专利名称：位阻胺的制作方法
位阻胺本发明涉及特定位阻胺和含有位阻胺的有机材料，以及稳定有机材料以防由热、氧化或光引发的降解的方法。更详细地，本发明涉及一种式(A)化合物
权利要求
1.一种式⑷化合物 ~H3C CH3 - X--C-mN-〈 N-O-R^(A) O C4Hg-H /\
2.如权利要求I 的化合物，其中 X 为-(CH2) 2_、- (CH2) 8_、-CH2-S-CH2-或-(CH2) 2_S_ (CH2) 2_。
3.如权利要求I的化合物，其中R1为正丙基。
4.如权利要求I的化合物，其对应于 H3C CH3H3C CH3 R-H7C3-O-N V— N ―― C—(CH2)8—C 一 N-( N—O—C3H7-n )\ C4HrO οO C4He-n /\ H3C CH3 H3C CH3 9H3C CH3H3C CH3 y~~\ ^H7Cz-O-Hs)~'H—~G3IVn )\ CM^n OO C4H0-H /\ H3C CHs 4 §4 9 H3C CH3HaC CH3H3C CHa n-H7C3-。—N I— N-C— (CH2)厂 S—(CH2);~C—N—O-C3H7-Ii V-7 c H _n O0 C4H9-n ~7\ H3C CH3 4 8H3C CH3 H3C CH3h^Zch3 H5C2-0-N y~N-C—(CH2)8~~^—N-^ ^N-Q-C2H5 C.Ha-n OO C4H9-H 7\ H3C CH3H3C CH3 ·>H3C CH3CH3 H3C-O-N^HN-C-(CH2)8-C^N ·~0—CH3 或u _AT^ C4H8-D oO C4H9-O f\ H3C CH3H3C CH3 H3C CH3 Λ,CH3 H3C-O-N:〉~N-C—=(CHa)-JN-0-CHa ηγ C4H9-O Od C4He-O J7( H3C CH3H3C CH3O
5.一种组合物，其包含 a)有机材料，和 b)如权利要求I所定义的式(A)化合物。
6.如权利要求5的组合物，其中所述有机材料为聚烯烃均聚物或共聚物。
7.如权利要求5的组合物，其额外包含常规添加剂。
8.—种稳定有机材料以防由光、热或氧化引发的降解的方法,其包括将如权利要求I所定义的式(A)化合物掺入所述有机材料中。
9.如权利要求I所定义的式(A)化合物用于稳定有机材料以防由热、氧化或光引发的降解的用途。
全文摘要
将式(A)化合物用于稳定有机材料以防由光、热或氧化引发的降解，其中基团R1彼此独立为甲基、乙基或正丙基，且X为C2-C8亚烷基或间隔有硫的C2-C8亚烷基。
文档编号C08K5/3435GK102781917SQ201180011381
公开日2012年11月14日 申请日期2011年3月2日 优先权日2010年3月5日
发明者H-R·迈尔, K-U·舍宁, S·B·欣达勒卡尔 申请人:巴斯夫欧洲公司