表面保护膜的制作方法

专利名称：表面保护膜的制作方法
技术领域：
本发明涉及表面保护膜。
背景技术：
以往，为了对光学器件、金属板、经过涂装后的金属板、树脂板、玻璃板等各种部件 的表面加以保护，广泛使用的是在膜状基体材料的一个面上叠层粘结剂层而形成的表面保 护膜(通常，也称其为保护带、掩蔽带或表面保护片等)。特别是，近年来，已在液晶显示器 用光学部件上使用了表面保护膜。光学部件包括诸如棱镜片、扩散膜等表面呈凹凸形状的 部件。为了不对该凹凸造成损伤，在使用之前要利用表面保护膜对这些部件的表面(特别 是凹凸的外表面)进行保护，但由于在上述凹凸形状的表面贴合表面保护膜时无法获得大 的接触面积，因此需要形成粘结力强的粘结剂层。但是，一般来说，工业上制造的表面保护膜通常呈卷绕体形式，通过将长条状的膜 卷成卷状而得到。对于这样的卷绕体形式的表面保护膜，已知要将卷绕体开卷需要较高的 力(展开力)，并且其展开力容易随时间而变大，即，迫切要求能够容易地对卷绕体进行开卷。此外，由于在使用之后要将表面保护膜剥离除去，因此要求表面保护膜具有顺畅 的剥离性，并且要求不会因表面保护膜的糊料残留而引起被粘附体污染等。另一方面，作为棱镜片、扩散膜等的原材料，大多采用丙烯酸类树脂及聚碳酸酯类 树脂等极性聚合物。这些光学片在贴合表面保护膜之后供应给光学器件制造商，在对其进 行运输、保存过程中等有时会暴露于高温中。其中，特别是对于被粘附体表面呈凹凸形状的情况，存在因时间及温度等外因而 导致被粘附体和粘结剂层之间的接触面积增加、进而引起粘结力上升的所谓粘结恶化(粘 着昂進)问题。一般而言，作为粘结剂，广泛使用的是丙烯酸类粘结剂，但丙烯酸类粘结剂的粘结 力随时间的上升程度特别大。基于此，特别是对于应用于光学片的表面保护膜而言，在构成表面保护膜的粘结 剂层中主要使用的是橡胶类粘结剂，而并非丙烯酸类粘结剂。由此，可避免粘结力随时间而 增大，从而谋求表面保护膜从光学片的透镜部(棱镜)表面顺利地剥离等。可是，由于橡胶类粘结剂通常为溶液涂布型，因此，不仅存在溶剂干燥时的环境污 染及能源浪费等问题，同时还必须要对常用的烯烃基体材料层的背面(与叠层有粘结剂层 的一侧相反一侧的表面)进行脱模处理。另外，如果是热熔型粘结剂，虽然能够使上述中的 前一问题得以消除或减小，但仍无法避免对背面的脱模处理。针对改善开卷性的问题，例如专利文献1中已提出了对由基体材料层和粘结剂 层叠层而成的叠层膜的基体材料层表面照射电子束或Y射线来制造表面保护膜的方法， 其中，所述基体材料层由在1个以上的分子内具有双键的聚有机硅氧烷和聚烯烃类树脂制 成。
另外，专利文献2中提出了通过下述方法得到的表面保护膜利用共挤出法将含 有聚烯烃类树脂的表层和含有热塑性弹性体的粘结剂层叠层成膜，然后，通过涂布法在表 层的背面形成脱模层。此外，专利文献3中提出了下述表面保护膜使用以苯乙烯类弹性体代替天然橡 胶作为主成分的粘结剂层，将该粘结剂层与烯烃基体材料层进行共挤出而形成的表面保护 膜，该表面保护膜的基体材料层的背面经过了摩擦处理，具有优异的开卷性。另一方面，针对抑制粘结恶化的问题，例如，在专利文献4中已进行了下述尝试 通过将导入有高级烷基的聚乙烯亚胺混合到基体材料层中，并使其渗出到粘结剂层表面， 以确保相对于被粘附体的初期粘结力，同时抑制粘结恶化。但是，对于贴合有表面保护膜的棱镜片而言，在安装到制品中之前，通常以数十片 为单位堆叠在一起进行保存。此时，在设置在上方的棱镜片的载荷作用下，可能对设置在下方的棱镜片的凹凸 的顶部造成破坏，进而导致光学品质劣化。可以认为，这是由下述原因引起的在载荷作用 下，上述凹凸的顶部会陷入到表面保护膜的粘结剂层中，甚至到达表面保护膜的基体材料， 而这已经超出了粘结剂层对于上述载荷的分散、缓和效果的极限。为了解决这一问题，考虑 了充分增加粘结剂层厚度的方法。但增加粘结剂层的厚度不仅在制造成本方面是不利的， 而且会导致透镜部(棱镜)向粘结剂层中的陷入深度增大，存在粘结力随时间的上升程度 增加的隐患。