技术特征：
技术总结
本发明公开表面修饰的量子点及其制备方法、应用与QLED器件，所述方法包括如下步骤：制备一量子点溶液；制备一含离子的有机配体前驱物；将含离子的有机配体前驱物加入量子点溶液中对量子点进行表面修饰，制备得到表面修饰的量子点。本发明通过在量子点溶液中加入含有离子的有机配体前驱物，利用这些含有离子的有机配体前驱物与量子点表面的悬挂键结合，从而达到尽可能消除量子点表面暴露悬挂键的目的。本发明量子点表面暴露的悬挂键的减少，可以提升量子点自身的发光效率。
技术研发人员：杨一行;杨成玉;丘洁龙;聂志文
受保护的技术使用者：TCL集团股份有限公司
技术研发日：2017.07.11
技术公布日：2019.01.18