专利名称：一种抛光膜及其制备方法
技术领域：
本发明涉及抛光膜，更具体地说，是一种混合型金刚石抛光膜。
许多高科技元器件的精密加工都离不开研磨抛光，其中利用抛光带或抛光片的加工方式趋于增加，如各种音像数据记录的磁盘、磁带、磁头、光纤联接器、光纤耦合器、光纤终止器、单晶硅片以及其他精密硬质器件；抛光膜不仅是研磨抛光，而且还可以清洁器件表面的异物，如半导体硅片的测试探针、集成块测试插座以及液晶显示板表面的清洁处理都用到抛光膜。
通常使用的抛光膜是以塑料薄膜为基带，用树脂胶配以溶剂和固化剂，并与研磨剂混合，然后涂布其上，经干燥制成，其中基带的主要材料有聚酯、聚氯乙烯、尼龙、聚乙烯、聚丙烯等塑料薄膜；树脂胶包括聚酯、聚氯乙烯、聚氨酯、硝化绵、聚丙烯酸酯、环氧树脂中的一种或者两种以上的混合物；研磨剂又称磨料，主要有百刚玉、碳化硅、氧化铬、氧化铁、氧化硅、氧化铈、金刚石等微粉。
由于金刚石具有最高的硬度，因此金刚石抛光膜具有最好的研磨效率和综合抛光性能，但是天然金刚石来源少，价格太贵而不能用于抛光膜的磨料，而人造金刚石相对价格较低，加工成金刚石抛光膜，在很多方面已有应用，但是，与白刚玉及碳化硅等磨料相比，价格仍然太高，导致研磨抛光成本高，从而使应用范围领域受到限制。
本发明的目的是克服已有技术的缺点，提出一种性能优良、加工成本较低的含金刚石的混合型抛光膜。
实现本发明目的的主要技术方案将金刚石研磨剂和常用的磨料以一定比例加到树脂胶中，充分混匀，制得涂料，然后将其均匀地涂布在包括塑料薄膜在内的基带上即得到混合型金刚石抛光膜。
本发明提供的抛光膜是由下述方法制备获得将粉状或粒状的树脂溶于有机溶剂中，制成含10-90％树脂的树脂胶，再将金刚石研磨剂和常用的磨料微粒以1-9∶9-1重量比的量加入到树脂胶中，充分混合制得涂料，最后将涂料均匀地涂布在厚度为50-500μm的基带表面，即得到混合型金刚石的抛光膜。
本发明提供的抛光膜的制备方法包括以下步骤(1)粉状或粒状树脂溶解于有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，(2)将研磨剂金刚石和常用磨料微粉以1-9∶9-1重量比的量加到步骤(1)制得的树脂胶中，用球磨机、沙磨机或超声波分散机充分混合分散，制成涂料，(3)将步骤(2)制得的涂料用辊筒式涂工机或喷涂机均匀地涂在薄膜表面，所述的涂层厚度为10-80μm。
本发明的方法中所用的基带包括聚酯薄膜、发泡聚氨酯薄膜、无纺布、纸。
本发明的方法中所用的研磨剂金刚石包括天然金刚石或人造金刚石，金刚石的粒度为0.05-200μm，与金刚石混合使用的常用的磨料包括百刚玉、碳化硅、氧化硅、氧化铬或氧化铈，它们的粒度为金刚石粒度的50-90％。
本发明的方法中所用的树脂包括聚氯乙烯类、聚氨酯类、环氧树脂在内的一种或两种以上混合物。
本发明的方法中所用的溶剂包括甲苯、二甲苯、甲乙酮、醋酸乙酯、甲异丁酮在内的一种或两种以上混合物。
本发明的方法所用的设备均是常用的已知设备。
本发明的优点和效果本发明所提供的是一种金刚石和包括碳化硅在内的常用磨料制得的混合抛光膜，由于粒度较大的金刚石微粉分散在粒度较小的常用磨料之中，不仅提高了树脂胶中的磨料填充度，增强了涂层的机械强度，而且仍然保持金刚石特有的研磨抛光效果，同时又大幅度降低金刚石抛光膜的制造成本，最终能降低使用金刚石抛光膜的加工成本，便于金刚石抛光膜的推广应用。
下面通过具体实例进一步说明本发明的特点。