基于这一理由，提出了使用苯乙烯类弹性体代替天然橡胶用于表面保护膜的实 例。例如，专利文献5中公开了一种采用以苯乙烯类弹性体为主成分的厚10 μ m以上的粘 结剂层的表面保护膜。根据其中的记载，该表面保护膜可同时满足对被粘附体的充分的保 护功能和适当的粘结特性。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开平2-252783号公报专利文献2 日本特开2003-41216号公报专利文献3 日本特开平07-62311号公报专利文献4 日本特开平09-188857号公报专利文献5 日本特开2000-80336号公报

发明内容
发明要解决的问题但是，在上述现有技术中仍然存在下述问题。对于专利文献1或3的表面保护膜而言，仅通过背面处理无法充分降低展开力，卷 绕体的开卷性并不充分，可能导致操作性下降。通过专利文献2的脱模处理法，即使当基体材料的背面为粗糙面时，也能够确保 充分的导出性(繰出性)，但存在脱模剂转印至粘结剂层、对被粘附体的粘结性下降的隐患。就专利文献4中公开的表面保护膜而言，在极端高温的环境(例如，热带地域、亚热带地域)中保存时，渗出到表面的聚乙烯亚胺的量与在通常环境中保存的情况不同，恐 怕无法发挥出充分的粘结恶化抑制效果。此外，就专利文献5中公开的表面保护膜而言，从保护棱镜部的凹凸顶部形状的 观点出发，在苛刻的状态下，例如，特别是在将该表面保护膜贴合在棱镜片的棱镜面上，而 在与该棱镜面侧相反一侧的表面(即，表面保护膜的外侧表面)压上所谓鱼眼(fish eye) 等凸起物的情况下，仍存在进一步改善的余地。因此，本发明的目的在于提供一种表面保护膜，其能够使上述现有技术中存在的 缺陷得以消除，并能够确保适当的初期粘结力，同时具有优异的展开性，可防止从被粘附体 上剥离之后发生糊料残留。另外，本发明的另一目的在于提供一种棱镜片用表面保护膜，其能够确保适当的 初期粘结力，并且在极端高温(例如70°C )的环境中也可以使粘结恶化得以抑制。此外，本发明的另一目的在于提供一种表面保护膜，其在苛刻的状态下，例如， 特别是在将该表面保护膜贴合在棱镜片的棱镜面上，而在与该棱镜面侧相反一侧的表面 (即，表面保护膜的外侧表面)压上所谓鱼眼等凸起物的情况下，仍能够对棱镜部的凹凸顶 部形状加以保护。解决问题的方法本发明人等经过深入研究，结果发现通过将具有芳香族链烯基聚合物嵌段和芳 香族链烯基-共轭二烯共聚物嵌段的特定的多嵌段共聚物用于粘结剂层，能够确保适当的 初期粘结力，同时可获得展开性优异、且可防止从被粘附体剥离之后发生糊料残留的表面 保护膜。并经过进一步的研究而完成了本发明。本发明的粘结剂组合物含有聚合物⑴和聚合物(ii)，其中，聚合物(i)含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式[A-B]n (式 中，A代表聚合物嵌段A，B代表聚合物嵌段B，n代表整数1 3)所示结构的共聚物(I)或 其加氢产物，聚合物(ii)含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式A-B-A (式 中符号的含义同上)或通式(A-B) χ-Υ (式中，χ代表2以上的整数，Y代表偶联剂残基，其它 符号的含义同上)所示结构的共聚物(II)或其加氢产物，上述聚合物(i)及上述聚合物(ii)中的芳香族链烯基化合物单元的总含有率 (St (A+B))为 30 50 重量 ％，上述聚合物⑴中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重量比 (A B)、以及上述聚合物(ii)中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重 量比(A B)分别在5 95 25 75的范围内。