技术总结
用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，其包括基于水的液体载剂、分散于该液体载剂中且具有至少6mV永久性正电荷的胶态二氧化硅研磨剂、在该液体载剂中呈溶液形式的胺化合物、以及含铁的促进剂。用于化学机械抛光包括钨层的基板的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，及研磨该基板以自该基板移除该钨的一部分并由此抛光该基板。
技术研发人员：S.格伦宾;J.戴萨德;富琳;W.沃德;G.怀特纳
受保护的技术使用者：嘉柏微电子材料股份公司
技术研发日：2015.03.09
技术公布日：2018.11.02