形成双重固化纳米结构转印膜的方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明描述了一种形成转印膜的方法。所述转印膜包括具有第一主表面和相对的第二主表面的模板层。所述第二主表面包括结构化不平坦剥离表面。将回填层置于不平坦结构化表面上并适形于该不平坦结构化表面。所述回填层包含第一交联聚合物和多个多官能单体，它们经由不同且独立的固化机制进行固化。

技术研发人员：埃文·L·施瓦茨;克拉里·哈特曼-汤普森;成湜婧
受保护的技术使用者：3M创新有限公司
技术研发日：2016.03.21
技术公布日：2017.12.12