其中，聚合物嵌段A 具有连续的芳香族链烯基化合物单元、且以芳香族链烯基化合物 单元为主体的聚合物嵌段，聚合物嵌段B 无规地含有共轭二烯单元和芳香族链烯基化合物单元，且芳香族 链烯基化合物单元的含有率(st (b))为10 35重量％的芳香族链烯基-共轭二烯共聚物 嵌段。本发明的表面保护膜具有基体材料层和由上述本发明的粘结剂组合物形成的粘结剂层。通过使用本发明的粘结剂组合物，能够使本发明的表面保护膜具有优异的展开 性，并可防止在从粘附体上剥离之后发生糊料残留。优选在上述表面保护膜中，上述基体材料层为聚烯烃基体材料层，上述粘结剂组 合物中还含有增粘剂，并且，在-50°C 80°C对上述粘结剂层的动态粘弹性进行测定时，所 得tan δ达到最大时的温度为-10°C 20°C。由此，能够使上述表面保护膜取得展开性和初期粘结力的更为理想的平衡。优选在上述表面保护膜中，上述基体材料层为聚烯烃基体材料层，上述粘结剂组 合物中还含有增粘剂及苯乙烯类嵌段补强剂，并且，相对于上述粘结剂层的重量，上述聚合 物(i)、上述聚合物(ii)及苯乙烯类嵌段补强剂中的芳香族链烯基化合物单元重量所占的 比例(芳香族链烯基化合物单元含有率)为20 50重量％。由此，能够更有效地抑制粘结力随时间的急剧上升(昂進)。优选在上述表面保护膜中，上述粘结剂层在70°C的储能模量G’为4. 5X 105Pa 6. OX105Pa。由此，能够更有效地抑制粘结力随时间的急剧上升。优选在将上述表面保护膜用于保护棱镜片的棱镜面表面的情况下，在将该表面保 护膜贴合在上述棱镜面上、并于70°C的气体氛围中负载0. 3N/cm2的载荷M小时时，上述棱 镜面的棱镜顶角向粘结剂中的陷入深度占粘结剂层厚度的以上且低于40%。由此，能够确保适当的粘结力，同时有效地抑制棱镜受到损伤。优选在将上述表面保护膜用于保护棱镜片的棱镜面的情况下，在将该表面保护膜 贴合在上述棱镜面上、并在与该棱镜面侧相反一侧的表面压上直径400 μ m、高12 μ m的凸 起物时，上述棱镜面的棱镜顶角向上述粘结剂层中的陷入深度占上述粘结剂层厚度的 以上且低于100%。由此，能够确保适当的粘结力，同时有效地抑制棱镜受到损伤。优选在将上述表面保护膜用于保护棱镜片的棱镜面的情况下，基体材料层的外侧 表面的表面粗糙度Ra为0. 7 2. 0 μ m、波纹度轮廓不平度的平均高度(波纹 ★一 7平均 高 )为3μπι以上、以及波纹度轮廓的平均间距(波纹 ★一 7平均長 )为350μπι以 上且600 μ m以下。由此，能够确保适当的粘结力，同时在苛刻的状态下，例如，特别是在将该表面保 护膜贴合在棱镜片的棱镜面上、且在与该棱镜面侧相反一侧的表面(即，表面保护膜的外 侧表面)压上所谓鱼眼等凸起物的情况下，仍能够对棱镜部的凹凸顶部形状加以保护。优选将上述表面保护膜用于保护扩散膜的表面。发明的效果本发明的表面保护膜具有优异的展开性，可防止从被粘附体上剥离之后发生糊料 残留。另外，本发明的实施方式之一的表面保护膜能够确保适当的初期粘结力，并且在 极端高温(例如70°C )的环境中也可以使粘结恶化得到抑制。此外，本发明的实施方式之一的表面保护膜在苛刻的状态下，例如，特别是在将该 表面保护膜贴合在棱镜片的棱镜面上、且在与该棱镜面侧相反一侧的表面(即，表面保护膜的外侧表面)压上所谓鱼眼等凸起物的情况下，仍能够对棱镜部的凹凸顶部形状加以保 护。


图1为模式图，示出了基体材料层的外侧表面的波纹。图2为棱镜片的立体图，该棱镜片使用了本发明的实施方式之一的表面保护膜。图3示出了本发明的实施方式之一的表面保护膜贴合在棱镜片上而得到的结构。符号说明1棱镜片2 片3透镜部(棱镜)3a透镜部的顶部(棱镜顶角)4第1表面保护膜5基体材料层6粘结剂层7第2表面保护膜
