技术特征：
技术总结
本发明涉及有机半导体材料制备领域，为解决目前合成锡芴类化合物的方法中存在反应条件要求苛刻，反应操作困难，重现性较差等问题，本发明提出了一种锡芴类化合物的制备方法，在惰性气体保护下，向反应器中加入二卤烷烃，锡粉，催化剂、有机溶剂，100℃~160℃下反应12~15h，冷却至室温，萃取、收集有机相、干燥，得到粗产物，然后经处理可得到锡芴类化合物。本发明反应条件易实现，操作简单，纯化步骤，降低成本，而且合成锡芴类化合物可作为反应物继续反应成为链状或环状大分子化合物。
技术研发人员：张飞豹;高占臣;吕素芳;蒋剑雄
受保护的技术使用者：杭州师范大学
技术研发日：2018.08.06
技术公布日：2019.02.26