专利名称：丙烯酸羟基苯酯单体和聚合物的制作方法
技术领域：
一方面，本发明涉及新的酚类丙烯酸酯单体的合成。另一方面，本发明涉及包含所述酚类丙烯酸酯单体的聚合物。光刻胶是用来将图像转移到基片上的光敏膜。在基片上形成光刻胶的涂层，然后透过光掩模，用活化辐射源使得所述光刻胶层曝光。所述光掩模具有对活化辐射不透明的区域，其它区域对活化辐射透明。用活化辐射曝光使得光刻胶涂层产生光诱导的化学变化， 从而将光掩模的图案转移到所述涂敷了光刻胶的基片上。曝光之后，对光刻胶进行显影，以形成允许对基片进行选择性处理的立体图像。人们对能够用短波长的辐射光成像的光刻胶很感兴趣，所述短波长辐射包括波长等于或小于270纳米、例如波长248纳米(KrF激光器提供)的曝光辐射。通过使用这种短曝光波长使得较小的特征可以形成。因此，使用能够在248纳米曝光条件下形成具有良好分辨率图像的光刻胶，可以形成极小的(例如小于0. 25微米)特征，该特征可以符合工业上一直存在的对更小尺寸的电路图案的要求，例如以获得更大的电路密度和提高的器件性能。尽管在产生高分辨率光刻胶立体图像的时候包括各种因素，但是抗蚀剂的树脂组分会具有很大的影响。人们已经进行了许多努力以制备新的抗蚀剂聚合物和单体。例如SPIE，第1466卷，《抗蚀剂技术和工艺的进展(Advances in Resist Technology and Processing))) (1991)。
发明内容
我们现在发现了新的合成酚类单体的方法，以及包含该单体的聚合物。更具体来说，在一个方面，提供了合成酚类丙烯酸酯化合物的方法，所述酚类丙烯酸酯化合物是例如具有下式I的化合物
权利要求
1.一种用来制备酚类丙烯酸酯化合物的方法，该方法包括(a)使得多羟基苯基化合物与酸酐反应，形成包含羟基和酯部分的环取代基的中间体苯基化合物；(b)使得所述中间体苯基化合物与丙烯酸酯化合物反应，形成酚类丙烯酸酯化合物。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，氢醌、邻苯二酚或间苯二酚与酸酐反应，所述中间体苯基化合物与甲基丙烯酸或丙烯酸反应。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述中间体苯基化合物是C6H4(0H)(酯)。
4.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括使得所述酚类丙烯酸酯化合物与一种或多种其它单体反应，形成聚合物。
全文摘要
本发明提供了酚类丙烯酸酯单体的新的合成，还提供了包含所述酚类丙烯酸酯单体的聚合物。本发明优选的聚合物可用作化学放大的正性作用抗蚀剂的树脂组分。
文档编号C07C67/08GK102320961SQ20111022187
公开日2012年1月18日 申请日期2008年3月11日 优先权日2007年3月12日
发明者A·本德里 申请人:罗门哈斯公司