具体实施例方式<本说明书中的符号的定义>在没有特别记载的情况下，本说明书中使用的用于代表数值范围的符号“ ”，表 示该数值范围中包括其两个端值。在本说明书中，在技术用语“芳香族链烯基化合物单元的含有率”等中使用的所 述聚合物重复单元的“含有率”，表示将重复单元换算为其所来源的单体时的重量比，即，上 述重复单元所来源的单体的重量在用于形成上述聚合物的全部单体的总重量中所占的比 例(重量％ )，也就是聚合物中芳香族链烯基化合物的含量[alkenyl aromatic compound content]。其中，“用于形成上述聚合物的全部单体的总重量”近似为上述聚合物的重量。 另外，同样地，本发明中的所述聚合物嵌段重复单元的“含有率”，表示将重复单元换算为其 所来源的单体时的重量比，即，上述重复单元所来源的单体的重量在用于形成上述聚合物 嵌段的全部单体的总重量中所占的比例(重量％)。其中，“用于形成上述聚合物嵌段的全 部单体的总重量”近似为上述聚合物嵌段的重量。在本说明书中，所述“烯键的含有率”代表的是采用红外线吸收光谱法，通过红外 吸收光谱法(Morero' s method)算出的1，2_烯键及3，4-烯键的总含有率。<粘结剂组合物>本发明的粘结剂组合物中含有下述聚合物(i)及下述聚合物(ii)。在本说明书中，“聚合物(i) ”是包含下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具 有通式[A-B]n(式中，A代表聚合物嵌段A，B代表聚合物嵌段B，n代表整数1 幻所示结 构的共聚物(I)或其加氢产物。在本说明书中，“聚合物(ii)，，是包含下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并 具有通式A-B-A(式中的符号含义同上)或通式(A-B) χ-Υ(式中，χ代表2以上的整数，Y代表偶联剂残基，其它符号的含义同上)所示结构的共聚物(II)或其加氢产物。需要说明的是，在本说明书中，有时也将含有上述聚合物(i)和上述聚合物(ii) 的组合物简称为“共聚物组合物”。在本发明的粘结剂组合物中，上述聚合物(i)及上述聚合物(ii)中的芳香族链烯 基化合物单元的总含有率为30 50重量％，上述聚合物⑴中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重量比、 以及上述聚合物(ii)中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重量比分别 在5 95 25 75的范围内。在本说明书中，“聚合物嵌段A”是具有连续的芳香族链烯基化合物单元，且以芳香 族链烯基化合物单元为主体的聚合物嵌段。在本说明书中，“聚合物嵌段B”是无规地含有共轭二烯单元和芳香族链烯基化 合物单元、且芳香族链烯基化合物单元的含有率(St (b))为10 35重量％的芳香族链烯 基-共轭二烯共聚物嵌段。<聚合物嵌段A>如上所述，“聚合物嵌段A”是具有连续的芳香族链烯基化合物单元，且以芳香族链 烯基化合物单元为主体的聚合物嵌段。所述“芳香族链烯基化合物单元”是指来自于芳香族链烯基化合物的重复单元。作 为“芳香族链烯基化合物”，可列举例如苯乙烯、叔丁基苯乙烯、α -甲基苯乙烯、对甲基苯 乙烯、对乙基苯乙烯、二乙烯基苯、1，1-二苯基乙烯、乙烯基萘、乙烯基蒽、N，N-二乙基对氨 基乙基苯乙烯及乙烯基吡啶等。其中，从原料易于从工业上获取的观点出发，“芳香族链烯 基化合物单元”优选为苯乙烯单元。“聚合物嵌段Α”必须具有以芳香族链烯基化合物单元为主要重复单元的结构。具 体而言，聚合物嵌段A中的芳香族链烯基化合物单元含有率为80重量％以上。通过使芳香 族链烯基化合物单元含有率提高至80重量％以上，能够使粘结剂组合物的热塑性得以提 高，并且有更容易实现粘结剂组合物的再利用的优势。作为含量可以在低于20重量％的范 围内的除芳香族链烯基化合物单元以外的重复单元，可列举来自于能够与芳香族链烯基化 合物共聚的化合物的重复单元，例如来自于共轭二烯化合物或来自于(甲基)丙烯酸酯化 合物的重复单元。