稳定剂化合物的制作方法
技术特征：
1.具有式(I)或式(II)的稳定剂组合物(SC)：
其中RJ选自下组，该组由以下各项组成：-H、脂肪族基团和烷氧基，并且
其中每个RK，彼此相同或不同并且与RJ不同，选自脂肪族基团，并且
其中RL是选自下组的单价取代基，该组由以下各项组成：
-具有通式(Y-I)的基团：
以及
-具有通式(Y-II)的基团：
其中Ri和Rm彼此相同或不同并且独立地选自下组，该组由以下各项组成：–H、-CF3、-CN、-C(＝O)NH2、-NO2、烷基、全氟化基团、芳基、芳基胺基团、芳基醚基团、芳基砜基团、芳基硫醚基团、稠合芳环体系、磺酸、羧酸、膦酸、磺酸盐、羧酸盐、以及膦酸盐，并且
其中Ri处于邻位、间位或对位，并且
其中Rm处于邻位或间位，并且
其中Q选自下组，该组由以下各项组成：键、-O-、-CH2-、-C(CH3)2-、-NH-、-S-、-C(CF3)2-、-C(＝CCl2)-、以及-SO2-，并且
其中G是选自下组的基团，该组由以下各项组成：-C(＝O)NH2、-NO2、烷基、全氟化基团、芳基、芳基胺基团、芳基醚基团、芳基砜基团、芳基硫醚基团、稠合芳环体系、磺酸、羧酸、膦酸、磺酸盐、羧酸盐、以及膦酸盐，
其中RN是选自下组的二价取代基，该组由以下各项组成：
-具有通式(Z-I)的基团：
以及
-具有通式(Z-II)的基团：
其中Ri和Rm彼此相同或不同并且独立地选自下组，该组由以下各项组成：–H、-CF3、-C(＝O)NH2、-NO2、烷基、全氟化基团、芳基、芳基胺基团、芳基醚基团、芳基砜基团、芳基硫醚基团、稠合芳环体系、磺酸、羧酸、膦酸、磺酸盐、羧酸盐、以及膦酸盐，
其中Ri和Rm独立地处于邻位或间位，并且
其中Q选自下组，该组由以下各项组成：键、-O-、-CH2-、-C(CH3)2-、-NH-、-S-、-C(CF3)2-、-C(＝CCl2)-、以及-SO2-，并且
其中G*是选自下组的二价基团，该组由以下各项组成：烷基、全氟化基团、芳基、芳基胺基团、芳基醚基团、芳基砜基团、芳基硫醚基团、以及稠合芳环体系。
2.如权利要求1所述的具有式(I)的稳定剂化合物(SC)，其中这些稳定剂化合物选自下组，该组由以下各项组成：
以及
3.如权利要求1所述的具有式(II)的稳定剂化合物(SC)，其中这些稳定剂化合物选自下组，该组由以下各项组成：
以及
4.根据权利要求1所述的稳定剂化合物(SC)，其中Rm是-H。
5.根据权利要求1所述的稳定剂化合物(SC)，其中Q是-SO2-。
6.一种用于制造如权利要求1所述的具有式(I)的稳定剂化合物的方法，该方法包括使具有式(III)和(IV)的化合物在碱的存在下一起反应的步骤；
其中Xi是选自下组的卤素，该组由以下各项组成：氯、氟、溴、以及碘，并且
其中RJ、RK、RL是如权利要求1中对式(I)所定义的。
7.一种用于制造如权利要求1所述的具有式(II)的稳定剂化合物的方法，该方法包括使具有式(III)和(IV)的化合物在碱的存在下一起反应的步骤；
其中Xi或Xj是相同的或独立地选自下组的卤素，该组由以下各项组成：氯、氟、溴、以及碘，并且
其中RJ、RK、RN是如权利要求1中对式(II)所定义的。
8.如权利要求6或7所述的方法，其中该反应在极性非质子溶剂中进行。
9.如权利要求8所述的方法，其中该极性非质子溶剂是四氢呋喃，并且该反应在25℃与66℃之间的温度下进行。
10.如权利要求8所述的方法，其中该极性非质子溶剂是N-甲基吡咯烷酮，并且该反应在25℃与204℃之间的温度下进行。
11.一种聚合物组合物(P)，该聚合物组合物包含至少一种如权利要求1所述的稳定剂化合物(SC)和至少一种聚合物。
12.如权利要求11所述的聚合物组合物(P)，其中该聚合物选自下组，该组由以下各项组成：聚烯烃、聚酯、聚醚、聚酮、聚(醚酮)、聚(醚砜)、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚缩醛、聚四氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚丙烯腈、聚丁二烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯、苯乙烯丙烯腈、丙烯酸酯苯乙烯丙烯腈、纤维素乙酸丁酸酯、纤维素聚合物、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚苯硫醚、聚苯醚、聚氯乙稀、聚乙烯丁酸酯、聚碳酸酯、环氧树脂、聚硅氧烷、以及聚酮亚胺。
13.如权利要求11所述的聚合物组合物(P)，其中该聚合物组合物进一步包含至少另一种选自下组的成分，该组由以下各项组成：染料、颜料、填充剂、UV稳定剂、光稳定剂、光学增亮剂。
14.一种用于稳定聚合物的方法，该方法包括将至少一种如权利要求1所述的稳定化合物(SC)添加到至少一种聚合物中。
15.如权利要求13所述的方法，其中该至少一种稳定化合物(SC)充当用于该至少一种聚合物的酸清除剂。
16.一种包含如权利要求11-13所述的聚合物组合物(P)的制品。
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