清洁剂组合物和薄衬底的制备的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明为清洁剂组合物和薄衬底的制备。基本上由(A)92.0wt％至小于99.9wt％的有机溶剂、(B)0.1wt％至小于8.0wt％的C3‑C6醇和(C)0.001‑3.0wt％的季铵盐组成的清洁剂组合物有效地用于除去硅半导体衬底上的任何有机硅粘合剂残留物。在短时间内并且以高的效率实现了令人满意的程度的清洁，而不导致对衬底的腐蚀。

技术研发人员：上野方也;柳泽秀好
受保护的技术使用者：信越化学工业株式会社
技术研发日：2017.04.26
技术公布日：2017.11.03