其中优选1，3-丁二烯、异戊二烯，因为它们与芳香族链烯基化合物具有 高共聚性。〈聚合物嵌段Β>如上所述，“聚合物嵌段B”是无规地含有共轭二烯单元和芳香族链烯基化合物 单元的芳香族链烯基-共轭二烯共聚物嵌段，其中，芳香族链烯基化合物单元的含有率 (St (b))为 10 35 重量 ％。构成“聚合物嵌段B”的所述“共轭二烯化合物单元”，是指来自于共轭二烯化合物 的重复单元。作为“共轭二烯化合物”，可列举例如1，3_丁二烯、异戊二烯、2，3_二甲基-1， 3- 丁二烯、1，3-戊二烯、2-甲基-1，3-辛二烯、1，3-己二烯、1，3-环己二烯、4，5- 二乙基-1， 3-辛二烯、3-丁基-1，3-辛二烯、香叶烯及氯丁二烯等。其中，基于聚合反应性高、原料易 于从工业上获取的理由，“共轭二烯化合物单元”优选为选自1，3_ 丁二烯单元及异戊二烯单 元中的至少1种重复单元。
“聚合物嵌段B”必须具有以共轭二烯化合物单元为主要重复单元的结构。为了发 挥本发明的效果，优选共轭二烯化合物单元含有率在65 90重量％的范围内。此外，为了获得本发明的效果，必须使“聚合物嵌段B”中的芳香族链烯基化合物单 元含有率(St (b))在10 35重量％的范围内，优选在13 33重量％的范围内，更优选在 16 30重量％的范围内。芳香族链烯基化合物单元含有率低于10重量％时，可能导致展 开性变差(重 < )、操作性不良。另一方面，芳香族链烯基化合物单元含有率超过35重量％ 时，可能导致粘结剂组合物的柔软性变差，无法确保充分的粘结力，而充分的粘结力对于表 面保护膜是重要的。需要说明的是，在不破坏本发明的效果的范围内，“聚合物嵌段B”中也可以含有除 共轭二烯化合物单元及芳香族链烯基化合物单元以外的其它重复单元。此外，为了获得本发明的效果，“聚合物嵌段B，，中的烯键含有率优选在50 90 % 的范围内，更优选在60 80%的范围内。另外，使烯键含有率在50%以上，有下述优点可 构成粘性(tuck)与粘结力具有优异平衡的粘结剂组合物。<共聚物⑴>“共聚物(I) ”是含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式[A-B] η (式中，A代表聚合物嵌段Α，B代表聚合物嵌段B，η代表整数1 幻所示结构的共聚物。由“η”代表整数1 3可知，作为“式[Α-Β]η所示结构”，可列举例如Α-Β、Α-Β-Α-Β 及A-B-A-B-A-B所表示的结构。在这些嵌段共聚物中，A和B各自的重复单元可以相同也 可以不同。为了切实地发挥出聚合物嵌段B的效果，在[Α-Β]η所示结构中，优选末端的聚合 物嵌段B在整个共聚物中占2重量％以上。需要说明的是，即使部分共聚物(I)的末端具 有-A的结构，只要是末端的聚合物嵌段A的含有率在整个共聚物⑴中所占比例低于2重 量％的情况下，也可以发挥出与末端为聚合物嵌段B的共聚物相同的效果。即，实质上可以 认为上述结构是末端为聚合物嵌段B的结构。η必须为整数1 3。通过使η在该范围内，可以获得良好的工业生产性。需要说 明的是，为了达到提高粘结力及材料强度的目的，η更优选为1 2，尤其优选为1。S卩，作为 “具有通式[Α-Β]η所示结构的共聚物”，尤其优选为具有通式A-B所示结构的嵌段共聚物。共聚物(I)或其加氢产物(聚合物(i))中芳香族链烯基化合物单元的含有率优 选在30 50重量的范围内，更优选在33 45重量％的范围内。通过使芳香族链烯基化合 物单元的含有率在该范围内，可构成兼具适当的保持力和对被粘附体表面凹凸的追随性、 且具有优异的展开性的粘结剂组合物。对于聚合物(i)的分子量没有特殊限制，优选其重均分子量为3万 50万，更优 选为8万 30万，特别优选为10万 20万。通过使重均分子量在3万 50万的范围内， 可实现聚合物(i)、以及包含聚合物(i)和共聚物(II)或其加氢产物(聚合物(ii))的共 聚物组合物容易进行工业生产。