如图所示，晶化槽1的内壁上均匀分布至少两个消音器2,所述消音器2上均匀分布至少十个吸音孔3。
【主权项】
1.一种晶化槽消音装置，是由：晶化槽（1)、消音器（2)、吸音孔（3)构成；其特征在于：晶化槽（1)的内壁上均匀分布至少两个消音器（2)，所述消音器（2)上均匀分布至少十个吸首孔（3) D
【专利摘要】一种晶化槽消音装置，是由：晶化槽、消音器、吸音孔构成；晶化槽的内壁上均匀分布至少两个消音器，所述消音器上均匀分布至少十个吸音孔；在晶化过程中产生的噪音，大部分可被消音装置吸收，从而起到降低晶化合成过程中产生的噪音分贝，改善车间生产环境。
【IPC分类】C01B37/00, C01B39/00
【公开号】CN205087930
【申请号】CN201520776465
【发明人】郑艳洁, 姬二昌
【申请人】洛阳建龙微纳新材料股份有限公司
【公开日】2016年3月16日
【申请日】2015年9月27日