实例1平均粒度6微米的金刚石微粉和平均粒度为3微米的碳化硅微粉以1∶1重量比混合，称取该混合物2kg，加入聚酯胶(胶的固体成分含量30％)7kg，再加入甲苯、甲乙酮、醋酸乙酯(1∶1∶1)的混合溶液0.8kg，利用球磨机把上述混合液分散24小时，然后把粘度调整至80CP，利用反向滚筒式涂工机，把上述涂料涂于75微米厚的聚酯薄膜上，在120℃下干燥2分钟后，形成10微米厚的涂层，即制成本发明的混合型金刚石抛光膜。该抛光膜总厚度为85μm，表面粗糙度Ra为1.4μm。
实例2平均粒度为10μm的金刚石微粉与平均粒度为8微米的氧化硅粉以2∶8的重量比混合，称取该混合物1kg加入聚酯胶(胶的固含量30％)4kg，再加入甲苯/甲乙酮/醋酸乙酯(1∶1∶1)的混合溶剂0.5kg，利用球磨机分散后以混合剂调整粘度至60cp，将上述涂料涂布于100μm的聚酯膜上，在85℃干燥10分钟形成20μm厚的涂层，即制成本发明的混合金刚石抛光膜。
实例3平均粒度为10μm的金刚石微粉与平均粒度为5微米的百刚玉以7.5∶2.5的重量比混合，采用实例2的混合和涂布方法，在100℃干燥5分钟，得到16μm厚的涂层的抛光膜。
实例4本实例是应用实例。
裁成直径127mm的圆片，利用日本精工技研制造的SFP-50研磨机，研磨光纤联接器，作为中间研磨的本发明抛光膜，用在去胶而且成球面的联接器，经60秒抛光，反射回光损耗可达-20至-30dB，符合一般的工艺性能要求。
权利要求
1.一种抛光膜，其特征在于该抛光膜由下述方法制备获得将粉状或粒状的树脂溶于有机溶剂中，制成含10-90％树脂的树脂胶，再将金刚石研磨剂和常用的磨料微粒以1-9∶9-1重量比的量加入到树脂胶中，充分混合制得涂料，最后将涂料均匀地涂布在厚度为50-500μm的基带表面，即得到混合型金刚石的抛光膜。
2.权利要求1所述的抛光膜的制备方法，包括以下步骤(1)粉状或粒状树脂溶解于有机溶剂中，制得含10-90％树脂的树脂胶，(2)将研磨剂金刚石和常用磨料微粉以1∶9至9-1重量比的量加到步骤(1)制得的树脂胶中，用球磨机、沙磨机或超声波分散机充分混合分散，制成涂料，(3)将步骤(2)制得的涂料用辊筒式涂工机或喷涂机均匀地涂在薄膜表面，所述的涂层厚度为10-80μm。
3.权利要求1所述的抛光膜的制备方法，其特征在于所述的金刚石研磨剂的粒度为0.05-200μm，所述的常用的磨料包括百刚玉、碳化硅、氧化硅、氧化铬或氧化铈，其粒度为金刚石粒度的50-90％。
4.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的树脂包括聚氯乙烯、聚氨醋、环氧树脂在内的一种或两种以上混合物。
5.按照权利要求1所述的方法，其特征在于所述的有机溶剂包括甲苯、二甲苯、甲乙酮、醋酸乙酯、甲异丁酮在内的一种或两种以上的混合物。
全文摘要
本发明是一种抛光膜,其特点在于是将粉状或粒状的树脂溶于有机溶剂中,制成树脂胶,再将金刚石和其它常用的磨料微粒与树脂胶混匀制成涂料,然后将涂料均匀地涂布在塑料薄膜基带表面,经干燥即得到混合型金刚石抛光膜。本发明由于将粒度较大的金刚石分散在粒度较小的其它常用磨料中,不仅提高树脂胶中的磨料填充度,增强涂层的机械强度,而且仍保持金刚石特有的研磨抛光效果,同时又大幅度降低金刚石抛光膜的制造成本。
文档编号C08J5/14GK1376726SQ01109908
公开日2002年10月30日 申请日期2001年3月22日 优先权日2001年3月22日
发明者王振国, 孙占华, 廖华瑞, 谭旭升 申请人:王振国