重均分子量低于3万时，在对聚合物进行脱溶剂、干燥的步 骤中，可能会引起聚合物在制造设备等上的附着，进而导致聚合物(i)的工业生产变得困 难。另一方面，重均分子量在50万以上时，会导致其热熔融性、在溶剂中的溶解性变差，从 而可能使对被粘附体的加工变得困难。为了获得优异的耐热性及耐候性，优选共聚物(I)的加氢产物为通过加氢而将不饱和键加氢为饱和键所得到的加氢产物，且其中来源于共轭二烯单体的双键为80%以上、 优选位90%以上、更优选为95%以上。需要说明的是，本说明书中的加氢的比率(加氢率)的含义如下使用四氯化碳作 为溶剂，由270MHz下的1H-NMR谱图计算出的加氢率。聚合物⑴可单独使用(1种)，也可以将2种以上组合使用。〈共聚物(II)>“共聚物(II)”是含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式 A-B-A(式中符号的含义同上)或通式(A-B) χ-Υ (式中，χ代表2以上的整数，Y代表偶联剂 残基，其它符号的含义同上。)所示结构的共聚物。由上述通式可知，共聚物(II)的全部分子末端具有聚合物嵌段A。优选末端的聚合物嵌段A在整个共聚物(II)中占2重量％以上。这是为了切实 地发挥出聚合物嵌段A的效果。需要说明的是，即使部分共聚物(II)的末端具有-B的结 构，只要是末端的聚合物嵌段B的含有率在整个共聚物(II)中所占比例低于2重量％，也 可以发挥出与末端为聚合物嵌段A的共聚物相同的效果。即，实质上可以认为上述结构是 末端为聚合物嵌段A的结构。换言之，具有通式(A-B)χ-Υ(式中，χ代表2以上的整数，Y代表偶联剂残基，其它 符号的含义同上)所示结构的共聚物具有通过Y将共聚物(I)偶联在一起而得到的结构。 因此，从工业的观点出发，由于当共聚物(II)为(A-B)x-Y的情况下，可利用相同的反应釜 来合成(I)、(II)的混合物，因此优选共聚物(II)为通式(A-B) χ-Υ所示结构。χ为3以上 时，该共聚物是所谓的星形聚合物。考虑到要在制造该共聚物时抑制副反应的发生、并对该 共聚物的物性加以控制，优选χ为2 4。此外，基于与聚合物(i)相同的理由，对于共聚物(II)或其加氢产物(聚合物 (ii))，也优选其芳香族链烯基化合物单元的含有率在30 50重量％的范围内，更优选为 33 45重量％。为了获得优异的耐热性及耐候性，优选聚合物(ii)为通过加氢而将不饱和键加 氢为饱和键所得到的加氢产物，且其中来源于共轭二烯单体的双键为80%以上、优选为 90%以上、更优选为95%以上。对于聚合物(ii)的分子量并无特殊限制，优选其重均分子量为5万 50万，更优 选为5万 30万。通过使重均分子量在5万 50万的范围内，可实现聚合物(ii)、以及包 含聚合物(i)和聚合物(ii)的共聚物组合物容易进行工业生产。重均分子量小于3万时， 在对聚合物进行脱溶剂、干燥的步骤中，可能会引起聚合物在制造设备等上的附着，进而导 致共聚物(II)或其加氢产物的工业生产变得困难。另一方面，重均分子量在50万以上时， 会导致其热熔融性、在溶剂中的溶解性变差，可能使对被粘附体的加工变得困难。聚合物(ii)可单独使用(1种)，也可以将2种以上组合使用。〈共聚物组合物〉如上所述，本发明的粘结剂组合物是含有包含聚合物⑴和聚合物(ii)的共聚物 组合物作为其构成成分的粘结剂组合物。在该共聚物组合物中，聚合物(i)和聚合物(ii) 的重量比必须在90 10 10 90的范围内。通过使聚合物(i)和聚合物(ii)的总量 100重量份中含有10重量份以上的聚合物(i)，可发挥出下述的理想效果能够有效防止粘结剂层从被粘附体表面脱离(浮t上力5 ” )、从而导致膜发生剥离的不良情况(浮起(浮 t ))。另一方面，通过使聚合物(i)和聚合物(ii)的总量100重量份中含有10重量份以 上的聚合物(ii)，可发挥出下述的理想效果在将膜从被粘附体表面剥离时，能够有效防 止因粘结剂残留在被粘附体表面而污染被粘附体表面的不良情况(糊料残留)。为了更切实地防止粘结剂层的浮起或糊料残留，优选使聚合物(i)与聚合物(ii) 的重量比在50 50 15 85的范围内。为了发挥出本发明的效果，必须使上述聚合物⑴和上述聚合物(ii)中所含的聚 合物嵌段A的总量与聚合物嵌段B的总量的重量比在5 95 25 75的范围内。另外， 通过使聚合物嵌段A和聚合物嵌段B的总量100重量份中含有5重量份以上的聚合物嵌段 A，可发挥出下述的理想效果能够为所形成的粘结剂层赋予适当的保持力。另一方面，通过 使聚合物嵌段A和聚合物嵌段B的总量100重量份中含有75重量份以上的聚合物嵌段B， 可发挥出下述的理想效果所形成的粘结剂层对于被粘附体表面的凹凸显示出良好的追随 性，从而能够切实地保护被粘附体表面。优选使聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总 量的重量比在5 95 25 75的范围内，更优选在7 93 23 77的范围内，尤其优 选在10 90 21 79的范围内。〈表面保护膜〉本发明的表面保护膜具有基体材料层和由上述说明的本发明的粘结剂组合物形 成的粘结剂层。优选上述粘结剂层叠层在上述基体材料层的一侧表面上。〈基体材料层〉作为上述基体材料层，优选为聚烯烃基体材料层。作为该“聚烯烃”，可列举例如低密度聚乙烯、中密度聚乙烯、高密度聚乙烯、线性 低密度聚乙烯、乙烯-α -烯烃共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚 物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸正丁酯共聚物、及聚丙烯(均聚物、无规共聚 物、嵌段共聚物)等。这些聚烯烃可单独使用，也可以将2种以上组合使用。此外，“聚烯烃”可以是具有 取代基的聚烯烃，还可以添加有聚烯烃以外的树脂。另外，可以添加有在表面保护膜的制造 过程中产生的聚烯烃基体材料层的端材或表面保护膜的端材。基体材料层可以是单层，也可以是具有组成不同的2种以上多层结构的层。可根据表面保护膜的用途等对基体材料层的厚度进行适当调整。通常优选设定为 10 100 μ m左右的厚度。就该基体材料层的外侧表面(S卩，与粘结剂层侧相反一侧的表面)而言，优选其表 面粗糙度Ra为0. 7 2. 0 μ m、波纹度轮廓不平度的平均高度为3 μ m以上、以及波纹度轮廓 的平均间距为350 μ m以上且600 μ m以下。由此，即使在将本实施方式的表面保护膜贴合在棱镜片的表面并进行叠层保存 时，也不易对棱镜片的透镜部(棱镜)造成损伤，因此适合将本实施方式的表面保护膜用于 保护棱镜片的棱镜面的用途。特别是，可以认为通过使该基体材料层的背面的表面粗糙度、波纹度轮廓不平 度的平均高度、及波纹度轮廓的平均间距在上述的特定范围内，即使在将多片贴合有表面保护膜的棱镜片进行叠层保存时，存在微小的混入异物，也能够使该微小的混入异物进入 到表面波纹的波谷处，因此，与表面平滑的情况相比，可降低集中在棱镜片的透镜部上的应 力。需要说明的是，本说明书中的所述“表面粗糙度Ra”是由JIS B0601 :2001规定的 “算术平均高度”。波纹度轮廓不平度的平均高度W是在示出了聚烯烃基体材料层表面的波 纹的模式图(图2、中的Wj的平均值，而波纹度轮廓的平均间距AW是Awj的平均值，它们 分别由下式求出。[数学式1]波纹度轮廓的平均间距AW
权利要求
1.一种粘结剂组合物，其含有聚合物(i)和聚合物(ii)，其中，聚合物(i)含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式[A-B]n所示结构 的共聚物(I)或其加氢产物，在通式[A_B]n中，A代表聚合物嵌段A，B代表聚合物嵌段B， η代表整数1 3，聚合物(ii)含有下述聚合物嵌段A及下述聚合物嵌段B，并具有通式A-B-A或通式 (A-B)x-Y所示结构的共聚物(II)或其加氢产物，在通式A-B-A中，符号A、B的含义同上， 在通式(A-B)x-Y中，χ代表1以上的整数，Y代表偶联剂残基，符号A、B的含义同上，上述聚合物⑴及上述聚合物(ii)中的芳香族链烯基化合物单元的总含有率 (St (A+B))为 30 50 重量 ％，上述聚合物(i)中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重量比 (A B)、以及上述聚合物(ii)中所含的聚合物嵌段A的总量和聚合物嵌段B的总量的重 量比(A B)分别在5 95 25 75的范围内， 其中，聚合物嵌段A 具有连续的芳香族链烯基化合物单元、且以芳香族链烯基化合物单元 为主体的聚合物嵌段，聚合物嵌段B 无规地含有共轭二烯单元和芳香族链烯基化合物单元，且芳香族链烯 基化合物单元的含有率(St(b))为10 35重量％的芳香族链烯基-共轭二烯共聚物嵌段。
2.一种表面保护膜，其具有基体材料层和由权利要求1所述的粘结剂组合物形成的粘 结剂层。
3.权利要求2所述的表面保护膜，其中， 所述基体材料层为聚烯烃基体材料层， 所述粘结剂组合物中还含有增粘剂，并且，在-50°C 80°C对所述粘结剂层的动态粘弹性进行测定时，所得tan δ达到最大 时的温度为-10°C 20°C。
4.权利要求2所述的表面保护膜，其中， 所述基体材料层为聚烯烃基体材料层，所述粘结剂组合物中还含有增粘剂及苯乙烯类嵌段补强剂，相对于所述粘结剂层的重量，所述聚合物(i)、所述聚合物(ii)及苯乙烯类嵌段补强 剂中的芳香族链烯基化合物单元重量所占的比例，即芳香族链烯基化合物单元含有率为20 50重量％。
5.权利要求2 4中任一项所述的表面保护膜，其中，所述粘结剂层在70°C的储能模 量 G，为 4. 5 X IO5Pa 6. 0 X IO5Pa0
6.权利要求5所述的表面保护膜，其用于保护棱镜片的棱镜面表面，其中，在所述棱镜面上贴合该表面保护膜、并于70°C的气体氛围中负载0. 3N/cm2的载荷M 小时时，所述棱镜面的棱镜顶角向粘结剂中的陷入深度占粘结剂层厚度的以上且低于 40%。
7.权利要求2 6中任一项所述的表面保护膜，其用于保护棱镜片的棱镜面，其中， 在所述棱镜面上贴合该表面保护膜、并在与该棱镜面侧相反一侧的表面压上直径.400 μ m、高12 μ m的凸起物时，所述棱镜面的棱镜顶角向所述粘结剂层中的陷入深度占所述粘结剂层厚度的以上且低于100%。
8.权利要求2 6中任一项所述的表面保护膜，其用于保护棱镜片的棱镜面，其中， 基体材料层的外侧表面的表面粗糙度Ra为0. 7 2. 0 μ m、波纹度轮廓不平度的平均高度为3 μ m以上、以及波纹度轮廓的平均间距为350 μ m以上且600 μ m以下。
9.权利要求2 5中任一项所述的表面保护膜，其用于保护扩散膜的表面。
全文摘要
本发明涉及一种粘结剂组合物，其含有聚合物(i)和聚合物(ii)，其中，聚合物(i)是具有通式[A-B]n(n＝1～3)所示结构的共聚物或其加氢产物，聚合物(ii)是具有通式A-B-A或通式(A-B)x-Y(x≥1，Y为偶联剂残基)所示结构的共聚物或其加氢产物，聚合物(i)、(ii)中的芳香族链烯基化合物单元的总含有率为30～50重量％，且聚合物(i)、(ii)中所含的A和B的总量的重量比分别在5∶95～25∶75的范围内。其中，上述A是以芳香族链烯基化合物单元为主体的聚合物嵌段，B是芳香族链烯基化合物单元的含有率为10～35重量％的芳香族链烯基-共轭二烯共聚物嵌段。
文档编号C09J125/10GK102149779SQ20098013543
公开日2011年8月10日 申请日期2009年9月11日 优先权日2008年9月11日
发明者中村丈夫, 丰岛克典, 佐野拓哉, 多田博士, 大久保明彦, 家田泰享, 川村真教, 野世溪元, 长尾功弘, 长谷川研二 申请人:捷时雅株式会社, 积水化学工业株式会社